JPH04157471A

JPH04157471A - 電子写真用感光体

Info

Publication number: JPH04157471A
Application number: JP28191490A
Authority: JP
Inventors: Tomohiro Inoue; 智博井上; Toshio Fukagai; 深貝　俊夫; Kayoko Suzuki; 鈴木　佳代子
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1990-10-22
Filing date: 1990-10-22
Publication date: 1992-05-29

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、電子写真用感光体に関する。

［従来の技術］従来、複数の有機顔料を含有する電子写真感光体が多数
試みられており（特開昭６３−２３６０４７〜５２号、
特開昭６３−３１３１６４号）、それによって顔料単独
の場合より、高感度化などの静電特性の改善かなされて
きた。しかし、顔料にはそれぞれ分散に最適な分散媒が
あり、顔料を混合して分散することによって、顔料単独
の場合より、分散安定性に問題が生じる場合があった。

［発明が解決しようとする課題］本発明は、こうした実情の下に、二種類のビスアゾ顔料
を混合分散して用いる電子写真用感光体において、顔料
の分散安定性、塗工性を改善し、静電特性の優れた電子
写真用感光体を提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果
、ビスアゾ顔料を混合分散する場合、分散媒としてアル
キルケトンを用いることが有効であることを知見し、本
発明に至った。

すなわち、本発明は、導電性支持体上に少なくとも感光
層を有する電子写真感光体において、感光層中に、分散
媒としてアルキルケトンを用いて分散した二種のビスア
ゾ顔料を電荷発生物質として用いることを特徴とする電
子写真用感光体である。

本発明に使用する二種のビスアゾ顔料のうちの一種は、
下記一般式（１）で示されるビスアゾ顔料が好ましい。

［ただし、Ｘはハロゲン原子（Ｆ、ＣΩ、Ｂｒ。

工）を表わす。］又、上記一般式（１）のビスアゾ顔料と組合せて用いる
好ましい他のビスアゾ顔料としては、下記の一般式（２
）〜（９）で示されるビスアゾ顔料かある。

［ただし、Ａは−Ｎｏ　　、−ＣＮ、−ＣＦ３を表わす
。］式（２）においてとくに好ましい具体例としては、Ａが
たとえばｏ−Ｎｏ　　、　ｍ−Ｎｏ　　、　ｐ　−Ｎ　
Ｏ、ＯＣＮ　Ｓｏ　　ＣＦ　ａであるビスアゾ顔料等を
挙げることができる。

［ただし、Ｒはアルキル基又はアルコキシ基を表わす。

］式（３）においてとくに好ましい具体例としては、Ｒか
たとえばｏ−ＣＨ、ｍ−ＣＨ、ｐ　−ＣＨ、ｏ−ＣＨ、
ｏ−ＯＣＨ３，ｏ　　ＯＣ２Ｈ５であるビスアゾ顔料等を挙げることか
できる。

［たたし、Ｒは低級アルキル基、カルボキシル基、及び
そのエステルから成る群から選択される。

Ａｒは置換基を有するか又は有しないベンゼン環、ナフ
タレン環などの芳香環を表わす。コ式〈５）においてと
くに好ましい具体例としては、であるビスアゾ顔料等を
挙げることができる。

・・・　（６）［たたし、Ｒは水素、アルキル基、置換されてもよいフ
ェニル基を表わす。］式（６）においてとくに好ましい具体例としては、であ
るビスアゾ顔料等を挙げることができる。

［たたし、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ４の中の○〜２個は水素原子
がら成り、他の２〜４個はハロゲン原子（Ｆ、ＣＤ、Ｂ
ｒ、Ｉ）、アルキル基、アルコキシ基がら成る。］式（７）においてとくに好ましい具体例としては、たと
えばＲ１〜４が下記の表で示される組合せのビスアゾ顔
料等を挙げることができる。

