JPH04259277A - 炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制御方法 - Google Patents
炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制御方法Info
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- JPH04259277A JPH04259277A JP3020739A JP2073991A JPH04259277A JP H04259277 A JPH04259277 A JP H04259277A JP 3020739 A JP3020739 A JP 3020739A JP 2073991 A JP2073991 A JP 2073991A JP H04259277 A JPH04259277 A JP H04259277A
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- Japan
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- discharge power
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- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 28
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 title claims description 14
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 7
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0977—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser having auxiliary ionisation means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/2232—Carbon dioxide (CO2) or monoxide [CO]
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は炭酸ガスレーザのシマ
ー放電電力の制御方法に関するものである。
ー放電電力の制御方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】炭酸ガスレーザは出力が大きく、効率が
高いので工作物の穴あけ、切断、溶接等の加工に広く利
用されている。このような加工におけるレーザの照射条
件、すなわち、レーザ光の出力と照射時間の間には、加
工の種類、材質、工作物の形状等によって適当な値があ
る。一般に、穴あけや小物の切断の場合には、出力を大
きくして、照射時間を短かくし、小物の溶接の場合には
、出力を小さくして、照射時間を長くしている。炭酸ガ
スレーザは直接変調により連続発振でも、パルス発振で
も使用することができ、前記のような加工の場合には、
一般にパルス発振で使用される。
高いので工作物の穴あけ、切断、溶接等の加工に広く利
用されている。このような加工におけるレーザの照射条
件、すなわち、レーザ光の出力と照射時間の間には、加
工の種類、材質、工作物の形状等によって適当な値があ
る。一般に、穴あけや小物の切断の場合には、出力を大
きくして、照射時間を短かくし、小物の溶接の場合には
、出力を小さくして、照射時間を長くしている。炭酸ガ
スレーザは直接変調により連続発振でも、パルス発振で
も使用することができ、前記のような加工の場合には、
一般にパルス発振で使用される。
【０００３】炭酸ガスレーザの放電電力とレーザ光出力
の間には、例えば図３のような関係があり、放電電力が
しきい値Ｐｔｈになると、レーザ発振が起り、レーザ光
出力が急速に上昇する。
の間には、例えば図３のような関係があり、放電電力が
しきい値Ｐｔｈになると、レーザ発振が起り、レーザ光
出力が急速に上昇する。
【０００４】一般に炭酸ガスレーザの運転中は、レーザ
発振を維持するため、常時、しきい値より僅かに大きな
放電電力（以下シマー放電電力という）を供給している
。図４（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ、レーザ加工の待機時
及びパルス加工時の放電電力（シマー放電電力とパルス
放電電力）及びレーザ光出力（シマー光出力とパルス光
出力）を表わしたものである。このように、待機時及び
加工時にはシマー放電電力に対応したシマー光を生ずる
。このシマー光は工作物の表面に熱影響を与えるので、
待機時や工作物の移動時には、これを防止するため機械
的なシャッタ等が使用されている。
発振を維持するため、常時、しきい値より僅かに大きな
放電電力（以下シマー放電電力という）を供給している
。図４（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ、レーザ加工の待機時
及びパルス加工時の放電電力（シマー放電電力とパルス
放電電力）及びレーザ光出力（シマー光出力とパルス光
出力）を表わしたものである。このように、待機時及び
加工時にはシマー放電電力に対応したシマー光を生ずる
。このシマー光は工作物の表面に熱影響を与えるので、
待機時や工作物の移動時には、これを防止するため機械
的なシャッタ等が使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、シマー
光の出力はできるだけ小さいことが好ましいが、そのた
めに、シマー放電電力を小さくすると、図５に示すよう
にパルス放電電力の立上りが遅れ、波形がひずむように
なる。レーザ光のパルス光の波形も同様になる。また、
シマー放電電力を小さくすると、パルス放電が停止する
ことがある。この発明は、このような問題に着目して創
案されたもので、レーザ加工の待機時にはレーザ光を出
さず、加工時には立上りの良好なパルス光の得られるシ
マー放電電力の制御方法を提供することを目的とするも
