JPH0417381A - 固体レーザ装置 - Google Patents
固体レーザ装置Info
- Publication number
- JPH0417381A JPH0417381A JP12071490A JP12071490A JPH0417381A JP H0417381 A JPH0417381 A JP H0417381A JP 12071490 A JP12071490 A JP 12071490A JP 12071490 A JP12071490 A JP 12071490A JP H0417381 A JPH0417381 A JP H0417381A
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- JP
- Japan
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- excitation lamp
- laser
- frequency
- excitation
- pulse width
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract description 44
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08072—Thermal lensing or thermally induced birefringence; Compensation thereof
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は固体レーザ装置に関し、特に固体レーザ装置か
ら出力されるレーザ光の拡がり角の制御に関する。
ら出力されるレーザ光の拡がり角の制御に関する。
従来技術
従来、ノーマルパルス発振型固体レーザ装置においては
、レーザ発振器と冷却部と電源部とから構成されており
、電源部はさらにシマー電源と主電源とに別れている。
、レーザ発振器と冷却部と電源部とから構成されており
、電源部はさらにシマー電源と主電源とに別れている。
シマー電源はレーザ発振器においてレーザ発振を行わな
いときにも、励起ランプの点灯性と安定性と寿命とをよ
くするために、常時ある電流値を流して励起ランプを点
灯させており、主電源から大電流を流して励起ランプを
パルス点灯させるときに放電現象を安定して行わせてい
る。
いときにも、励起ランプの点灯性と安定性と寿命とをよ
くするために、常時ある電流値を流して励起ランプを点
灯させており、主電源から大電流を流して励起ランプを
パルス点灯させるときに放電現象を安定して行わせてい
る。
また、レーザ光は出射方向に対しである角度をもってレ
ーザ発振器から出射され、この角度をレーザ光の拡がり
角という。
ーザ発振器から出射され、この角度をレーザ光の拡がり
角という。
このような従来の固体レーザ装置では、レーザ光の拡が
り角が励起ランプへの入力電力（レーザ光が出射される
までに励起ランプに入力された電力）の増加とともに単
調に増加するので、レーザ光の繰返し周波数やパルス発
振幅の条件を変化させると、励起ランプへの入力電力が
変化し、その変化によりレーザ光の拡がり角も変化する
という欠点がある。
り角が励起ランプへの入力電力（レーザ光が出射される
までに励起ランプに入力された電力）の増加とともに単
調に増加するので、レーザ光の繰返し周波数やパルス発
振幅の条件を変化させると、励起ランプへの入力電力が
変化し、その変化によりレーザ光の拡がり角も変化する
という欠点がある。
また、このレーザ光の拡がり角の変化により、精密レー
ザ加工の加工特性が影響を受けるという欠点がある。
ザ加工の加工特性が影響を受けるという欠点がある。
発明の目的
本発明は上記のような従来のものの欠点を除去すべくな
されたもので、レーザ光の繰返し周波数やパルス発振幅
の条件が変化しても、レーザ光の拡がり角の安定性を向
上させることができ、精密レーザ加工の加工特性への影
響をなくして加工品質を向上させることができる固体レ
ーザ装置の提供を目的とする。
されたもので、レーザ光の繰返し周波数やパルス発振幅
の条件が変化しても、レーザ光の拡がり角の安定性を向
上させることができ、精密レーザ加工の加工特性への影
響をなくして加工品質を向上させることができる固体レ
ーザ装置の提供を目的とする。
発明の構成
本発明による固体レーザ装置は、励起ランプからの励起
光によりレーザロッドを励起してレーザ出力を得る固体
レーザ装置であって、前記レーザ出力の周波数およびパ
ルス幅に応じて前記励起ランプへの最低放電電流値を可
変し、前記励起ランプへの人力電力が一定となるよう制
御する制御手段を設−けたことを特徴とする。
光によりレーザロッドを励起してレーザ出力を得る固体
レーザ装置であって、前記レーザ出力の周波数およびパ
ルス幅に応じて前記励起ランプへの最低放電電流値を可
変し、前記励起ランプへの人力電力が一定となるよう制
御する制御手段を設−けたことを特徴とする。
実施例
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。
図において、レーザヘッド部１はミラー２．３と、ＹＡ
Ｇロッド４と、励起ランプ５と、ＹＡＧロッド４および
励起ランプ５を収納する集光器６とにより構成されてお
り、集光器６は冷却ユニット部８によって冷却されてい
る。
Ｇロッド４と、励起ランプ５と、ＹＡＧロッド４および
励起ランプ５を収納する集光器６とにより構成されてお
り、集光器６は冷却ユニット部８によって冷却されてい
る。
励起ランプ５は電源部７に接続されており、この電源部
