JPH04174822A - アクティブマトリクス型液晶表示パネル - Google Patents

アクティブマトリクス型液晶表示パネル

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JPH04174822A
JPH04174822A JP2303552A JP30355290A JPH04174822A JP H04174822 A JPH04174822 A JP H04174822A JP 2303552 A JP2303552 A JP 2303552A JP 30355290 A JP30355290 A JP 30355290A JP H04174822 A JPH04174822 A JP H04174822A
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JP
Japan
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gate
liquid crystal
thin film
active matrix
crystal display
Prior art date
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JP2303552A
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English (en)
Inventor
Michiya Oura
大浦 道也
Kazuhiro Takahara
高原 和博
Takayuki Hoshiya
星屋 隆之
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 アクティブマトリクス型液晶表示パネルに関し、アクテ
ィブマトリクス基板の欠陥を無くして液晶表示装置の歩
留りを改善すると共に品質・信頼性を向上させることを
目的とし、 アクティブマトリクス基板と共通電極基板との  −間
に形成された液晶封入空間に液晶を封止してなるアクテ
ィブマトリクス型液晶表示パネルにおいて、前記アクテ
ィブマトリクス基板上に各画素電極に接続される複数の
薄膜トランジスタを設け、該薄膜トランジスタのゲート
電極とスキャン信号電極の間にそれぞれコンデンサを介
挿させてアクティブマトリクス型液晶表示パネルを構成
する。
〔産業上の利用分野〕
本発明はアクティブマトリクス型液晶表示パネルの構成
、とくに、薄膜トランジスタを含む画素構成の無欠陥化
のための改良に関する。
近年、液晶表示装置の改良普及にともない人容量化とカ
ラー化への要請が強くなってきた。とくに、薄膜トラン
ジスタをスイッチング素子として使用するアクティブマ
トリクス型液晶表示装置はその性能品質が優れ巾広いニ
ーズが期待されており、今後ますます歩留りの向上2品
質安定性および長期信頼性の改善が強く求められている
〔従来の技術〕
第3図はアクティブマトリクス型液晶表示ノくネルの外
観を示す斜視図である。図中、1はアクティブマトリク
ス基板で透明基板11の上に薄膜トランジスタ素子アレ
イが形成され、各素子には表示画素に対応して透明な画
素電極が配設されている。
40および50は各薄膜トランジスタ素子のゲートおよ
びドルインが結合されたスキャン信号電極およびデータ
信号電極であり、その上には配向膜12が設けられてい
る。一方、2は共通電極基板で透明基板20の上に透明
なベタ電極21と配向膜22か積層形成されている。両
基板は配向膜面を中にして狭い空間が形成されるように
図示してないスペーサを挟み基板の周縁部を同じく図示
してなり)シール材で密閉接着し、その空間に液晶3を
注入封止してアクティブマトリクス型液晶表示ノくネル
カ入構成されている。なお、本図は白黒表示用の場合で
あるが、これにカラーフィルタを付加すればカラー液晶
表示パネルが構成される。
第4図は薄膜トランジスタの構成例を示す図て前記第3
図で説明したアクティブマトリクス基板1の薄膜トラン
ジスタ素子群の一部を概念的(=拡大して示したもので
ある。
図中、10は薄膜トランジスタで、スキャン信号電極4
0から張り出したゲート14.たとえば、T1などの金
属薄膜配線と図示してないゲート絶縁膜の上に動作半導
体層15.たとえば、アモルファスシリコン膜(a−S
i膜)が形成され、その両側からデータ信号電極50に
接続されるドルインと、たとえば、ITO(In20*
−3n9z)からなる透明な画素電極19に接続される
ソースが配設されて薄膜トランジスタが構成されている
。その動作メカニズムは公知であるので説明は省略する
第5図は従来の画素構成の例を示す図(その1)で、前