［たたし、Ｒ１は水素、メチル、フェニル、ベンジル基
を表わし、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒは水素、アルキル基、アルコ
キシ基、ハロケン原子を表わす。］式（８）においてとくに好ましい具体例としては、たと
えばＲが下記衣で示される組合せのビ１〜５スアゾ顔料等を挙げることができる。

［ただし、Ｒは水素、アルキル基又はアルコキシ基を表
わす。］式（９）においてとくに好ましい具体例としては、たと
えばＲがＨ１ｏ　　ＣＨ１ｍ　　ＣＨｓ、ｏ　　ＣＨ、
ｏ　　ＯＣＨｓ　ｍ　　ＯＣＨ３％　　００　Ｃ２Ｈ５
であるビスアゾ顔料等を挙げることができる。

本発明は、二種のビスアゾ顔料、好ましくは一般式（１
）のビスアゾ顔料と、一般式（２）〜（９）で示される
ビスアゾ顔料とを混合分散する場合、分散媒にアルキル
ケトンを用いて分散を行なうことによって、良好な分散
液を調製し、これを感光層として塗工して電子写真感光
体を得るものである。

なお、アゾ顔料の混合比は特に限定されるものではない
。

感光体の層構成は、単層タイプ、基板側に電荷発生層そ
の上に電荷輸送層を有する積層タイプ、基板側に電荷輸
送層その上に電荷発生層を有する積層タイプでも良い。

またこれらには、中間層・接着層・被覆層を設けても良
い。

また、本発明において分散媒に用いるアルキルケトンの
例としては、アセトン・メチルエチルケトン−ジエチル
ケトン・ジプロピルケトン・メチルイソブチルケトン・
エチルブチルケトン・ジブチルケトンなどがあるが、こ
れらに限定されるものではない。

次に本発明に係る電子写真感光体について説明する。

第２図及び第３図は、本発明に係る単層型感光体と積層
型感光体の二側の概略図である。なお、これらの感光体
には、従来のものと同様、中間層（下引き層が）が適宜
設けられてよいし、保護層も適宜設けられてもよい。な
お図中、１は導電性基体、２，２′は感光層、３は電荷
発生層、４は電荷輸送層を表わしている。

導電性基体１は、帯電電荷と逆極性の電荷を基体側に供
給することを目的とするものであって、電気抵抗が１０
８Ω口以下で、かつ、感光層（積層型感光体にあっては
電荷発生又は電荷移動層）、或いは、必要により設けら
れる中間層の製膜条件に耐えられるものが使用される。

これらの例としては、Ａ　４７　ＳＮ　ｉＳＣｒ　１Ｚ
　ｎ　％　ステンレス等の電気伝導性の金、属および合
金並びにガラス、セラミックス等の無機絶縁物質および
ポリエステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン
樹脂、紙等の有機絶縁性物質の表面を真空蒸着、スパッ
タリング、吹付塗装等の方法によってＡｌ１．Ｎｉ。

Ｃｒ、Ｚｎｓステンレス、炭素、Ｓ　ｎ　Ｏ２、Ｉｎ２
Ｏ３等の電気導電性物質で被覆して導電処理を行なった
もの等があげられる。

第２図に示したような単層型感光体の感光層２は電荷発
生と電荷移動の両方の機能を１つの層にもたせたもので
あり、画像露光によって電荷潜像を形成させる層である
。

この種の感光層２は、前記アゾ顔料と結着樹脂とを、ま
た必要に応じて後述する電荷移動物質と共に導電性基体
１上に形成される。

結着剤樹脂としては後述する積層型感光層２′で用いら
れるものと同様のものが使用される。また、ピリリウム
系染料とビスフェノールＡ系ポリカーボネートとから形
成される共晶錯体に電荷移動性物質を添加した単層型感
光層も使用出来る。