７は励起ランプ５を常時点灯させるためのシマー電源７
ａと、励起ランプ５をパルス点灯させるための主電源７
ｂとから構成されている。
７は励起ランプ５を常時点灯させるためのシマー電源７
ａと、励起ランプ５をパルス点灯させるための主電源７
ｂとから構成されている。
制御部９は外部から設定されたレーザ光の周波数やパル
ス幅に応じてシマー電源７ａおよび主電源７ｂを制御し
、レーザヘッド部１から出射されるレーザ光を調整する
。
ス幅に応じてシマー電源７ａおよび主電源７ｂを制御し
、レーザヘッド部１から出射されるレーザ光を調整する
。
レーザヘッド部１をパルス点灯させる場合、外部からレ
ーザ光の周波数およびパルス幅の条件設定が行われるが
、制御部９では励起ランプ５に常時供給される最低放電
電流値をスレッショルド値の範囲内でそれらレーザ光の
周波数およびパルス幅に応じて可変し、励起ランプ５へ
の入力電力（レーザ光が出射されるまでに励起ランプ５
に入力される電力）が一定となるようにシマー電源７ａ
を制御する。
ーザ光の周波数およびパルス幅の条件設定が行われるが
、制御部９では励起ランプ５に常時供給される最低放電
電流値をスレッショルド値の範囲内でそれらレーザ光の
周波数およびパルス幅に応じて可変し、励起ランプ５へ
の入力電力（レーザ光が出射されるまでに励起ランプ５
に入力される電力）が一定となるようにシマー電源７ａ
を制御する。
たとえば、ピーク電流および周波数か同じで、パルス幅
が長くなる場合に励起ランプ５への最低放電電流値か同
じであれば、励起ランプ５への人力電力が大きくなるの
で、制御部９は励起ランプ５への最低放電電流値を下げ
ることにより励起ランプ５への入力電力が一定となるよ
うにする。
が長くなる場合に励起ランプ５への最低放電電流値か同
じであれば、励起ランプ５への人力電力が大きくなるの
で、制御部９は励起ランプ５への最低放電電流値を下げ
ることにより励起ランプ５への入力電力が一定となるよ
うにする。
これにより、制御部９はレーザ光の周波数およびパルス
幅が変化しても、励起ランプ５への入力電力が一定とな
るようにシマー電源７ａを制御することにより、ＹＡＧ
ロッド４の熱レンズ効果を安定にさせ、レーザ光の拡か
り角の安定性を向上させることができる。
幅が変化しても、励起ランプ５への入力電力が一定とな
るようにシマー電源７ａを制御することにより、ＹＡＧ
ロッド４の熱レンズ効果を安定にさせ、レーザ光の拡か
り角の安定性を向上させることができる。
第２図は本発明の他の実施例を示す構成図である。図に
おいて、準連続発振（パルス状発振）可能な連続発振型
ＹＡＧレーザのレーザヘッド部１０はミラー１１．１２
と、ＹＡＧロッド１３と、励起ランプ１４と、ＹＡＧロ
ッド１３および励起ランプ１４を収納する集光器１５と
により構成されており、集光器１５は冷却ユニット部１
７によって冷却されている。
おいて、準連続発振（パルス状発振）可能な連続発振型
ＹＡＧレーザのレーザヘッド部１０はミラー１１．１２
と、ＹＡＧロッド１３と、励起ランプ１４と、ＹＡＧロ
ッド１３および励起ランプ１４を収納する集光器１５と
により構成されており、集光器１５は冷却ユニット部１
７によって冷却されている。
励起ランプ１４は電源部１６に接続されており、準発振
指令信号がない場合でも電源部１６から供給される基底
電流レベルの電流により常時点灯し、レーザヘッド部１
０における放電を維持している。
指令信号がない場合でも電源部１６から供給される基底
電流レベルの電流により常時点灯し、レーザヘッド部１
０における放電を維持している。
制御部１８は外部から設定されたレーザ光の周波数やパ
ルス幅に応じて電源部１６を制御し、レーザヘッド部１
０から出射されるレーザ光を調整する。
ルス幅に応じて電源部１６を制御し、レーザヘッド部１
０から出射されるレーザ光を調整する。
レーザ装置を準連続発振させる場合、外部からレーザ光
の周波数およびパルス幅の条件設定が行われるが、制御
部１８ではその条件に応じて準連続発振の基底電流レベ
ルをスレッショルド値の範囲内で設定し、レーザ光の周
波数およびパルス幅が変化しても、励起ランプ１４への
人力電力が一定となるように電源部１６を制御すること
により、ＹＡＧロッド１３の熱レンズ効果を安定させ、
し−ザ光の拡がり角の安定性を向上させることができる
。
の周波数およびパルス幅の条件設定が行われるが、制御
部１８ではその条件に応じて準連続発振の基底電流レベ
ルをスレッショルド値の範囲内で設定し、レーザ光の周
波数およびパルス幅が変化しても、励起ランプ１４への
人力電力が一定となるように電源部１６を制御すること
により、ＹＡＧロッド１３の熱レンズ効果を安定させ、
し−ザ光の拡がり角の安定性を向上させることができる
。
このように、レーザ光の周波数およびパルス幅の変化に
応じて、制御部９，１８の制御により励起ランプ５．１
４への最低放電電流値（基底電流レベル）をスレッショ
ルド値の範囲内で可変し、励起ランプ５，１４への入力
電力が一定となるようにすることによって、レーザ光の
繰返し周波数やパルス発振幅の条件が変化しても、ＹＡ
Ｇロッド４，１３の熱レンズ効果を安定させ、レーザ光
の拡がり角の安定性を向上させることができる。
応じて、制御部９，１８の制御により励起ランプ５．１
４への最低放電電流値（基底電流レベル）をスレッショ
ルド値の範囲内で可変し、励起ランプ５，１４への入力
電力が一定となるようにすることによって、レーザ光の
繰返し周波数やパルス発振幅の条件が変化しても、ＹＡ
Ｇロッド４，１３の熱レンズ効果を安定させ、レーザ光
の拡がり角の安定性を向上させることができる。
