JPH04174857A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPH04174857A JPH04174857A JP30306990A JP30306990A JPH04174857A JP H04174857 A JPH04174857 A JP H04174857A JP 30306990 A JP30306990 A JP 30306990A JP 30306990 A JP30306990 A JP 30306990A JP H04174857 A JPH04174857 A JP H04174857A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- general formula
- transport layer
- carrier transport
- electrophotographic photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 16
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 5
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 49
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 21
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 9
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910002483 Cu Ka Inorganic materials 0.000 abstract 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 53
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- -1 and keylene Chemical compound 0.000 description 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N mellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- AFVDZBIIBXWASR-AATRIKPKSA-N (E)-1,3,5-hexatriene Chemical class C=C\C=C\C=C AFVDZBIIBXWASR-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=CC=C3C(=O)C2=C1 NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVMIKRZPDSXBTP-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromobutan-2-one Chemical compound CC(Br)C(=O)CBr XVMIKRZPDSXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,7-tetranitrofluoren-9-one Chemical compound O=C1C2=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C2C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C=C2[N+]([O-])=O JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGFOZLCWAHRUAJ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrofluoren-1-one Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C(=O)C3=CC2=C1 FGFOZLCWAHRUAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVCEPSDYHAHLX-UHFFFAOYSA-N 3-iminoisoindol-1-amine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=NC(=N)C2=C1 RZVCEPSDYHAHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITUYMTWJWYTELW-UHFFFAOYSA-N 4-chloroiminocyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical compound ClN=C1C=CC(=O)C=C1 ITUYMTWJWYTELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFZMKDROVBLNY-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O ROFZMKDROVBLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEXUTNIFSHFQRG-UHFFFAOYSA-N 6,7,12,13-tetrahydro-5h-indolo[2,3-a]pyrrolo[3,4-c]carbazol-5-one Chemical compound C12=C3C=CC=C[C]3NC2=C2NC3=CC=C[CH]C3=C2C2=C1C(=O)NC2 MEXUTNIFSHFQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWNRRUFOJXFKCU-UHFFFAOYSA-N Bromadiolone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC(Br)=CC=2)C=CC=1C(O)CC(C=1C(OC2=CC=CC=C2C=1O)=O)C1=CC=CC=C1 OWNRRUFOJXFKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 102100039497 Choline transporter-like protein 3 Human genes 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000889279 Homo sapiens Choline transporter-like protein 3 Proteins 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical group O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 229920007962 Styrene Methyl Methacrylate Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N Tetrabromophthalic anhydride Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Br QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 208000002352 blister Diseases 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- FQEMARONUOAYGT-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,5-dien-1-ol Chemical compound OC1=CCCC=C1 FQEMARONUOAYGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- NNYHMCFMPHPHOQ-UHFFFAOYSA-N mellitic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2=C1C(C(OC1=O)=O)=C1C1=C2C(=O)OC1=O NNYHMCFMPHPHOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVKIMZDUDFGOLC-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-2-(2-phenylethenyl)aniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CVKIMZDUDFGOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229960005265 selenium sulfide Drugs 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真感光体に関し、特にプリンタ、複写
機等に使用され、特にLED光及び半導体レーザ光に対
して有効な電子写真感光体に関するものである。
機等に使用され、特にLED光及び半導体レーザ光に対
して有効な電子写真感光体に関するものである。
従来、可視光に光感度を有する電子写真感光体は複写機
、プリンタ等に広く使用されている。
、プリンタ等に広く使用されている。
このような電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛
、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする
感光層を設けた無機感光体が広く使用されている。しか