記第4図に示した画素構成のうちの1画素について回路
図的に表した概念図である。図中、13はドレイン、1
6はソースである。
なお、前記の諸図面で説明したものと同等の部分につい
ては同一符号を付し、かつ、同等部分についての説明は
省略する。
すなわち、画素を構成する透明な画素電極19の1つづ
\に1つの薄膜トランジスタ10が接続されて、スキャ
ン信号電極40.すなわち、ゲートパスラインに走査信
号が加わると薄膜トランジスタIOかスイッチ・オンさ
れて、たとえば、その部分の液晶セルが光遮断の状態に
なって暗となり、その逆の場合には明となる。同様に画
面全体の画素を制御すれば所要の画像表示が行われる。
第6図は従来の画素構成の例を示す図(その2)で、こ
の場合は1つの画素電極19に2つの薄膜トランジスタ
10aと10bとを接続した例である。
すなわち、冗長構成を採用した例で、たとえば、一方の
薄膜トランジスタがオーブン不良になった場合にも、も
う一方の薄膜トランジスタによって書き込みが行われる
ので画素欠陥か発生せず正常な表示動作が継続でき、第
5図の薄膜トランジスタ1つの構成の場合に比較して大
巾に歩留りが向上し実用装置に広く使用されるようにな
っている。
〔発明が解決しようとした課題〕
しかし、上記従来の冗長構成のアクティブマトリクス型
液晶表示パネルでは、一方の薄膜トランジスタ10のオ
ーブン不良に対しては大きな効果を発揮するが、薄膜ト
ランジスタ10のショート不良に対しては必ずしも有効
とは言えない。たとえば、一方の薄膜トランジスタのゲ
ートとソース間がショートした場合には、画素電極19
の電位がゲート電位と常時等しくなり画素欠陥となって
しまう。
これを修復するには不良トランジスタの位置を同定しレ
ーザでその不良トランジスタを切り離さなければならな
い。また、一方の薄膜トランジスタのゲートとドレイン
間がショートシた場合には、そのゲートパスラインおよ
びドレインバスラインに沿う線欠陥が生じてしまう。こ
れを修復するには、同様に、不良トランジスタの位置を
同定しレーザでその不良トランジスタを切り離さなけれ
ばならず、いずれも大変に作業時間を必要としたばかり
でなく困難な作業であるという問題か生じており、その
解決が求められていた。
〔課題を解決するための手段〕
上記の課題は、アクティブマトリクス基板1と共通電極
基板2との間に形成された液晶封入空間に液晶を封止し
てなるアクティブマトリクス型液晶表示パネルにおいて
、前記アクティブマトリクス基板1上に各画素電極19
に接続される複数の薄膜トランジスタ10を設け、該薄
膜トランジスタ10のゲート電極14とスキャン信号電
極400間にそれぞれコンデンサ18を介挿させたアク
ティブマトリクス型液晶表示パネルによって解決するこ
とかできる。具体的には、前記コンデンサ18の静電容
量が前記薄膜トランジスタ10のゲート容量の10倍以
上の値であるように構成することにより効果的に解決で
きる。
〔作用〕
本発明によれば、薄膜トランジスタ10の一方の。
たとえば、薄膜トランジスタ10aのゲート14aとソ
ース16a間にショートが発生しても、スキャン信号電
極40.すなわち、ゲートパスラインとゲー)−14a
との間にはコンデンサ18aが介挿されているので画素
電極19の電位がゲート電位と等しくなることはなく、
画素電極19への表示データの書き込みはもう一方の薄
膜トランジスタ10bによって正常に行うことができる
。また、薄膜トランジスタ10bのゲート14bとドレ
イン16b間にショートが発生しても、ゲートパスライ
ンとゲート間にコンデンサ18bが存在するために、ゲ
ートおよびドレインの両パスラインの引っ張り合いによ
る線欠陥が生じることがないのである。
〔実施例〕
第1図は本発明実施例の画素構成を示す図である。
図中、18(18a、 18b)はコンデンサで、たと
えば薄膜トランジスタ10(10a、 10b)を形成
するときに同時形成された薄膜コンデンサで、いずれも
それぞれのゲート14とスキャン信号電極(ゲートパス
ライン)の間に介挿されるように構成されている。
なお、前記の諸口面で説明したものと同等の部分につい
ては同一符号を付し、かつ、同等部分についての説明は
省略する。
通常、アクティブマトリクス型液晶表示パネルに使用さ
れる薄膜トランジスタ10のゲート容量は0、0059
F程度であり、ゲートパスラインとゲート14の間に直
列に接続されるコンデンサ18にか\る電圧は静電容量
に反比例するので、コンデンサ18の静電容量を大きく
するほどスキャン信号電圧を薄膜トランジスタ10のゲ
ーH4に有効にかけることができる。実用的にはゲート
パスラインの電圧振巾の90%以上をゲーH4に印加で
きるようにするためにコンデンサ18の静電容量を0.
