JPH04169511A - ニキビ用化粧料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ニキビ用化粧料に関し、更に詳しくは抗菌作
用を有する化合物を含有するニキビ抑制効果の優れたニ
キビ用化粧料に関する。

〔従来の技術〕

ニキビの発生の原因としては、内分泌異常、細菌感染、
脂質代謝および糖代謝異常、ビタミンＡ群及びＢ群の欠
乏、消化器障害、脂肪・糖分の過剰摂取、遺伝子的因子
等であると言われている。

ニキビ、特に尋常性ニキビには好気性菌スタフィロコ力
スエピデルミディス（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓｅ
ｐｉｄｅｒｍｉｄｉｓ）及び嫌気性菌プロピオニバクテ
リウムアクネス（Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕ＋
＋＋　ａｃｎｅｓ）が多く検出され、これらの菌、特に
嫌気性菌プロピオニバクテリウムアクネスはニキビを悪
化させるものであることが報告されている〔皮膚臨床、
■。

〔６〕特：　２１，４９９〜５０５（１９８１））。

従来のニキビ抑制剤としてはレゾルシン、イソプロピル
メチルフェノール等が知られている。

［発明が解決しようとする課題〕 前記従来のニキビ抑制剤はいずれもはニキビの発生およ
び悪化させる要因と言われるプロピオニバクテリウムア
クネス等の菌に対して抗菌作用が弱く、ニキビの抑制効
果の高い素材とは言い難いものであり、従って、従来は
ニキビ抑制剤を多量に使用せざるを得す、そのためそれ
らを配合する化粧品等の安定化や安全性に問題があり、
ニキビ抑制効果が高く安全性等の点で問題のないニキビ
用化粧料の開発が要望されている。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、ニキビ抑制効果の高いニキビ用化粧料に
ついて種々研究の結果、特定のレゾルシノール誘導体が
ニキビの発生及び悪化させる菌に対して抗菌作用が強く
、これらを含有するニキビ用化粧料がニキビ抑制効果の
優れたものであることを見出し、本発明に到達したもの
である。

即ち、本発明は一般式（１） （式中、Ｒは炭素数２〜１２の直鎖あるいは分枝アルキ
ル基を表わす、） で示されるレゾルシノール誘導体を少なくとも０゜００
１重量％配合してなるニキビ用化粧料に関する。

上記一般式（１）で表わされるレゾルシノール誘導体の
Ｒは炭素数２〜１２の直鎖あるいは分枝アルキル基であ
り、直鎖アルキル基としては、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基およびドデ
シル基が挙げられる。又、分枝アルキル基は水素原子の
１個がメチル基等の低級アルキル基で置換されていたも
のであり、その具体例としてはイソプロピル基。

イソブチル基、イソアミル基、２−メチルヘキシル基等
が挙げられる。

本発明のレゾルシノール誘導体の具体的化合物を例示す
ると第１表の通りである。

一般式（１）で表わされるレゾルシノール誘導体は公知
の化合物であり、例えば飽和のカルボン酸とレゾルシノ
ールを塩化亜鉛の存在下で縮合させた後、縮合物を亜鉛
アマルガム／塩酸で還元する方法（Ｌｉｌｌｅ、　Ｊ、
　Ｂｉｔｔｅｒ、　ＬＡ、　Ｐｅ１ｎｅｒ、　Ｖ、　Ｔ
ｒ。

Ｎａｕｃｈ−Ｔｅａｌｅｄ、　Ｉｎ５ｔ、　５ｌａｕｔ
ａｅｖ　１９６９．Ｎｏ　１８．１２７）、あるいはレ
ゾルシノールの対応するアルキルアルコールとをアルミ
ナ触媒を使用して２００〜４００℃の高温下で反応させ
て得る方法（英国特許筒１゜５８１．４２８号）等によ
って容易に得ることができる。

一般式（１）で表わされるレゾルシノール誘導体の配合
割合はニキビ用化粧料組成物全量に対して少なくとも０
．００１重量％であり、特に好ましい量は０．１〜２重
量％である。　０．００１重量％より低濃度では、ニキ
ビ抑制効果が弱くなり、本発明の目的を達成し得なくな
る。一方、２重量％より高濃度では使用してもニキビ抑
制効果はそれほど上がらない。