感光層２の厚さは５〜３０μｍが適当である。

また、積層型感光層２′における電荷発生層３は、画像
露光によって電荷を発生分離させることを目的とする層
である。

電荷発生層３は、本発明の場合は前記ビスアゾ顔料であ
る。これらは樹脂中でまたは樹脂無しでアルキルケトン
を加えてボールミル、サンドミル、三本ロール、アトラ
イター、超音波法等の方法で分散して用いる。これらビ
スアゾ顔料を分散する樹脂（結着剤）としてはたとえば
ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹
脂、ポリカーボネート、ポリエーテルなどの縮合系樹脂
並びにポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリ
レート、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブ
チラール、スチレン−ブタジェン共重合体、スチレン−
アクリロニトリル共重合体等の重合体および共重合体が
あげられ、絶縁性と接着性が要求される。

これらのビスアゾ顔料を用いて電荷発生層３が形成され
る場合には、前記分散手段で得られたものを導電性基体
上にロールコート法、浸漬塗工法、スプレー塗工法、ブ
レード塗工法等により成膜し乾燥して膜厚０．０５μω
〜数μＩに形成すればよい。

ビスアゾ顔料の含有量は６０重量％〜１００重量％が好
ましい。

電荷発生層３の上に設けられる電荷移動層４は、帯電電
荷をその表面に保持させ、また、露光により電荷発生層
３て発生分離したキャリアを移動させて保持した帯電電
荷と結合させることを目的とする層である。帯電電荷を
保持させるために電気抵抗の高いことか要求され、また
、保持した帯電電荷で高い表面電位を得るために、誘電
率か小さくかつ電荷移動性か良いことか要求される。こ
れらの要件を満足させるべく、有機電荷移動物質を有効
成分として含有する有機系の電荷移動層４か用いられる
。

何機電荷移動物質としては、たとえば、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、α−フ
ェニルスチレンヘン系化合物、ヒドラゾン系化合物、ジ
アリールメタン系化合物、トリフェニルアミン系化合物
、ジビニルヘンゼン系化合物、フルオレイン系化合物、
アントラセン系化合物、オキサジアゾール系化合物、ジ
アミノカルバゾール系化合物など従来知られている化合
物を使用することができる。ポリビニルカルノ〈ゾール
等の重合体以外のこれら有機電荷移動物質は、前記の電
荷発生層３での結着剤として示したものと同様の樹脂へ
配合して用いられる。ただし、電荷発生層３で使用され
る樹脂と電荷移動層４て使用される樹脂とが同しである
必要はない。またこれらには、必要に応じて可塑剤が配
合される。こうした可塑剤としては、例えばハロゲン化
パラフィン、ジメチルナフタレン、ジブチルフタレート
、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート等
やポリエステル等の重合体及び共重合体などがあげられ
る。電荷移動物質と前記結合剤樹脂と（成膜時のレベリ
ング剤としての）シリコン油とを有機溶媒に溶解して、
中間層および電荷発生層と同様の方法で成膜および乾燥
して、膜厚５μｍ乃至１００μｍの電荷移動層４を電荷
発生層３上に形成する。電荷移動物質と樹脂結合剤との
割合は、２／８乃至８／２重量比であって、樹脂結合剤
に対するシリコン油の量は、０．００１重量％乃至１重
量％である。

［実施例］以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。

実施例１６ｃｍφガラスポット中に１／２量の５　ｍｍφＹＴＺ
（部分安定化ジルコニア）ボールと前記一般式（１）に
おいてＸがＣΩであるビスアゾ顔料及び一般式（２）に
おいてＡがｏ　　Ｎ　Ｏ２であるビスアゾ顔料をそれぞ
れ１．２ｇずつ、そしてポリビニルブチラール（ユニオ
ンカーバイド社ＸＹＨＬ）０．２４ｇ　、　メチルエチ
ルケトン（ＭＥＫ）　２１．３６　ｇを入れて、２０日
間ボールミル分散した。分散終了後、シクロへキサノン
２４ｇを追加して撹拌した。この分散液中の顔料粒子の
平均粒径を粒度分布測定装置（堀場製作所ＣＡＰＡ−５
００）で測定し、更にミルベース１０ｇを撹拌しながら
ＭＥＫ／シクロヘキサノン（３，７７ｇ　／　１４．３
１　ｇ　）で滴下稀釈し、電荷発生層用塗工液を調製し
、Ｅ型粘度計（東京計器ＶＩＳＣＯＮＩＣＥＤ型）を用
いて粘度を測定した。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡ９蒸
着した約１００μ■厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミラ
ー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、１２０
℃１０分間加熱乾燥して膜厚０．１　μｍ０′）電荷発
生層を形成した。