059F程度に設計した。
このように構成することにより、薄膜トランジスタ10
の一方の、たとえば、薄膜トランジスタ10aのゲート
14aとソース16a間にショートか発生しても、スキ
ャン信号電極40.すなわち、ゲートパスラインとゲー
ト14aとの間には大きな静電容量のコンデンサ18a
が介挿されているので画素電極19の電位かゲート電位
と等しくなることはなく、画素電極19への表示データ
の書き込みはもう一方の薄膜トランジスタ10bによっ
て正常に行うことができる。また、薄膜トランジスタ1
0bのゲート14bとドレイン16b間にショートが発
生しても、ゲートパスラインとゲート間にコンデンサ1
8が存在するために、ゲートおよびドレイン間の電位の
近接化、いわゆる、両パスラインの引っ張り合いによる
線欠陥が生じることがなく正常に表示動作を行うことが
できる。
なお、上記実施例では薄膜トランジスタ1oが1画素当
たり2個の場合を示したが、3個以上の場合であっても
それぞれの薄膜トランジスタ1oにコンデンサ18を接
続して本発明を適用できることは勿論である。
第2図は本発明実施例の要部の構造を示す図で、同図(
イ)は上面図、同図(ロ)はA−A断面図。
同図(ハ)はB−B断面図である。
図中、17はコンデンサ電極、30はゲート絶縁膜、3
1は保護膜、32はコンタクト層である。なお、前記の
諸図面で説明したものと同等の部分については同一符号
を付し、かつ、同等部分についての説明は省略する。
スキャン信号電極(ゲートパスライン) 40として巾
10μm程度の、たとえば、AIl/Tiの2層膜を用
い、そこから5μm程度のギャップを開けて巾10μm
、長さ50〜60μmの同じ< Af/Tiの2層膜か
らなるゲート14を形成し、その上にゲート絶縁膜30
として、たとえば誘電率が6.7のSiN。
膜を厚さ300nm程度に形成する。そのあとでゲート
14の先端部分に通常の工程により薄膜トランジスタ1
0を作製し、データ信号電極(ドレインパスライン)5
0とドレイン13を形成する際に、たとえば、厚さ70
0nm程度のAA/Tiの2層膜からなるコンデンサ電
極17を同時形成する。コンデンサ電極17の大きさは
、たとえば、長さ60〜70μm。
巾IO〜15μmとし、第2図(イ)(ロ)に示したご
とき配置で形成する。
このように構成することによりスキャン信号電極(ゲー
トパスライン)40とコンデンサ電極17との間にゲー
ト絶縁膜30を誘電体として静電容量C1が、また、ゲ
ート14とコンデンサ電極17との間にゲート絶縁膜3
0を誘電体として静電容量C2か形成され 結局、両者
が直列に接続されたコンデンサ18がスキャン信号電極
(ゲートパスライン)40とゲート14との間に介挿さ
れる。以上の実施例の構成で合成静電容量は0.05〜
0. IPFが得られる。なお、図ではlゲート部分だ
けについて示したか実際には2次元的に多数の素子が同
時形成されてアクティブマトリクス基板1が構成されて
いることは言うまでもない。
このアクティブマトリクス基板lを用いることにより本
発明のアクティブマトリクス型液晶表示パネルが作製さ
れ極めて優れた動作信頼性が得られる。
なお、上記実施例は一例を示したもので、本発明の趣旨
に添うものであれば、使用する部材やそれらの組み合わ
せ、あるいは、各部分の構成などは適宜最適なものを選
択使用して本発明を実現してよいことは言うまでもない
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば薄膜トランジスタ