本発明のニキビ用化粧料は、前記レゾルシノール誘導体
の他にニキビ用化粧料に通常用いられる各種成分が配合
され得、特に限定されるものではない。

本発明のニキビ用化粧料の具体的剤型としてはクリーム
、乳液、化粧水、パック、石けん等が挙げられる。

ニキビ用化粧料の基剤としては、炭化水素類。

各種のエステル類、ロウ類、油脂類、高級脂肪酸類、高
級アルコール類、水溶性高分子、粉体、界面活性剤、多
価アルコール類などの１種又は２種以上の組合せを挙げ
ることができ、また、添加成分としては、香料、色素、
防腐剤、抗酸化剤、紫　′外線吸収剤、その他にも様々
な薬効成分、例えばヒアルロン酸、アラントイン、ビタ
ミン類、アミノ酸、胎盤エキスなどを挙げることが出来
、これらの１種又は２種以上を組合せて適宜配合するこ
とが出来る。

〔作用〕

本発明のレゾルシノール誘導体はニキビの発生及び悪化
を促進する微生物に対する抗菌作用が強く、これを配合
したニキビ用化粧料はニキビ抑制効果を有する。

〔実施例〕 以下、実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明
は、これら実施例に限定されるものではない。なお、配
合量は重量部である。

（１）レゾルシノール　　　の 〈実験方法と結果〉 （試料） 各サンプルを１５％エタノール水溶液に溶解させたもの （実験方法） カップ法による阻止円測定 〈測定方法〉 滅菌シャーレにてプロピオニバクテリウムアクネスの生
理的食塩水分散液（菌数１０”／ｍ１）０゜２ｍｌと滅
菌したプレインハートインフュージョン寒天培地（栄研
化学（株）製）約２０ｍ　ｌとを混釈し、同化・乾燥さ
せる。

その後、カップ（内径８腸鳳）を上記混釈培地上に置き
、カップ内に各試料を０．３ｍｌ入れ３７℃にて６日間
嫌気的に培養する。培養終了後カップを取り除き阻止円
の直径を測定する。結果を第２表に示す。

第２表　　　阻止円（ｍｓ） 第２表から明らかなように、本発明のレゾルシノール誘
導体の阻止円は大であり、従来品と比較してニキビを抑
制する効果−に優れていることがわかる。

（２）塵ｆｉ腹 レゾルシノール誘導体又は比較化合物としてハイドロキ
ノンを生理食塩水に溶解し、これを１群１０匹のｄｄｙ
系雄性マウスに経口投与（ｉ、ｏ、）、腹腔的投与（１
，ｐ、）、及び皮下投与（ｓ、ｅ、）　Ｌ、投与後２４
時間までの生死を観察した。その結果に基づきＬＤ、。

をリテフィールドーウィルコキソム（Ｌｉｔｃｈｆｉｅ
ｌｄ　、　Ｗｉｌｃｏｘｏｎ）法にしたがって算出した
。その結果を第３表に示す。

第３表 叉ＪＬＬＬ−止１氷 （処方） 第４表 （製法） 全量を８０℃に加熱し、ホモミキサーで均質に可溶化す
る。室温まで冷却し、容器につめて製品とする。

去１目１Δ　　■ （処方） 第５表 （製法） 全量を８０℃に加熱し、ホモミキサーで均質に乳化する
。室温まで冷却し、容器につめて製品とする。

失廠豊主ユ　　クリーム （処方） 第６表 （製法） 全量を８０℃に加熱し、ホモミキサーで均質に乳化する
。室温まで冷却し、容器につめて製品とする。

〈ニキビ治療試験〉 （試料） 実施例１，２．３及び比較例１，２ （試験方法） 脂性肌であり且つニキビが顔面部位に存在する女子５０
名をパネラ−とし、１群を１０名として、各群毎に上記
試料を１日２回通常の使用状態と同様に塗布し、これを
３０日間続けた後、ニキビの改善度について専門家が評
価した。

（結果） 第７表　　　　　（単位：名） 第７表から明らかなように、本発明品はニキビを有する
皮膚に連用することにより明らかなニキビの改善効果が
ある。これはニキビの増悪因子であるプロピオニバクテ
リウムアクネス（Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂｉａｃｔｅｒｉｕ
ｍ　ａｃｎｅｓ）を殺菌することによりニキビを改善で
きるものである。

〔発明の効果〕

レゾルシノール誘導体を少なくとも０．００１重量％配
合したニキビ用化粧料には、顕著なニキビ抑制効果が認
められ、安全性の点でも優れたものである。

特許出願人　　ポーラ化成工業株式会社特許出願人　　
株式会社　クラリ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、Ｒは炭素数２〜１２の直鎖あるいは分枝アルキ
   ル基を表わす。） で示されるレゾルシノール誘導体を少なくとも０．００
   １重量％配合してなるニキビ用化粧料。