更にその上に下記電荷輸送層用塗工液をドクターブレー
ドで塗工し、１２０℃２０分間加熱乾燥し、膜厚２０μ
■の電荷輸送層を形成し電子写真用感光体を作成した。

〈電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ１４００）　　　　　
１０　ｗｔシリコンオイル（信越シリコンＫＦ５０　）
　　　　０．００２　ｖｔジクロロメタン　　　　　　
　　　　　　　　　７６　ｗｔ以上のように作成した電
子写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５Ｐ
−４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した。

まず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗所
に放置して表面電位が−８００Ｖになったところで、４
．５１ｕｘのタングステン光を照射して、このときの帯
電開始２秒後の表面電位Ｖ　、光照射の際の表面電位か
１／１０になるのに必要な露光量Ｅ　　　（ｌｕｘ　５
ｅｅ）、１ハＯ露光後３０秒後の表面電位■３ｏを求めて、結果を表１
に示した。

実施例２実施例１において、分散媒にＭＥＫの代わりにジエチル
ケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例３実施例１において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチルイ
ソブチルケトン（旧ＢＫ）を用いた。

実施例４実施例１において、一般式（２）のビスアゾ顔料として
、Ａがｍ　　Ｎ　Ｏ２であるビスアゾ顔料を用いた。

実施例５実施例１において、一般式（２）のビスアゾ顔料として
、Ａがｐ−１１ｏ２であるビスアゾ顔料を用いた。

実施例６実施例１において、一般式（２）のビスアゾ顔料として
、Ａかｏ−ＣＮであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例７実施例１において、一般式（２）のビスアゾ顔料として
、Ａがｏ　　ＣＦ　３−Ｑあるビスアゾ顔料を用いた。

実施例８実施例１において、一般式（１）のビスアゾ顔料として
、ＸがＢｒのビスアゾ顔料を用いた。

比較例１実施例１において、分散媒にＭＥＫの代わりにシクロヘ
キサノン（アノン）を用いた。

比較例２実施例１において、分散媒にＭＥＫの代わりにテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）−を用いた。

分散性・静電特性評価結果　表１粘度は、Ｅ型粘度計で１０　Ｏｒ、ｐ、ｍ、の値（２０
℃）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンアノン：シクロヘキサノンＴＨＦ　：テトラヒド口フラン実施例９６ｃｍφガラスポット中に１／２量の５ｍｍφＹＴＺ（
部分安定化ジルコニア）ボールと前記一般式（１）にお
いてＸがＣｇであるビスアゾ顔料及び一般式（３）にお
いてＲかｏ　　ＣＨａであるビスアゾ顔料をそれぞれ１
，２ｇずつ、そしてポリビニルブチラール（ユニオンカ
ーバイド社ＸＹＨＬ）０．２４ｇ　、メチルエチルケト
ン（ＭＥＫ）２１４６　ｇを入れて、２０日間ボールミ
ル分散した。分散終了後、シクロへキサノン２４ｇを追
加して撹拌した。この分散液中の顔料粒子の平均粒径を
粒度分布測定装置（堀場製作所ＣＡＰＡ−５００）で測
定し、更にミルベース１０ｇを撹拌しながらＭＥＫ／シ
クロヘキサノン（３，７７ｇ　／　１４．３１　ｇ　）
で滴下稀釈し、電荷発生層用塗工液を調製し、Ｅ型粘度
計（東京計器ｖＩｓＣＯＮＩＣＥＤ型）を用いて粘度を
測定した。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡｐ蒸
着した約１００μｍ厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミラ
ー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、１２０
℃１０分間加熱乾燥して膜＋ｖｏ、１μ園の電荷発生層
を形成した。