のである。
光の出力はできるだけ小さいことが好ましいが、そのた
めに、シマー放電電力を小さくすると、図５に示すよう
にパルス放電電力の立上りが遅れ、波形がひずむように
なる。レーザ光のパルス光の波形も同様になる。また、
シマー放電電力を小さくすると、パルス放電が停止する
ことがある。この発明は、このような問題に着目して創
案されたもので、レーザ加工の待機時にはレーザ光を出
さず、加工時には立上りの良好なパルス光の得られるシ
マー放電電力の制御方法を提供することを目的とするも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、この発明の炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制
御方法は、シマー放電電力を、レーザ加工の待機時には
、レーザ発振が維持される最低の水準に設定し、加工時
には、パルス放電の立上り及び安定性のよい所定の水準
に設定するようにしたものである。
めに、この発明の炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制
御方法は、シマー放電電力を、レーザ加工の待機時には
、レーザ発振が維持される最低の水準に設定し、加工時
には、パルス放電の立上り及び安定性のよい所定の水準
に設定するようにしたものである。
【０００７】
【作用】このように構成されているので、レーザ加工の
待機時には、レーザ光の発生が無く、加工時には立上り
及び安定性のよいパルス光が発生する。
待機時には、レーザ光の発生が無く、加工時には立上り
及び安定性のよいパルス光が発生する。
【０００８】
【実施例】次に、この発明の実施例について図面に基づ
いて説明する。図１はこの発明の方法を示したブロック
図である。すなわち、ＮＣ制御装置１からシマー放電電
力指令信号Ｓ１ 及びパルス放電電力指令信号Ｓ２ が
放電用電源３に出力されると、放電用電源３はこれに対
応したシマー放電電力及びパルス放電電力からなる放電
電力Ｐｄ を炭酸ガスレーザ発振器５へ供給する。炭酸
ガスレーザ発振器５はこれに対応したレーザ光Ｐｌ を
発生する。このレーザ光は加工テーブル７へ導かれ、工
作物を照射加工する。
いて説明する。図１はこの発明の方法を示したブロック
図である。すなわち、ＮＣ制御装置１からシマー放電電
力指令信号Ｓ１ 及びパルス放電電力指令信号Ｓ２ が
放電用電源３に出力されると、放電用電源３はこれに対
応したシマー放電電力及びパルス放電電力からなる放電
電力Ｐｄ を炭酸ガスレーザ発振器５へ供給する。炭酸
ガスレーザ発振器５はこれに対応したレーザ光Ｐｌ を
発生する。このレーザ光は加工テーブル７へ導かれ、工
作物を照射加工する。
【０００９】図２に前記のシマー放電電力指令信号Ｓ１
及びパルス放電電力指令信号Ｓ２ によるシマー放電
電力Ｐｓ ，パルス放電電力Ｐｐ ，放電電力Ｐｄ 及
びレーザ光出力Ｐｌ の一例を示してある。シマー放電
電力Ｐｓ は、同図（Ａ）のように、レーザ加工の待機
時には、レーザ発振が維持される最低の水準Ｐｓｍ１ｎ
に制御され、加工時には、パルス放電の立上り及び安定
性のよい所定の水準Ｐｓｓに制御されている。パルス放
電電力Ｐｐ を同図（Ｂ）のようにすると、放電電力Ｐ
ｄ は、シマー放電電力Ｐｓ とパルス放電電力Ｐｐ
を加算し、同図（Ｃ）のようになる。この放電電力Ｐｄ
によって発生するレーザ光出力Ｐｌ は同図（Ｄ）の
ようなり、レーザ加工の待機時にはレーザ光が発生しな
い。
及びパルス放電電力指令信号Ｓ２ によるシマー放電
電力Ｐｓ ，パルス放電電力Ｐｐ ，放電電力Ｐｄ 及
びレーザ光出力Ｐｌ の一例を示してある。シマー放電
電力Ｐｓ は、同図（Ａ）のように、レーザ加工の待機
時には、レーザ発振が維持される最低の水準Ｐｓｍ１ｎ
に制御され、加工時には、パルス放電の立上り及び安定
性のよい所定の水準Ｐｓｓに制御されている。パルス放
電電力Ｐｐ を同図（Ｂ）のようにすると、放電電力Ｐ
ｄ は、シマー放電電力Ｐｓ とパルス放電電力Ｐｐ
を加算し、同図（Ｃ）のようになる。この放電電力Ｐｄ
によって発生するレーザ光出力Ｐｌ は同図（Ｄ）の
ようなり、レーザ加工の待機時にはレーザ光が発生しな
い。
【００１０】しかし、レーザの加工時のパルスの休止時
に、シマー放電によるシマー光が発生する。このシマー
光出力はパルス放電によるパルス光出力に比べて、一般
に極めて小さいので、加工上の影響は少ない。なお、こ
の実施例では、図１のようにシマー放電電力指令信号Ｓ
１ とパルス放電電力指令信号Ｓ２ を別々に与えてい
るが、これを一緒にして、一つの指令信号にすることも
できる。
に、シマー放電によるシマー光が発生する。このシマー
光出力はパルス放電によるパルス光出力に比べて、一般
に極めて小さいので、加工上の影響は少ない。なお、こ
の実施例では、図１のようにシマー放電電力指令信号Ｓ
１ とパルス放電電力指令信号Ｓ２ を別々に与えてい
るが、これを一緒にして、一つの指令信号にすることも
できる。
【００１１】
【発明の効果】以上の説明から理解されるように、この
発明の炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制御方法は、
特許請求の範囲に記載の構成を備えているので、レーザ
加工の待機時には、レーザ光の発生は無く、加工時には
、立上り及び安定性のよいパルス光が得られる。また、
従来のような機械的なシャッタ等の必要がなく、制御が
電気的に行なわれるので加工時間を短縮することができ
る。
発明の炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制御方法は、
特許請求の範囲に記載の構成を備えているので、レーザ
加工の待機時には、レーザ光の発生は無く、加工時には
、立上り及び安定性のよいパルス光が得られる。また、
従来のような機械的なシャッタ等の必要がなく、制御が
電気的に行なわれるので加工時間を短縮することができ
る。
【図１】この発明の方法を示したブロック図である。
【図２】（Ａ）図はシマー放電電力、（Ｂ）図はパルス
放電電力、（Ｃ）図はシマー及びパルス放電電力を合せ
た放電電力、（Ｄ）図は放電電力に対応したレーザ光出
力を示した図である。
放電電力、（Ｃ）図はシマー及びパルス放電電力を合せ