しながら、このような無機感光体は複写機等の電子写真
感光体として要求される光感度、熱安定性、耐湿性、耐
久性等の特性において必ずしも満足できるものではない
。
、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする
感光層を設けた無機感光体が広く使用されている。しか
しながら、このような無機感光体は複写機等の電子写真
感光体として要求される光感度、熱安定性、耐湿性、耐
久性等の特性において必ずしも満足できるものではない
。
例えば、セレンは熱や手で触ったときの指紋の汚れ等に
より結晶化するため、電子写真感光体としての上記特性
が劣化し易い。
より結晶化するため、電子写真感光体としての上記特性
が劣化し易い。
又硫化カドミウムを用いた電子写真感光体は耐湿度性、
耐久性に劣り、又酸化亜鉛を用いt;電子写真感光体は
耐久性に問題がある。又、セレン、硫化カドミウムの電
子写真感光体は製造上、取扱い上の制約が大きい。
耐久性に劣り、又酸化亜鉛を用いt;電子写真感光体は
耐久性に問題がある。又、セレン、硫化カドミウムの電
子写真感光体は製造上、取扱い上の制約が大きい。
このような無機光導電性物質の問題点を改善するために
、種々の有機の光導電性物質を電子写真感光体の感光層
に使用することが試みられ、近年活発に研究、開発が行
われている。
、種々の有機の光導電性物質を電子写真感光体の感光層
に使用することが試みられ、近年活発に研究、開発が行
われている。
例えば、特公昭50−10496号には、ポリ−N−ビ
ニルカルバソールと2.4.7− トリニトロ−9−フ
ルオレノンを含有しt;感光層を有する有機感光体が記
載されている。しかし、この感光体も感度及び耐久性に
おいて十分でない。そのため、感光層を二層に分けてキ
ャリア発生層とキャリア輸送層を別々に構成し、それぞ
れにキャリア発生物質、キャリア輸送物質を含有させた
機能分離型の電子写真感光体が開発された。
ニルカルバソールと2.4.7− トリニトロ−9−フ
ルオレノンを含有しt;感光層を有する有機感光体が記
載されている。しかし、この感光体も感度及び耐久性に
おいて十分でない。そのため、感光層を二層に分けてキ
ャリア発生層とキャリア輸送層を別々に構成し、それぞ
れにキャリア発生物質、キャリア輸送物質を含有させた
機能分離型の電子写真感光体が開発された。
これは、キャリア発生機能とキャリア輸送機能を異なる
物質に個別に分担させることができるため、各機能を発
揮する物質を広い範囲のものから選択することができる
ので、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易
に得られる。そのため、感度が高く、耐久性の大きい有
機感光体が得られることが期待されている。
物質に個別に分担させることができるため、各機能を発
揮する物質を広い範囲のものから選択することができる
ので、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易
に得られる。そのため、感度が高く、耐久性の大きい有
機感光体が得られることが期待されている。
このような機能分離型の電子写真感光体のキャリア発生
層に有効なキャリア発生物質としては、従来数多くの物
質が提案されている。
層に有効なキャリア発生物質としては、従来数多くの物
質が提案されている。
無機物質を用いる例としては、例えば特公昭43−16
198号に記載されているように無定形セレンが挙げら
れる。この無定形セレンを含有するキャリア発生層は有
機キャリア輸送物質を含有するキャリア輸送層と組合さ
れて使用される。しかし、この無定形セレンからなるキ
ャリア発生層は、上記したように熱等により結晶化して
その特性が劣化するという問題点がある。
198号に記載されているように無定形セレンが挙げら
れる。この無定形セレンを含有するキャリア発生層は有
機キャリア輸送物質を含有するキャリア輸送層と組合さ
れて使用される。しかし、この無定形セレンからなるキ
ャリア発生層は、上記したように熱等により結晶化して
その特性が劣化するという問題点がある。
又、有機物質を上記のキャリア発生物質として半導体レ
ーザを用い画像形成する場合には、感光体として750
〜850μmに高感度であることが必要である。
ーザを用い画像形成する場合には、感光体として750
〜850μmに高感度であることが必要である。
これらのうちで、有機系光導電材料の一つである7タロ
シアニン系化合物は、他のものに比べ感光域が長波長に
拡っていることが知られている。
シアニン系化合物は、他のものに比べ感光域が長波長に
拡っていることが知られている。
これらの光導電性を示すフタロシアニン系化合物として
は例えば特開昭61−239248号、同64−170
66号及び特願昭63−286537号に記載されてい
るa型チタニルフタロシアニン等が挙げられる。
は例えば特開昭61−239248号、同64−170
66号及び特願昭63−286537号に記載されてい
るa型チタニルフタロシアニン等が挙げられる。
このα型チタニルフタロシアニンは、CuKr1.54
1A ノX線に対するブラッグ角度は、7.5″。
1A ノX線に対するブラッグ角度は、7.5″。
12.3°、 16.3’、 25.3@、 28.7
°にピークを有する。
°にピークを有する。
しかし、このltチタニルフタロシアニンは感度が低く
、繰返し使用に対する電位安定性が劣っており、反転現
像を用いる電子写真プロセスではがぶりを起こし易いな
どの問題がある。
、繰返し使用に対する電位安定性が劣っており、反転現
像を用いる電子写真プロセスではがぶりを起こし易いな
どの問題がある。
更に繰返し使用した場合、感光体表面の疵の発生、オゾ
ン等による画像ぼけにより細線再現性が低下し、ドツト
露光によるディジタル画像では、画質(階調性、解像力
)の低下が起る。
ン等による画像ぼけにより細線再現性が低下し、ドツト
露光によるディジタル画像では、画質(階調性、解像力
)の低下が起る。
特に400dpi以上のディジタル像露光において顕著
である。
である。
一方、感光体には付着トナーの除去や除電、表面の清浄
化が施され、長期に亘って反復使用される。
化が施され、長期に亘って反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性及び感度が
良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、加
えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物理
的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の紫
外線等への耐性(耐環境性)においても良好であること
が要求される。
良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、加
えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物理
的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光時の紫
外線等への耐性(耐環境性)においても良好であること
が要求される。
前記機能分離型の有機感光体は従来主として負帯電用と
して用いられ、特開昭60−247647号に記載され
るように支持体上に薄いキャリア発生層を設け、この上
に比較的厚いキャリア輸送層を設ける構成がとられてい
る。
して用いられ、特開昭60−247647号に記載され
るように支持体上に薄いキャリア発生層を設け、この上
に比較的厚いキャリア輸送層を設ける構成がとられてい
る。
このような感光体に使用されるバインダとしては、帯電
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールAをのポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールAをのポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。
しかし本発明者等か検討を加えた結果、上記ヒスフェノ
ールA型ポリカーボネートは、高分子の結晶性か高いた
めその溶液はゲル化を起しやすく、1〜2日程度で使用
不可能となるという欠点を有している。また塗布により
膜形成を行うと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカーボ
ネートか析出して凸部が生じやすく、このために塗膜の
尾引きか生じて収率が低下したり、或は感光体としての
使用時に凸部にトナーが付着してクリーニングされずに
残り、いわゆるクリーニング不良による画像欠陥が生じ
やすい。
ールA型ポリカーボネートは、高分子の結晶性か高いた
めその溶液はゲル化を起しやすく、1〜2日程度で使用
不可能となるという欠点を有している。また塗布により
膜形成を行うと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカーボ
ネートか析出して凸部が生じやすく、このために塗膜の
尾引きか生じて収率が低下したり、或は感光体としての
使用時に凸部にトナーが付着してクリーニングされずに
残り、いわゆるクリーニング不良による画像欠陥が生じ
やすい。
又、上記ビスフェノールA型ポリカーボネートをバイン
ダ樹脂として用いた電子写真感光体は、電子写真複写機
の感光体として用いると、磁気ブラシやクリーニングブ
レードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光層が
次第に摩耗すると(゛う欠点を有する。
ダ樹脂として用いた電子写真感光体は、電子写真複写機
の感光体として用いると、磁気ブラシやクリーニングブ
レードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光層が
次第に摩耗すると(゛う欠点を有する。
他方、高画質と順調な複写作業性は、感光体の均一な厚
みを有する滑らかで均質な表面性の良否にも依存するの
で、感光体塗布構成層面の構成層を形成する塗料組成或
は塗布、乾燥に起因する袖木肌、ピンホール、塗布筋、