10の一方の、たとえば、薄膜トランジスタ10aのゲ
ート14aとソース16a間にショートが発生しても、
スキャン信号電極40.すなわち、ゲートパスラインと
ゲー)14aとの間にはコンデンサ18aが介挿されて
いるので画素電極19の電位がゲート電位と等しくなる
ことはなく、画素電極19への表示データの書き込みは
もう一方の薄膜トランジスタ10bによって正常に行う
ことができる。
また、薄膜トランジスタ10bのゲート14bとドレイ
ン16b間にショートが発生しても、ゲートパスライン
とゲート間にコンデンサ18bが存在するために、ゲー
トおよびドレインの両パスラインの引っ張り合いによる
線欠陥が生じることがないので、アクティブマトリクス
型液晶表示パネルの歩留りおよび品質・信頼性の向上に
寄与するところが極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の画素構成を示す図、第2図は本
発明実施例の要部の構造を示す図、第3図はアクティブ
マトリクス型液晶表示パネルの外観を示す斜視図、 第4図は薄膜トランジスタの構成例を示す図、第5図は
従来の画素構成の例を示す図(そのl)、 第6図は従来の画素構成の例を示す図(その2)である
。 図において、 1はアクティブマトリクス基板、 2は共通電極基板、 3は液晶、 10(loa、 10b)は薄膜トランジスタ、11は
透明基板、 13(13a、 13b)はドレイン、14(14a、
 14b)はゲート、 16(16a、 16b)はソース、 17はコンデンサ電極、 18(18a、 18b)はコンデンサ、19は画素電
極、 40はスキャン信号電極(ゲートパスライン)、50は
データ信号電極(ドレインパスライン)である。 10 (10(1,lQb ) : ’kLトラレヅス
9+3(13α、1!+b)トル4ン 14 (+4α、 14E1  ヶ′−ト+6(+6α
、l6b)  ソース +3(13α218し)  つりテ゛′ンヅ木拾〇月1
−に竹゛)σ)1)創栴爪乞示、1 ℃ね纂   1 
  図 (4)上面図 (ロ)A−△断面口 (ハン 8−B  断i  しり 水聚朗究旅づデ10茅鉛の檎造乏ホ1図′Jf52  
 図 )色    ろ    図 箋  4112]

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アクティブマトリクス基板(1)と共通電極基板
    (2)との間に形成された液晶封入空間に液晶(3)を
    封止してなるアクティブマトリクス型液晶表示パネルに
    おいて、 前記アクティブマトリクス基板(1)上に各画素電極(
    19)に接続される複数の薄膜トランジスタ(10)を
    設け、該薄膜トランジスタ(10)のゲート電極(14
    )とスキャン信号電極(40)の間にそれぞれコンデン
    サ(18)を介挿させることを特徴としたアクティブマ
    トリクス型液晶表示パネル。
  2. (2)前記コンデンサ(18)の静電容量が前記薄膜ト
    ランジスタ(10)のゲート容量の10倍以上の値であ
    ることを特徴とした請求項(1)記載のアクティブマト
    リクス型液晶表示パネル。
JP2303552A 1990-11-08 1990-11-08 アクティブマトリクス型液晶表示パネル Pending JPH04174822A (ja)

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