また、レーザ加工を行う場合、加工物の載物台のコント
ロールの問題から加ニスピートが変化することがあり、
この加ニスピードの変化に対応するためにレーザ光の周
波数を変化させる必要が生じるが、そのような場合にも
レーザ光の出力および拡がり角を一定に保つことができ
るので、精密レーザ加工の加工特性への影響をなくし、
加工品質を向上させることができる。
ロールの問題から加ニスピートが変化することがあり、
この加ニスピードの変化に対応するためにレーザ光の周
波数を変化させる必要が生じるが、そのような場合にも
レーザ光の出力および拡がり角を一定に保つことができ
るので、精密レーザ加工の加工特性への影響をなくし、
加工品質を向上させることができる。
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、レーサ出力の周波数
およびパルス幅に応じて励起ランプへの最低放電電流値
を可変して励起ランプへの人力電力が一定となるよう制
御することによって、レーザ光の繰返し周波数やパルス
発振幅の条件が変化しても、レーザ光の拡がり角の安定
性を向」−させることができ、精密レーザ加工の加工特
性への影響をなくして加工品質を向上させることができ
るという効果がある。
およびパルス幅に応じて励起ランプへの最低放電電流値
を可変して励起ランプへの人力電力が一定となるよう制
御することによって、レーザ光の繰返し周波数やパルス
発振幅の条件が変化しても、レーザ光の拡がり角の安定
性を向」−させることができ、精密レーザ加工の加工特
性への影響をなくして加工品質を向上させることができ
るという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は本発
明の他の実施例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明 ］、１０・・・・・・レーザヘッド部 ４．１３・・・・・・ＹＡＧロッド ５．１４・・・・・・励起ランプ ７ａ・・・・・・シ
マー電源７．１６・・・・・・電源部 ７ｂ・・・
・・・主電源９．１８・・・・・・制御部
明の他の実施例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明 ］、１０・・・・・・レーザヘッド部 ４．１３・・・・・・ＹＡＧロッド ５．１４・・・・・・励起ランプ ７ａ・・・・・・シ
マー電源７．１６・・・・・・電源部 ７ｂ・・・
・・・主電源９．１８・・・・・・制御部
Claims (1)
- （１）励起ランプからの励起光によりレーザロッドを励
起してレーザ出力を得る固体レーザ装置であって、前記
レーザ出力の周波数およびパルス幅に応じて前記励起ラ
ンプへの最低放電電流値を可変し、前記励起ランプへの
入力電力が一定となるよう制御する制御手段を設けたこ
とを特徴とする固体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12071490A JPH0417381A (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | 固体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12071490A JPH0417381A (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | 固体レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0417381A true JPH0417381A (ja) | 1992-01-22 |
Family
ID=14793184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12071490A Pending JPH0417381A (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | 固体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0417381A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05206548A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Yunitatsuku:Kk | 半導体レーザ等のパルス電源方式 |
| JP2011192831A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Omron Corp | レーザ加工装置、レーザ光源装置、および、レーザ光源装置の制御方法 |
-
1990
- 1990-05-10 JP JP12071490A patent/JPH0417381A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05206548A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Yunitatsuku:Kk | 半導体レーザ等のパルス電源方式 |
| JP2011192831A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Omron Corp | レーザ加工装置、レーザ光源装置、および、レーザ光源装置の制御方法 |
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