亀裂(ソルベントクラック)等の膜面故障は、複写特性
上及び生産技術上大いに問題にされる所である。
みを有する滑らかで均質な表面性の良否にも依存するの
で、感光体塗布構成層面の構成層を形成する塗料組成或
は塗布、乾燥に起因する袖木肌、ピンホール、塗布筋、
亀裂(ソルベントクラック)等の膜面故障は、複写特性
上及び生産技術上大いに問題にされる所である。
又、表面性或は滑り性の改善には界面活性剤も有用であ
り、而も懸濁系の塗料に於ては懸濁質の分散及び分散安
定性向上に有効であり、溶液系塗料に於ても溶解促進な
どに、また塗布性の向上等生産技術上の価値を有する。
り、而も懸濁系の塗料に於ては懸濁質の分散及び分散安
定性向上に有効であり、溶液系塗料に於ても溶解促進な
どに、また塗布性の向上等生産技術上の価値を有する。
しかしながら、その種類の選択を誤ると、層間接着不良
、その変質による故障或は耐湿性に係る支障を往々にし
て惹起す。
、その変質による故障或は耐湿性に係る支障を往々にし
て惹起す。
前記したような支障に対して、フェニレン環間の炭素に
弗素を有する置換基の導入(特開昭63−65444号
)、フェニレン環へのアルキル基、ハロゲン原子の置換
(特開昭63−148263号)、或は両フェニレン環
に7エニル基を又はシクロヘキンル基ヲ置換した七ツマ
−の共重体(特開平1−269942号、同1−269
943号)等が提案されているが、未だ充分な表面強度
、表面平滑性がなく、化学的にはオゾン、物理的には摩
耗、傷に弱く、反復使用におし゛て画質の低下か起り、
また摩耗による膜厚減少基こよる感度低下等の問題点を
残している。
弗素を有する置換基の導入(特開昭63−65444号
)、フェニレン環へのアルキル基、ハロゲン原子の置換
(特開昭63−148263号)、或は両フェニレン環
に7エニル基を又はシクロヘキンル基ヲ置換した七ツマ
−の共重体(特開平1−269942号、同1−269
943号)等が提案されているが、未だ充分な表面強度
、表面平滑性がなく、化学的にはオゾン、物理的には摩
耗、傷に弱く、反復使用におし゛て画質の低下か起り、
また摩耗による膜厚減少基こよる感度低下等の問題点を
残している。
従って本発明の目的は、帯電性が良好で、高(゛感度を
有し、繰返し使用時の電位安定性か高く、かつ電子写真
感光体感光層の機械的耐久性、表面平滑性が良好であり
、耐オゾン性が良好で、画質低下、感度減退の少い感光
体の提供にある。
有し、繰返し使用時の電位安定性か高く、かつ電子写真
感光体感光層の機械的耐久性、表面平滑性が良好であり
、耐オゾン性が良好で、画質低下、感度減退の少い感光
体の提供にある。
前記本発明の目的は、導電性基体上に電荷発生層及び電
荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体において、
前記キャリア発生層がCu−にα特性X線(波長1.5
4人)に対するブラッグ角2θの主要ピークが少なくと
も9,6土0,2°及び27.2±0.2゜にあるチタ
ニルフタロシアニン顔料を含有し、かつ前記キャリア輸
送層が下記一般式(Bl)又は一般式(B1)及び(B
2)で表される構造単位を主要繰返し単位として有する
ポリカーボネートを含有することを特徴とする電子写真
感光体によつて達成される。
荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体において、
前記キャリア発生層がCu−にα特性X線(波長1.5
4人)に対するブラッグ角2θの主要ピークが少なくと
も9,6土0,2°及び27.2±0.2゜にあるチタ
ニルフタロシアニン顔料を含有し、かつ前記キャリア輸
送層が下記一般式(Bl)又は一般式(B1)及び(B
2)で表される構造単位を主要繰返し単位として有する
ポリカーボネートを含有することを特徴とする電子写真
感光体によつて達成される。
一般式(B1)
一般式(B2)
式中、R1,R!は水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基を表す。
基を表す。
Rs 、 R4Rs 、Rs及びR、、R、、R、、R
loは水素原子、メチル基、塩素原子、臭素原子である
。但し全てが水素原子であることはない。
loは水素原子、メチル基、塩素原子、臭素原子である
。但し全てが水素原子であることはない。
更に本発明の態様においては、前記チタニルフタロシア
ニンが、Cu4σ線(波長1.54人)に対するX線回
折スペクトルにおいて、少なくともブラ・ノブ角2θの
9.6±0.2°のピーク強度が27.2±0.26の
ピーク強度の40%以上である結晶状態のチタニルフタ
ロンアニンである二とか好ましい。
ニンが、Cu4σ線(波長1.54人)に対するX線回
折スペクトルにおいて、少なくともブラ・ノブ角2θの
9.6±0.2°のピーク強度が27.2±0.26の
ピーク強度の40%以上である結晶状態のチタニルフタ
ロンアニンである二とか好ましい。
更に本発明の感光体を用いる電子写真画像形成において
ドツト露光を行う場合には、重量平均粒径8μm以下の
トナー粒子を含む現像剤で現像処理を行うことが好まし
い。
ドツト露光を行う場合には、重量平均粒径8μm以下の
トナー粒子を含む現像剤で現像処理を行うことが好まし
い。
前記チタニルフタロンアニンにおけるピークとは、ノイ
ズと異なった明瞭な鋭角の突出部のことである。
ズと異なった明瞭な鋭角の突出部のことである。
本発明のチタニルフタロンアニンの基本構造は次の一般
式で表される。
式で表される。
一般式
但し、x ’、x ”、x ’、x ’は水素原子、ノ
10ゲン原子、アルキル基、或はアルコキ7基を表し、
n。
10ゲン原子、アルキル基、或はアルコキ7基を表し、
n。
m、 Q、 kはθ〜4の整数を表す。
上記のX線回折スペクトルは次の条件で測定したもので
ある。
ある。
X線管球 Cu
電 圧 40.OKV電 流
100 mAスタート角度 6
.00 deg。
100 mAスタート角度 6
.00 deg。
ストップ角度 35.OQ deg。
ステップ角度 0.020 deg。
測定時間 0.50 sec。
又、上記のX線回折スペクトルはr JDX−8200
J(日本電子社製)を用いて測定した。
J(日本電子社製)を用いて測定した。
本発明に係る前記チタニル7タロンアニンの製造方法を
次に説明する。例えば、l、3−ジイミノインインドリ
ンとスルホランを混合し、これにチタニウムテトラプロ
ポキシドを加え、窒素雰囲気下に反応させる。反応温度
は80°C〜300℃で、特に100°C〜260℃が
好ましい。反応終了後、放冷した後析出物を濾取し、チ
タニルフタロシアニンを得ることができる。
次に説明する。例えば、l、3−ジイミノインインドリ
ンとスルホランを混合し、これにチタニウムテトラプロ
ポキシドを加え、窒素雰囲気下に反応させる。反応温度
は80°C〜300℃で、特に100°C〜260℃が
好ましい。反応終了後、放冷した後析出物を濾取し、チ
タニルフタロシアニンを得ることができる。
次にこれを溶媒処理することによって、第1図及び第2
図の特性を示す結晶型のチタニルフタロシアニンを得る
ことかできる。
図の特性を示す結晶型のチタニルフタロシアニンを得る
ことかできる。
この処理に用いられる装置としては一般的な撹拌装置の
他に、ホモミキサー、ディスパーザ、アジター、或はボ
ールミル、サントミル、アトライタ等を用いることがで
きる。
他に、ホモミキサー、ディスパーザ、アジター、或はボ
ールミル、サントミル、アトライタ等を用いることがで
きる。
本発明では、上記のチタニルフタロンアニンの外に他の
キャリア発生物質(以後CGMと表す)を併用してもよ
い。そのようなCGMとしては、本発明のチタニルフタ
ロンアニンとは結晶型において異なる、例えばa型、β
型、σ、β混台型、アモルファス型等のチタニルフタロ
ンアニンをはじめ、他のフタロシアニン顔料、アゾ顔料
、アントラキノン顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料
、スクェアリウム顔料等が挙げられる。
キャリア発生物質(以後CGMと表す)を併用してもよ
い。そのようなCGMとしては、本発明のチタニルフタ
ロンアニンとは結晶型において異なる、例えばa型、β
型、σ、β混台型、アモルファス型等のチタニルフタロ
ンアニンをはじめ、他のフタロシアニン顔料、アゾ顔料
、アントラキノン顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料
、スクェアリウム顔料等が挙げられる。
本発明の感光体におけるキャリア輸送物質(以後CTM
と表す)としては、種々のものが使用できるが、代表的
なものとしては例えば、オキサゾール、オキサジアゾー
ル、チアゾール、チアジアゾ−ル、イミダゾール等に代
表される含窒素複素環核及びその縮合環核を有する化合
物、ポリアリールアルカン系の化合物、ピラゾリン系化
合物、ヒドラゾン系化合物、トリアリールアミン系化合
物、スチリル系化合物、スチリルトリフェニルアミン系
化合物、σ−7エニルスチリルトリフエニルアミン系化
合物、ブタシュン系化合物、ヘキサトリエン系化合物、
カルバゾール系化合物、縮合多環系化合物等が挙げられ
る。これらのCTMの具体例としては、例えば特開昭6
1−107356号に記載のCTMをはじめ、多くのも
のを上げることができるか、特に代表的なものの構造を
次に示す。
と表す)としては、種々のものが使用できるが、代表的
なものとしては例えば、オキサゾール、オキサジアゾー
ル、チアゾール、チアジアゾ−ル、イミダゾール等に代
表される含窒素複素環核及びその縮合環核を有する化合
物、ポリアリールアルカン系の化合物、ピラゾリン系化
合物、ヒドラゾン系化合物、トリアリールアミン系化合
物、スチリル系化合物、スチリルトリフェニルアミン系
化合物、σ−7エニルスチリルトリフエニルアミン系化
合物、ブタシュン系化合物、ヘキサトリエン系化合物、
カルバゾール系化合物、縮合多環系化合物等が挙げられ
る。これらのCTMの具体例としては、例えば特開昭6
1−107356号に記載のCTMをはじめ、多くのも
のを上げることができるか、特に代表的なものの構造を
次に示す。
(lO)
C2H。