た放電電力、（Ｄ）図は放電電力に対応したレーザ光出
力を示した図である。
【図３】炭酸ガスレーザの放電電力とレーザ光出力との
関係を示した図である。
関係を示した図である。
【図４】従来の炭酸ガスレーザの加工の待機時及び加工
時の放電電力（シマー放電電力及びパルス放電電力）、
及びレーザ光出力（シマー光出力及びパルス光出力）を
表わした図である。
時の放電電力（シマー放電電力及びパルス放電電力）、
及びレーザ光出力（シマー光出力及びパルス光出力）を
表わした図である。
【図５】炭酸ガスレーザのシマー放電電力を下げた場合
のパルス放電電力の波形のひづみの説明図である。
のパルス放電電力の波形のひづみの説明図である。
Ｐｓｍ１ｎ レーザ発振が維持される最低の水準のシ
マー放電電力 Ｐｓｓ パルス放電の立上り及び安定性のよい所定の
水準のシマー放電電力
マー放電電力 Ｐｓｓ パルス放電の立上り及び安定性のよい所定の
水準のシマー放電電力
Claims (1)
- 【請求項１】 シマー放電電力を、レーザ加工の待機
時には、レーザ発振が維持される最低の水準に設定し、
加工時には、パルス放電の立上り及び安定性のよい所定
の水準に設定することを特徴とする炭酸ガスレーザのシ
マー放電電力の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3020739A JPH04259277A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3020739A JPH04259277A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04259277A true JPH04259277A (ja) | 1992-09-14 |
Family
ID=12035569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3020739A Pending JPH04259277A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 炭酸ガスレーザのシマー放電電力の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04259277A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6765936B2 (en) | 1997-03-21 | 2004-07-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Gas laser machining apparatus |
| WO2012036008A1 (ja) | 2010-09-14 | 2012-03-22 | 株式会社 アマダ | レーザ加工装置、及び、レーザ加工装置の制御方法 |
| JP2013507791A (ja) * | 2009-10-13 | 2013-03-04 | コヒレント， インコーポレイテッド | Ｃｏ２ガス放電レーザのための事前イオン化方法 |
| US9246297B2 (en) | 2014-02-27 | 2016-01-26 | Fanuc Corporation | Gas laser oscillator controlling adjusted level of laser power supply |
| US10522971B2 (en) | 2017-04-17 | 2019-12-31 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser diode-driving power supply and laser machining apparatus |
-
1991
- 1991-02-14 JP JP3020739A patent/JPH04259277A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6765936B2 (en) | 1997-03-21 | 2004-07-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Gas laser machining apparatus |
| JP2013507791A (ja) * | 2009-10-13 | 2013-03-04 | コヒレント， インコーポレイテッド | Ｃｏ２ガス放電レーザのための事前イオン化方法 |
| WO2012036008A1 (ja) | 2010-09-14 | 2012-03-22 | 株式会社 アマダ | レーザ加工装置、及び、レーザ加工装置の制御方法 |
| JP2012064636A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Amada Co Ltd | レーザ加工装置及びその制御方法 |
| CN103098320A (zh) * | 2010-09-14 | 2013-05-08 | 株式会社天田 | 激光加工装置以及激光加工装置的控制方法 |
| US9362706B2 (en) | 2010-09-14 | 2016-06-07 | Amada Company, Limited | Laser machine and controlling method of laser machine |
| US9246297B2 (en) | 2014-02-27 | 2016-01-26 | Fanuc Corporation | Gas laser oscillator controlling adjusted level of laser power supply |
| US10522971B2 (en) | 2017-04-17 | 2019-12-31 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser diode-driving power supply and laser machining apparatus |
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