更にその上に下記電荷輸送層用塗工液をドクターブレー
ドで塗工し、１２０℃２０分間加熱乾燥し、膜厚２０μ
回の電荷輸送層を形成し電子写真用感光体を作成した。

く電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ１４００）　　　　　
１０　ｖｔシリコンオイル（信越シリコンＫＰ５０　）
　　　　０．００２νｔジクロロメタン　　　　　　　
　　　　　　　　７８　ｖｔ以上のように作成した電子
写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５Ｐ−
４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した。ま
ず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗所に
放置して表面電位が一８００ｖになったところで、４．
５　ｌｕｘのタングステン光を照射して、このときの帯
電開始２秒後の表面電位Ｖ　、光照射の際の表面電位が
１／１０になるのに必要な露光ｊｉＥ　　　（ｌｕｘ　
５ｅｅ）。

１／１０露光後３０秒後の表面電位Ｖ３ｏを求めて、結果を表２
に示した。

実施例１０実施例９において、分散媒にＭＥＫの代わりにジエチル
ケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例１１実施例９において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチルイ
ソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いた。

実施例１２実施例９において、一般式（３）のビスアゾ顔料として
、Ｒがｒｎ　　ＣＨａであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例１３実施例９において、一般式（３）のビスアゾ顔料として
、Ｒがｐ　　ＣＨｓであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例１４実施例９において、一般式（３）のビスアゾ顔料として
、Ｒが。−Ｃ２Ｈｓであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例１５実施例９において、一般式（３）のビスアゾ顔料として
、Ｒかｏ　　ＯＣＨａであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例１６実施例９において、一般式（３）のビスアゾ顔料として
、Ｒがｏ−ＯＣ２Ｈ５のビスアゾ顔料を用いた。

実施例１７実施例９において、一般式（１）のビスアゾ顔料として
、ＸがＢｒであるビスアゾ顔料を用いた。

比較例３実施例９において、分散媒にＭＥＫの代わりにシクロヘ
キサノン（アノン）を用いた。

比較例４実施例９において、分散媒にＭＥＫの代わりにテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。

分散性・静電特性評価結果　表２粘度は、Ｅ型粘度計で１０　Ｏｒ、ｐ、ｍ、の値（２０
℃）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫ　ニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンアノン：シクロヘキサノンＴＨＦ：テトラヒドロフラン実施例１８６ｃｍφガラスポット中に１／２量の５關φＹＴＺ（部
分安定化ジルコニア）ホールと前記一般式＜１）のビス
アゾ顔料として、ＸがＣｐであるビスアゾ顔料と一般式
（４）のビスアゾ顔料としてＣかＨであるビスアゾ顔料をそれぞれ１．２　ｇずつ、そして
ポリビニルブチラール（ユニオンカーバイト社ＸＹＨＩ
、）０．２４ｇ、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２１．
３８　ｇを入れて、２０日間ボールミル分散した。

分散終了後、シクロへキサノン２４　ｇを追加して撹拌
した。この分散液中の顔料粒子の平均粒径を粒度分布測
定装置（堀場製作所ＣＡＰＡ−５００）で測定し、更に
ミルベース１０ｇを撹拌しながらＭＥＫ／シクロヘキサ
ノン（３，７７ｇ　／　１４．３１　ｇ　）で滴下稀釈
し、電荷発生層用塗工液を調製し、Ｅ型粘度計（東京計
器　ＶＩＳ　Ｃ０ＮＩＣＥＤ型）を用いて粘度を測定し
た。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡＩ蒸
着した約１００μｍ厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミラ
ー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、１２０
℃１０分間加熱乾燥して膜厚０．１μｌの電荷発生層を
形成した。