次に本発明の電子写真感光体の前記キャリア輸送層(以
後CTLと表す)に含まれるバインダ樹脂、主要繰返し
単位として下記一般式(B1)からなる重合体、又は主
要繰返し単位として前記一般式(Bl)及び下記一般式
(B2)を構造組成に含む共重合体に6いて説明する。
後CTLと表す)に含まれるバインダ樹脂、主要繰返し
単位として下記一般式(B1)からなる重合体、又は主
要繰返し単位として前記一般式(Bl)及び下記一般式
(B2)を構造組成に含む共重合体に6いて説明する。
一般式(B1)
一般式(B2)
式中、R,、R,は水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基を表す。
基を表す。
Ri、R4Rs、Ra及びR、、R、、R、、R、。は
水素原子、メチル基、塩素原子、臭素原子である。但し
全てが水素原子であることはない。
水素原子、メチル基、塩素原子、臭素原子である。但し
全てが水素原子であることはない。
前記重合体又は共重合体の重合度はlO〜5000、好
ましくは50〜1000である。
ましくは50〜1000である。
本発明において、前記一般式(B1)を主要繰返し単位
とする重合体、又は主要繰返し単位として前記一般式(
B1)及び一般式(B2)を構造組成に含む共重合体を
バインダ樹脂として用いることにより皮膜物性に優れ、
電荷保持力、感度残留電位等の電子写真特性に優れ、か
つ繰返し使用に供した時にも疲労劣化が少ない安定した
特性を発揮する電子写真感光体を作成することができる
。
とする重合体、又は主要繰返し単位として前記一般式(
B1)及び一般式(B2)を構造組成に含む共重合体を
バインダ樹脂として用いることにより皮膜物性に優れ、
電荷保持力、感度残留電位等の電子写真特性に優れ、か
つ繰返し使用に供した時にも疲労劣化が少ない安定した
特性を発揮する電子写真感光体を作成することができる
。
更に必要に応じ目的とする作用効果に支障を来さぬ範囲
で他の七ツマ−を混合して用いることができる。この際
の混入比率は50wt/%以下が好ましい。
で他の七ツマ−を混合して用いることができる。この際
の混入比率は50wt/%以下が好ましい。
本発明のポリカーボネート樹脂は、下記(I)及び(I
I)から選ばれるフェノール系化合物を用いて常法に従
い容易に合成される。
I)から選ばれるフェノール系化合物を用いて常法に従
い容易に合成される。
式中、R、、R、は水素原子、炭素数1〜6のアルキル
基を表す。Rr、R−Rh、Rs及びRy、Ra。
基を表す。Rr、R−Rh、Rs及びRy、Ra。
Rs、R+。は水素原子、メチル基、塩素原子、臭素原
子である。但し全てが水素原子であることはない。
子である。但し全てが水素原子であることはない。
本発明のポリカーボネート樹脂を製造する方法は、具体
的には塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等の不活
性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に、酸受容体と
してアルカリ水溶液或はピリジン等を入れ、ホスゲンを
導入しながら反応させる方法が挙げられる。
的には塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等の不活
性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に、酸受容体と
してアルカリ水溶液或はピリジン等を入れ、ホスゲンを
導入しながら反応させる方法が挙げられる。
酸受容体としてアルカリ水溶液を使う時は、触媒として
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン
、或はテトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジルト
リブチルアンモニウムプロミド等の第4級アンモニウム
化合物を用いると、反応速度が増大する。
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン
、或はテトラブチルアンモニウムクロリド、ベンジルト
リブチルアンモニウムプロミド等の第4級アンモニウム
化合物を用いると、反応速度が増大する。
また必要に応じて分子量調節剤としてフェノール、p−
t−ブチルフェノール等1価のフェノールを共存させて
もよい。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマーを
作った後に入れて高分子量化する等任意の方法がとれる
。
t−ブチルフェノール等1価のフェノールを共存させて
もよい。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマーを
作った後に入れて高分子量化する等任意の方法がとれる
。
尚、本発明において2種以上のフェノール系化合物を用
いて共重合する方法としては、(イ) 2種以上のフェ
ノール系化合物を最初に同時にホスゲンと反応させて共
重合する方法(ロ)一方をまずホスゲンと反応させ、あ
る程度反応を行った後他方を入れて重合する方法(ハ)
別々にホスゲンと反応させて重合する方法等の任意の方
法かとれる。
いて共重合する方法としては、(イ) 2種以上のフェ
ノール系化合物を最初に同時にホスゲンと反応させて共
重合する方法(ロ)一方をまずホスゲンと反応させ、あ
る程度反応を行った後他方を入れて重合する方法(ハ)
別々にホスゲンと反応させて重合する方法等の任意の方
法かとれる。
次に一般式(Bl)、(Bりの示す構造の具体例を挙げ
る。
る。
一般式(B1)の示す構造ニ
一般式〔B2〕の示す構造:
前記両構造の共重合体として、例えば下記の組合せのコ
ポリマーが挙げられる。
ポリマーが挙げられる。
Bl・・・(B、−1)/ (B、−iB2・・・(B
、−2)/ C82−1)B3・・・(B、−3)/
(i−1)前記したバインダとして用いられるポリカー
ボネートもしくはカーボネートコポリマーに併用して用
いてもよいバインダとしては、例えば次のものを挙げる
ことができる。
、−2)/ C82−1)B3・・・(B、−3)/
(i−1)前記したバインダとして用いられるポリカー
ボネートもしくはカーボネートコポリマーに併用して用
いてもよいバインダとしては、例えば次のものを挙げる
ことができる。
(1) ポリエステル
(2) メタクリル樹脂
(3) アクリル樹脂
(4)ポリ塩化ビニル
(5)ポリ塩化ビニリデン
(6)ポリスチレン
(7) ポリビニルアセテート
(8) スチレン共重合樹脂(例えば、スチレン−ブタ
ヂエン共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合
体、等) (9)アクリロニトリル系共重合体樹脂(例えば、塩化
ビニリデン−アクリトロニトリル共重合体、等) (lO)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(11)塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体 (12) シリコーン樹脂 (13) シリコーン−アルキッド樹脂(14)
フェノール114N (例えば、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、等) (15) スチレン−アルキッド樹脂(16)ポリ−
N−ビニルカルバゾール(17)ポリビニルブチラール (18)ポリビニルホルマール (19) ポリヒドロキンスチレン これらのバインダは、単独で或は2種以上の混合物とし
て本発明に係るカーボネートに併用することができる。
ヂエン共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合
体、等) (9)アクリロニトリル系共重合体樹脂(例えば、塩化
ビニリデン−アクリトロニトリル共重合体、等) (lO)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(11)塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体 (12) シリコーン樹脂 (13) シリコーン−アルキッド樹脂(14)
フェノール114N (例えば、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、等) (15) スチレン−アルキッド樹脂(16)ポリ−
N−ビニルカルバゾール(17)ポリビニルブチラール (18)ポリビニルホルマール (19) ポリヒドロキンスチレン これらのバインダは、単独で或は2種以上の混合物とし
て本発明に係るカーボネートに併用することができる。
又、本発明では、前記のドツト露光後の現像において、
使用するトナーの粒径を重量平均粒径で8μm以下とし
ているので、ドツト数を600dp i以上と増やした
ことによるドツト面積の縮小に対応して、静電潜像上へ
のトナーの付着が良好に実現できる。即ち、トナーの粒
径が8μmを超えると、大きくなりすぎて小さな潜像上
にうまく付着せず、トナー付着量が減少して結果的に階
調性、解像力を十分に出せないことになるが、本発明の
粒径のトナーではそのようなことはない。
使用するトナーの粒径を重量平均粒径で8μm以下とし
ているので、ドツト数を600dp i以上と増やした
ことによるドツト面積の縮小に対応して、静電潜像上へ
のトナーの付着が良好に実現できる。即ち、トナーの粒
径が8μmを超えると、大きくなりすぎて小さな潜像上
にうまく付着せず、トナー付着量が減少して結果的に階
調性、解像力を十分に出せないことになるが、本発明の
粒径のトナーではそのようなことはない。
尚、上記において、ドツト露光時のドツト数は更に60
0〜1800dpiとするのが望ましく、又現像時に使
用するトナーの粒径は更に8〜2μmとするのか望まし
い。
0〜1800dpiとするのが望ましく、又現像時に使
用するトナーの粒径は更に8〜2μmとするのか望まし
い。
本発明に用いられる有機系顔料の分散媒としてハ、例文
はヘキサン、ベンセン、トルエン、キーレン等の炭化水
素類、メチレンクロライド、エチル〉ブロマイド、1.
2−;クロルエタン、 5yn−テトラクロルエタン、
cl S −1−2−ジクロルエチレン、1゜1.2−
)ジクロルエタン、1,1.i トリクロルエタ〉、
1.2−ジクロルプロパン、クロロホルム、ブロモホル
ム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、アセトン
、メチルエチルケトン、ンクロヘキサノン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、フロパノール、ブタノール、シクロヘキ
サノール、ヘプタツール、エチレングリコール、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のア
ルコール及ヒこの誘導体、テトラヒドロフラン、1.4
−ノオキサン、フラン、フルフラール等のエーテル、ア
セタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエチルアミン
、エチレンジアミン、インプロパツールアミン等のアミ
ン類、 N、N−ジメチルホルムアミド等のアミド類等
の窒素化合物他に脂肪酸及びフェノール類、二硫化炭素
や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等が挙げられる。
はヘキサン、ベンセン、トルエン、キーレン等の炭化水
素類、メチレンクロライド、エチル〉ブロマイド、1.
2−;クロルエタン、 5yn−テトラクロルエタン、
cl S −1−2−ジクロルエチレン、1゜1.2−
)ジクロルエタン、1,1.i トリクロルエタ〉、
1.2−ジクロルプロパン、クロロホルム、ブロモホル
ム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、アセトン
、メチルエチルケトン、ンクロヘキサノン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、フロパノール、ブタノール、シクロヘキ
サノール、ヘプタツール、エチレングリコール、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のア
ルコール及ヒこの誘導体、テトラヒドロフラン、1.4
−ノオキサン、フラン、フルフラール等のエーテル、ア
セタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエチルアミン
、エチレンジアミン、インプロパツールアミン等のアミ
ン類、 N、N−ジメチルホルムアミド等のアミド類等
の窒素化合物他に脂肪酸及びフェノール類、二硫化炭素
や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等が挙げられる。
本発明において感光層には感度の向上、残留電位〜反復
使用時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以上の
電子受容性物質を含有せしめることができる。
使用時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以上の
電子受容性物質を含有せしめることができる。
ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4
−ニトロ無水7タル際、無水ピロメリット酸、無水メリ
ット酸、テトランアノエチレン、テトラシアノキノジメ
タン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、
1,3.5−1−ジニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、
タロラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノバラベンゾ
キノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2
.7−ジニトロフルオレノン、2,4.7−)りニトロ
フルオレノン、2,4,5.7−テトラニトロフルオレ
ノン、9−フルオレニリデン[ジノアノメチレンマロノ
ジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−[
ジンアノメチレンマロノジニトリル]、 ピクリン酸
、0−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−
;ニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニト
ロサリチル酸、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸
、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙
げることができる。又、電子受容性物質の添加割合は、
重量比で本発明に用いられる有機系顔料:を子受容性物
質−100: 0.01〜200、好ましくは100
: 0.1〜100である。
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4
−ニトロ無水7タル際、無水ピロメリット酸、無水メリ
ット酸、テトランアノエチレン、テトラシアノキノジメ
タン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、
1,3.5−1−ジニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、
タロラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノバラベンゾ
キノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2
.7−ジニトロフルオレノン、2,4.7−)りニトロ
フルオレノン、2,4,5.7−テトラニトロフルオレ
ノン、9−フルオレニリデン[ジノアノメチレンマロノ
ジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−[
ジンアノメチレンマロノジニトリル]、 ピクリン酸
、0−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−
;ニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニト
ロサリチル酸、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸
、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙
げることができる。又、電子受容性物質の添加割合は、
重量比で本発明に用いられる有機系顔料:を子受容性物
質−100: 0.01〜200、好ましくは100
: 0.1〜100である。
かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比テ全C
TM:を子受容性物質= 100 + 0.01−10
0、好ましくは100 : 0.1〜50である。
TM:を子受容性物質= 100 + 0.01−10
0、好ましくは100 : 0.1〜50である。
又、本発明の感光層中にはCGMの電荷発生機能を改善
する目的で有機アミン類を添加することができ、特に2
級アミンを添加するのが好ましい。
する目的で有機アミン類を添加することができ、特に2
級アミンを添加するのが好ましい。
これらの化合物は特開昭59−218447号、同62
−111160号lこ記載されている。
−111160号lこ記載されている。
又本発明の感光体には、その他、必要により感光層を保
護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また感
色性補正の染料を含有してもよい。
護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また感
色性補正の染料を含有してもよい。
また本発明に係る保護層中には加工性及び物性の改良(
亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可
塑性樹脂を50vt%未満含有せしめることができる。
亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可
塑性樹脂を50vt%未満含有せしめることができる。
又、前記中間層は接着層又はブロッキング層等として機
能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例エハホリビ
ニルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン
、N−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられ
る。
能するもので、上記バインダ樹脂の外に、例エハホリビ
ニルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、カゼイン
、N−アルコキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられ
る。
本発明の電子写真感光体の構成に用いられる導電性支持
体としては、主として下記のものが用いられるが、これ
らにより限定されるものではない。
体としては、主として下記のものが用いられるが、これ
らにより限定されるものではない。
l)アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。
2)紙或はプラスチックフィルムなどの支持体上に、ア
ルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミネー
トもしくは蒸着によって設けにもの。
ルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミネー
トもしくは蒸着によって設けにもの。
3)紙或はプラスチックフィルムなどの支持体上に、導
電性ポリマ、酸化インジウム、酸化錫などの導電性化合
物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたもの。
電性ポリマ、酸化インジウム、酸化錫などの導電性化合
物の層を塗布もしくは蒸着によって設けたもの。
本発明の感光体は、第3図及び第4図に示すように導電
性支持体1上にCGMを主成分とするキャリア発生層(
以後CGLと表す)2とCTMを主成分として含有する
CTL 3との積層体より成る感光層4を設ける。第4
図に示すようにこの感光層4は、導電性支持体l上に設
けた中間層5を介して設けてもよい。このように感光層
4を二層構成としたときに最も優れた電子写真特性を有
する電子写真感光体が得られる。
性支持体1上にCGMを主成分とするキャリア発生層(
以後CGLと表す)2とCTMを主成分として含有する
CTL 3との積層体より成る感光層4を設ける。第4
図に示すようにこの感光層4は、導電性支持体l上に設
けた中間層5を介して設けてもよい。このように感光層
4を二層構成としたときに最も優れた電子写真特性を有
する電子写真感光体が得られる。
更に前記感光層4の上には必要に応じ保護層を設けても
よい。
よい。
又、二層構成の感光層4を構成するCGL 2は、導電
性支持体l上に直接或は必要に応じて接着層もしくはブ
ロッキング層などの中間層を設けた上に、次の方法によ
って形成することができる。
性支持体l上に直接或は必要に応じて接着層もしくはブ
ロッキング層などの中間層を設けた上に、次の方法によ
って形成することができる。
(1) 真空蒸着法
(2) CGMを適当な溶剤に溶解した溶液を塗布す
る方法 ゛ (3) CC:Mをボールミル、サンドグラインダ等
によって分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バイ
ンダと混合分散して得られる分散液を塗布する方法。
る方法 ゛ (3) CC:Mをボールミル、サンドグラインダ等
によって分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、バイ
ンダと混合分散して得られる分散液を塗布する方法。
即ち具体的には、真空蒸着、スパッタリング、CVD等
の気相堆積法或はディッピング、スプレィ、ブレード、
ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
の気相堆積法或はディッピング、スプレィ、ブレード、
ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
このようにして形成されるCにL 2の厚さは、0.0
1〜5μ麿であることが好しく、更に好しくは0.05
〜3μ■である。
1〜5μ麿であることが好しく、更に好しくは0.05
〜3μ■である。
又CTL 3の厚さは、必要に応じて変更し得るが通常
5〜30μ重であることが好ましい。このCTL3にお
ける組成割合は、CTMI重量部に対してバインダ0.
1〜5重量部とするのが好ましい。
5〜30μ重であることが好ましい。このCTL3にお
ける組成割合は、CTMI重量部に対してバインダ0.
1〜5重量部とするのが好ましい。
又CGLをバインダ中分散型のものとして構成する場合
には、CGM 1重量部に対してバインダを5重量部以
下の範囲で用いることが好ましい。
には、CGM 1重量部に対してバインダを5重量部以
下の範囲で用いることが好ましい。
以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明する。
まず、各種のチタニルフタロシアニン顔料の合成例を述
べる。
べる。
(合成例1)
1.3−ジイミノイソインドリン29.2gとスルホラ
ン200+i4を混合し、チタニウムテトライソプロポ
キシド17.0gを加え、窒素雰囲気下に140℃で2
時間反応させた。放冷した後析出物を濾取し、クロロホ
ルムで洗浄、2%の塩酸水溶液で洗浄、水洗、メタノー
ル洗浄して、乾燥の後25.5g (88,5%)のチ
タニルフタロシアニンを得た。
ン200+i4を混合し、チタニウムテトライソプロポ
キシド17.0gを加え、窒素雰囲気下に140℃で2
時間反応させた。放冷した後析出物を濾取し、クロロホ
ルムで洗浄、2%の塩酸水溶液で洗浄、水洗、メタノー
ル洗浄して、乾燥の後25.5g (88,5%)のチ
タニルフタロシアニンを得た。
生成物は20倍量の濃硫酸に溶解し、100倍量の水に
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキを1.
2−ジクロルエタンにて50℃で10時間加熱して第1
図(a)に示すX線回折スペクトルをもつ結晶型とした
。この結晶はブラッグ角2θの9.6°のピーク強度が
27.2’のそれの102%であった。
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキを1.
2−ジクロルエタンにて50℃で10時間加熱して第1
図(a)に示すX線回折スペクトルをもつ結晶型とした
。この結晶はブラッグ角2θの9.6°のピーク強度が
27.2’のそれの102%であった。
(合成例2)
1.3−ジイミノイソインドリン29.2gとスルホラ
ン200暢Qを混合し、チタニウムテトライソプロポキ
シド17.0gを加え、窒素雰囲気下に140℃で2時
間反応させた。放冷した後析出物を濾取し、クロロホル
ムで洗浄、2%の塩酸水溶液で洗浄、水洗、メタノール
洗浄して、乾燥の後25.5g (88,5%)のチタ
ニルフタロシアニンを得た。
ン200暢Qを混合し、チタニウムテトライソプロポキ
シド17.0gを加え、窒素雰囲気下に140℃で2時
間反応させた。放冷した後析出物を濾取し、クロロホル
ムで洗浄、2%の塩酸水溶液で洗浄、水洗、メタノール
洗浄して、乾燥の後25.5g (88,5%)のチタ
ニルフタロシアニンを得た。
生成物は20倍量の濃硫酸に溶解し、100倍量の水に
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキを1.
2−ジクロルエタンにて室温で1時間撹拌して第1図(
b)に示すX線回折スペクトルをもつ結晶型とした。こ
の結晶はブラッグ角2θの9.6°のピーク強度が27
.2°のそれの75%であった。
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキを1.
2−ジクロルエタンにて室温で1時間撹拌して第1図(
b)に示すX線回折スペクトルをもつ結晶型とした。こ
の結晶はブラッグ角2θの9.6°のピーク強度が27
.2°のそれの75%であった。
(合成例3)
フタロジニトリル25.6gとσ−クロルナフタレン1
50t12の混合物中に窒素気流下で6.5mQの四塩
化チタンを滴下し、200〜220℃の温度で5時間反
応させた。析出物を濾取し、a−クロルナフタレンで洗
浄した後、クロロホルムで洗浄し、続いてメタノールで
洗浄した。次いでアンモニア水中で還流して加水分解を
完結させた後、水洗、メタノール洗浄し乾燥の後チタニ
ルフタロシアニン21.8g(75,6%)を獲だ。
50t12の混合物中に窒素気流下で6.5mQの四塩
化チタンを滴下し、200〜220℃の温度で5時間反
応させた。析出物を濾取し、a−クロルナフタレンで洗
浄した後、クロロホルムで洗浄し、続いてメタノールで
洗浄した。次いでアンモニア水中で還流して加水分解を
完結させた後、水洗、メタノール洗浄し乾燥の後チタニ
ルフタロシアニン21.8g(75,6%)を獲だ。
生成物は10倍量の濃硫酸に溶解し、100@量の水に
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキ全1.
2−ジクロルエタンにて室温で1時間撹拌して得られた
結晶はブラッグ角2θの9.6°のピーク強度が27.
2°のそれの45%であった。
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキ全1.