更にその上に下記電荷輸送層用塗工液をドクターブレー
ドで塗工し、１２０℃２０分間加熱乾燥し、膜厚２０μ
麿の電荷輸送層を形成し電子写真用感光体を作成した。

く電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ１４０Ｑ）　　　　　
１０　ｖＬシリコンオイル（信越シリコンＫＦ５０　）
　　　　０．００２　ｖｔジクロロメタン　　　　　　
　　　　　　　　　７６　ｗｔ以上のように作成した電
子写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５Ｐ
−４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した。

まず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗所
に放置して表面電位が一８００ｖになったところで、４
．５　ｌｕｘのタングステン光を照射して、このときの
帯電開始２秒後の表面電位Ｖ　、光照射の際の表面電位
が１／１０になるのに必要な露光量Ｅ　　　（ｌｕｘ　
５ｅｅ）、１／１０露光後３０秒後の表面電位Ｖ３ｏを求めて、結果を表３
に示した。

実施例１９実施例１８において、分散媒にＭＥＫの代わりにジエチ
ルケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例２０実施例１８において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチル
イソブチルケトン（旧ＢＫ）を用いた。

実施例２１実施例１８において、一般式（４）のビスアゾ顔料とし
てＣｐがであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例２２実施例１８において、一般式（１）のビスアゾ顔料とし
て、ＸがＢｒのビスアゾ顔料を用いた。

比較例５実施例１８において、分散媒にＭＥＫの代わりにシクロ
ヘキサノン（アノン）を用いた。

比較例６実施例１８において、分散媒にＭＥＫの代わりにテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。

分散性・静電特性評価結果　表３粘度は、Ｅ型粘度計で１０　Ｏｒ、ｐ、＋ａ、の値（２
０℃）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンアノン：シクロヘキサノンＴＨＦ　：テトラヒドロフラン実施例２３６ｃｍφガラスポット中に１／２量の５　ｍｍφＹＴＺ
（部分安定化ジルコニア）ボールと前記一般式（１）の
ビスアゾ顔料として、ＸがＣΩであるビスアゾ顔料と、
一般式（５）のビスアゾ顔料としてＡｒかフェニル、Ｒ
かメチルであるビスアゾ顔料をそれぞれ１．２ｇずつ、
そしてポリビニルブチラール（ユニオンカーバイド社Ｘ
ＹＨＬ）０．２４ｇ　、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）
　２１．３６　ｇを入れて、２０日間ボールミル分散し
た。分散終了後、シクロへキサノン２４ｇを追加して撹
拌した。この分散液中の顔料粒子の平均粒径を粒度分布
測定装置（板場製作所ＣＡＰ＾−５００）で測定し、更
にミルベース１０ｇを撹拌しながらＭＥＫ／シクロヘキ
サノン（３，７７ｇ／１４．３１　ｇ）で滴下稀釈し、
電荷発生層用塗工液を調製し、Ｅ型粘度計（東京計器　
ｖＩｓＣＯＮＩＣＥＤ型）を用いて粘度を測定した。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡ、９
蒸着した約１００μｍ厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミ
ラー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、］２
０℃１０分間加熱乾燥して膜厚０．１μｍの電荷発生層
を形成した。

更にその上に下記電荷輸送層用塗工液をドクターブレー
ドで塗工し、１２０℃２０分間加熱乾燥し、膜厚２０μ
ｍの電荷輸送層を形成し電子写真用感光体を作成した。

く電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ１４００）　　　　　
　１０　ｗｔシリコンオイル（信越シリコンＫＦ５０　
）　　　　０．００２　ｗｔジクロロメタン　　　　　
　　　　　　　　　　７６　ｗｔ以上のように作成した
電子写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５
Ｐ−４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した
。まず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗
所に放置して表面電位が一８００Ｖになったところで、
４．５１ｕＸのタングステン光を照射して、このときの
帯電開始２秒後の表面型ＱＶ　　、光照射の際の表面電
位がｌ／１０になるのに必要な露光量Ｅ　　　（ｌｕｘ
　５ｅｅ）、ｌ／１０露光後３０秒後の表面電位Ｖ３ｏを求めて、結果を表４
に示した。