2−ジクロルエタンにて室温で1時間撹拌して得られた
結晶はブラッグ角2θの9.6°のピーク強度が27.
2°のそれの45%であった。
(比較合成例1)
フタロジニトリル25.6gとσ−クロルナフタレン1
50+12の混合物中に窒素気流下で6.5m(lの四
塩化チタンを滴下し、200〜220°Cの温度で5時
間反応させた。析出物を濾取し、α−クロルナフタレン
で洗浄した後、クロロホルムで洗浄し、続いてメタノー
ルで洗浄した。次いでアンモニア水中で還流して加水分
解を完結させた後、水洗、メタノール洗浄し乾燥の後チ
タニルフタロシアニン21−8g(75,6%)を得た
。
50+12の混合物中に窒素気流下で6.5m(lの四
塩化チタンを滴下し、200〜220°Cの温度で5時
間反応させた。析出物を濾取し、α−クロルナフタレン
で洗浄した後、クロロホルムで洗浄し、続いてメタノー
ルで洗浄した。次いでアンモニア水中で還流して加水分
解を完結させた後、水洗、メタノール洗浄し乾燥の後チ
タニルフタロシアニン21−8g(75,6%)を得た
。
生成物は10倍量の濃硫酸に溶解し、100倍量の水に
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキを0−
ジクルベンゼンにて室温で1時間撹拌して得た結晶はX
線回折スペクトルにおけるブラッグ角2θの9.6″の
ピーク強度が27.2°のそれの35%であった。
あけて析出させて、濾取した後にウェットケーキを0−
ジクルベンゼンにて室温で1時間撹拌して得た結晶はX
線回折スペクトルにおけるブラッグ角2θの9.6″の
ピーク強度が27.2°のそれの35%であった。
(比較合成例2)
合成例1のウェットケーキを乾燥後、α−クロロす7タ
レンを用いて、加熱撹拌することによって、β型のチタ
ニルフタロシアニンを得た。
レンを用いて、加熱撹拌することによって、β型のチタ
ニルフタロシアニンを得た。
実施例1
共重合ポリアミド「ラッカマイト5003」(大日本イ
ンキ社製)3部(部は重量部を示す;以下同じ)をメタ
ノール100部に加熱溶解し、0.6μlフイルタで濾
過した後、浸漬塗布法によって、アルミニウムドラム上
に塗布し、膜厚0.5μ論の下引層を形成した。
ンキ社製)3部(部は重量部を示す;以下同じ)をメタ
ノール100部に加熱溶解し、0.6μlフイルタで濾
過した後、浸漬塗布法によって、アルミニウムドラム上
に塗布し、膜厚0.5μ論の下引層を形成した。
一方、合成例1において得られたX線回折パターンヲ有
スルチタニルフタロンアニン3部、バインダ樹脂として
シリコーン槙HJj rKR−5240,15%キシレ
ン/ブタノール溶液」(信越化学社製)固形分3部、分
散媒としてメチルイソブチルケトン100部をサンドミ
ルを用いて分散した液を、先の下引層の上に、浸漬塗布
法によって塗布して、膜厚0 、2gmのCGLを形成
した。次いで、CTL (1)の1部、例示樹脂rBi
−IJ1.5部、微量のシリコーンオイルrKF−54
J (信越化学社製)を、l、2−ジクロロエタン1o
ffiに溶解した液を用いて浸漬塗布し乾燥の後、膜厚
25μ−のCTLを形成した。このようにして得られた
感光体を試料】とする。
スルチタニルフタロンアニン3部、バインダ樹脂として
シリコーン槙HJj rKR−5240,15%キシレ
ン/ブタノール溶液」(信越化学社製)固形分3部、分
散媒としてメチルイソブチルケトン100部をサンドミ
ルを用いて分散した液を、先の下引層の上に、浸漬塗布
法によって塗布して、膜厚0 、2gmのCGLを形成
した。次いで、CTL (1)の1部、例示樹脂rBi
−IJ1.5部、微量のシリコーンオイルrKF−54
J (信越化学社製)を、l、2−ジクロロエタン1o
ffiに溶解した液を用いて浸漬塗布し乾燥の後、膜厚
25μ−のCTLを形成した。このようにして得られた
感光体を試料】とする。
実施例2〜5
CGMの種類並びにCGL及びCTLの樹脂の種類を表
−1に示すものとした他は実施例1と同様にして4種類
の感光体を得、これらを試料2〜5とする。
−1に示すものとした他は実施例1と同様にして4種類
の感光体を得、これらを試料2〜5とする。
比較例(1)、(2)、(3)
キャリア発生物質のmm並びにキャリア発生層及びキャ
リア輸送層の樹脂の種類を表−1に示すものとした他は
実施例1と同様にして3種類の感光体を得、これらを比
較試料(1)、(2)、(3)とする。
リア輸送層の樹脂の種類を表−1に示すものとした他は
実施例1と同様にして3種類の感光体を得、これらを比
較試料(1)、(2)、(3)とする。
使用した樹脂は次の通りである。
・シリコーン樹脂r KR−5240J (信越化学社
製)・ポリビニルブチラール[エスレッツクBM−SJ
(覆水化学社製) ・ポリカーボネート[パンライトL −1250J(音
大化成社製) (評価) 前記試料1〜6及び比較試料(1)、(2)をr U−
Bix 2025J (コニカ社製)(半導体レーザ光
源搭載)改造機に搭載し、5万回連続コピーを打った。
製)・ポリビニルブチラール[エスレッツクBM−SJ
(覆水化学社製) ・ポリカーボネート[パンライトL −1250J(音
大化成社製) (評価) 前記試料1〜6及び比較試料(1)、(2)をr U−
Bix 2025J (コニカ社製)(半導体レーザ光
源搭載)改造機に搭載し、5万回連続コピーを打った。
未露光部電位v8が−600[V]になるようにグリッ
ド電圧vc、を調節し、0.7■Wの照射時の露光部の
電位vLを測定し、更にコピー終了後の残留電位V、を
測定した。又、現像バイアス−560[V]で反転現像
を行い、初期と5万回連続コピー後の複写画像の階調性
、解像度の評価を下記の通りに行った。
ド電圧vc、を調節し、0.7■Wの照射時の露光部の
電位vLを測定し、更にコピー終了後の残留電位V、を
測定した。又、現像バイアス−560[V]で反転現像
を行い、初期と5万回連続コピー後の複写画像の階調性
、解像度の評価を下記の通りに行った。
画像評価機はU−Bix 2025 (コニカ社製)を
、反転現像で現像が行えて半導体レーザ光源を搭載し、
しかも300dpi、 400dpi、 600dpi
で感光体上へ書き込みが行える様に改造したものを用い
、次の評価を実施した。
、反転現像で現像が行えて半導体レーザ光源を搭載し、
しかも300dpi、 400dpi、 600dpi
で感光体上へ書き込みが行える様に改造したものを用い
、次の評価を実施した。
(a)階調性
画像濃度が網点の面積率でそれぞれ0.0.110.2
.0.3.0.4.0.5.0.6.0.7.1.0.
1.25のIO段階の濃度を判別できる様な画像モード
を有したプリントローラーを接続し、プリント画像が何
段階まで判別できるかを評価した。
.0.3.0.4.0.5.0.6.0.7.1.0.
1.25のIO段階の濃度を判別できる様な画像モード
を有したプリントローラーを接続し、プリント画像が何
段階まで判別できるかを評価した。
(b)解像度
プリント画像上にl■閣当たりの等間隔の縦線を2本、
3本、4本、5本、6本、7本、8本設け、縦線の判別
できるグレードを解像度として表示した。
3本、4本、5本、6本、7本、8本設け、縦線の判別
できるグレードを解像度として表示した。
く評価例1〉
評価機に300dpiの光学系を搭載させ、現像剤のト
ナーとして重量平均粒径が8μ腸のトナーを用いた。
ナーとして重量平均粒径が8μ腸のトナーを用いた。
結果を下記衣−2に示した。これによれば、露光ドツト
が300dp iの場合は、初期画像において階調性、
解像度共に本発明のチタニルフタロシアニンを用いても
未だ充分には効果の差が認められない。
が300dp iの場合は、初期画像において階調性、
解像度共に本発明のチタニルフタロシアニンを用いても
未だ充分には効果の差が認められない。
〈評価例2〉
評価機に400dp iの光学系を搭載させ、他は評価
例1と同様にした。結果を下記表−3に示したか、ドツ
ト露光が400dp iになると、初期画像においては
階調性、解像度がサンプル1〜5及び比較サンプル(1
)では300dpiの場合に比べて1ランクもアップす
るが、比較サンプル(2)〜(3)では300dp i
と同程度に止まる。
例1と同様にした。結果を下記表−3に示したか、ドツ
ト露光が400dp iになると、初期画像においては
階調性、解像度がサンプル1〜5及び比較サンプル(1
)では300dpiの場合に比べて1ランクもアップす
るが、比較サンプル(2)〜(3)では300dp i
と同程度に止まる。
更にサンプル1〜5では5万コピー終了後の画像におい
ても、階調性、解像度共に初期に比べ低下は見られなか
った。
ても、階調性、解像度共に初期に比べ低下は見られなか
った。
〈評価例3〉
評価機に600dp iの光学系を搭載し、他は評価例
1と同様にした。結果を下記表−4に示したが、露光ド
ツト数が600dpiにまで細くなると、サンプルl〜
5では5万コピー終了後においても階調性、解像度とも
従来公知の感光体に比べて飛躍的に良好となる結果が得
られた。
1と同様にした。結果を下記表−4に示したが、露光ド
ツト数が600dpiにまで細くなると、サンプルl〜
5では5万コピー終了後においても階調性、解像度とも
従来公知の感光体に比べて飛躍的に良好となる結果が得
られた。
本発明は、以上説明したように上記チタニルフタロシア
ニンを用いることにより特にLED光及び半導体レーザ
光に対して有効な電子感光体を得ることができる。
ニンを用いることにより特にLED光及び半導体レーザ
光に対して有効な電子感光体を得ることができる。
更に本発明の電子写真感光体は感度、帯電能、電位安定
性、機械的耐久性に優れるという特徴を有するものであ
る。
性、機械的耐久性に優れるという特徴を有するものであ
る。
特にくり返し使用時においても感光層表面平滑性が良好
であり、画質低下が少ないという特徴を有するものであ
る。
であり、画質低下が少ないという特徴を有するものであ
る。
第1図は感光体に用いるチタニルフタロシアニンのX線
回折スペクトル図、第2図はその分光吸収スペクトル図
、第3図、第4図は本発明の感光体の態様例の断面図で
ある。 1・・・導電性支持体 2・・・キャリア発生層3
・・・キャリア輸送層 4・・・感光層5・・・中間
層
回折スペクトル図、第2図はその分光吸収スペクトル図
、第3図、第4図は本発明の感光体の態様例の断面図で
ある。 1・・・導電性支持体 2・・・キャリア発生層3
・・・キャリア輸送層 4・・・感光層5・・・中間
層
Claims (3)
- (1)導電性支持体上に少なくともキャリア発生層及び
キャリア輸送層をこの順に積層してなる電子写真感光体
において、前記キャリア発生層がCu−Kα特性X線(
波長1.54Å)に対するブラッグ角2θの主要ピーク
が少なくとも9.6±0.2゜及び27.2±0.2゜
にあるチタニルフタロシアニン顔料を含有し、かつ前記
キャリア輸送層が下記一般式(B_1)又は一般式(B
_1)及び(B_2)で表される構造単位を主要繰返し
単位として有するポリカーボネートを含有することを特
徴とする電子写真感光体。 一般式(B_1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(B_2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2は水素原子、炭素数1〜6のア
ルキル基を表す。 R_3、R_4、R_5、R_6及びR_7、R_8、
R_9、R_1_0は水素原子、メチル基、塩素原子、
臭素原子である。但し全てが水素原子であることはない
。〕 - (2)前記チタニルフタロシアニンが、Cu−Kα線(
波長1.54Å)に対するX線回折スペクトルにおいて
、少なくともブラッグ角2θの9.6±0.2゜のピー
ク強度が27.2±0.2゜のピーク強度の40%以上
である結晶状態のチタニルフタロシアニンである請求項
1に記載の電子写真感光体。 - (3)電子写真画像形成においてドット露光を行い、重
量平均粒径8μm以下のトナー粒子を含む現像剤で現像
処理を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の電
子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30306990A JPH04174857A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30306990A JPH04174857A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04174857A true JPH04174857A (ja) | 1992-06-23 |
Family
ID=17916523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30306990A Pending JPH04174857A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04174857A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0801330A1 (en) * | 1996-04-10 | 1997-10-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP30306990A patent/JPH04174857A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0801330A1 (en) * | 1996-04-10 | 1997-10-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
US5804346A (en) * | 1996-04-10 | 1998-09-08 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2502404B2 (ja) | オキシチタニウムフタロシアニン,その製造方法,それを用いた電子写真感光体,該電子写真感光体を有する装置ユニットおよび電子写真装置 | |
KR101017442B1 (ko) | 폴리비닐아세탈 수지, 전자 사진 감광체, 공정 카트리지 및전자 사진 장치 | |
JP3097289B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2920323B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH07199488A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP4845713B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
JP2879369B2 (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を備えた電子写真装置並びにファクシミリ | |
JPH04174857A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP5025238B2 (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 | |
US5558964A (en) | Electrophotographic photosensitive member, and electrophotographic apparatus, device unit, and facsimile machine employing the same | |
JP2879370B2 (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を備えた電子写真装置並びにファクシミリ | |
JPH07104495A (ja) | 電子写真感光体及び該電子写真感光体を備えた電子写真装置 | |
JP2813813B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2000292946A (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JPH0675408A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2841242B2 (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を備えた電子写真装置並びにファクシミリ | |
JP2931070B2 (ja) | 新規な結晶形のオキシチタニウムフタロシアニンおよびそれを用いた電子写真感光体 | |
JP2509040B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0815877A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH04182655A (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を備えた電子写真装置並びにファクシミリ | |
JP3083112B2 (ja) | 電子写真感光体及び電子写真装置 | |
JPH04254862A (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を備えた電子写真装置並びにファクシミリ | |
JP2814017B2 (ja) | 電子写真感光体、該電子写真感光体を備えた電子写真装置並びにファクシミリ | |
JP2002296816A (ja) | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 | |
JPH05257310A (ja) | 電子写真感光体 |