実施例２４実施例２３において、分散媒にＭＥＫＯ代わりにジエチ
ルケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例２５実施例２３において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチル
イソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いた。

実施例２６実施例２３において、一般式（５）のビスアゾ顔料とし
て、Ａｒがフェニル、Ｒがカルボキシル基であるビスア
ゾ顔料を用いた。

実施例２７実ｍ例２Ｂにおいて、一般式（５）のビスアゾ顔料とし
て、Ａｒがフェニル、Ｒが−ＣＯＯＣ２Ｈ５であるビス
アゾ顔料を用いた。

実施例２８実施例２３において、一般式（５）のビスアゾ顔料とし
て、Ａｒがｐ−クロロフェニル、Ｒかメチルであるビス
アゾ顔料を用いた。

実施例２９実施例２３において、一般式（５）のビスアゾ顔料とし
て、Ａｒがｐ−メトキシフェニル、Ｒがメチルであるビ
スアゾ顔料を用いた。

実施例３０実施例２３において、一般式（５）のビスアゾ顔料とし
て、Ａｒがβ−ナフチル、Ｒがメチルであるビスアゾ顔
料を用いた。

実施例３１実施例２３において、一般式（１）のビスアゾ顔料とし
て、ＸがＢｒであるビスアゾ顔料を用いた。

比較例７実施例２３において、分散媒にＭＥＫの代わりにシクロ
ヘキサノン（アノン）を用いた。

比較例８実施例２３において、分散媒にＭＥＫの代わりにテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。

分散性・静電特性評価結果　表４粘度は、Ｅ型粘度計で１００ｒ、ｐ、ｍ、の値（２０℃
）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンアノン：シクロヘキサノンＴＨＦ　：テトラヒドロフラン実施例３２６　ｅｎ＋φガラスポット中にｌ／２　ｆｆｉの５關φ
ＹＴＺ（部分安定化ジルコニア）ボールと前記一般式（
１）のビスアゾ顔料として、ＸかＣΩであるビスアゾ顔
料と、一般式（６）のビスアゾ顔料として、ＲがＨであ
るビスアゾ顔料をそれぞれ１．２ｇずつ、そしてポリビ
ニルブチラール（ユニオンカーバイド社ＸＹＨＬ）　０
　、２４　ｇ　、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２１．
３６　ｉを入れて、２０日間ボールミル分散した。

分散終了後、シクロへキサノン２４ｇを追加して撹拌し
た。この分散液中の顔料粒子の平均粒径を粒度分布測定
装置（板場製作所ＣＡＰ＾−５００）で測定し、更にミ
ルベース１０ｇを撹拌しながらＭＥＫ／シクロヘキサノ
ン（３，７７ｇ／１４．３１　ｇ）で滴下稀釈し、電荷
発生層用塗工液を調製し、Ｅ型粘度計（東京計器　ＶＩ
Ｓ　Ｃ０ＮＩＣＥＤ型）を用いて粘度を測定した。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡｌｌ
蒸着した約１００μ■厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミ
ラー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、１２
０℃１０分間加熱乾燥して膜Ｊｖｏ、ｔμｍの電荷発生
層を形成した。

く電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ１４００）　　　　　
１０　ｗｔシリコンオイル（信越シリコンＫＰ５０　）
　　　　０．００２　ｖｔジクロロメタン　　　　　　
　　　　　　　　　７θνを以上のように作成した電子
写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５Ｐ−
４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した。ま
ず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗所に
放置して表面電位が一８００■になったところで、４．
５１ｕｘのタングステン光を照射して、このときの帯電
開始２秒後の表面電位ｖ　１光照射の際の表面電位力用
７１０になるのに必要な露光量Ｅ　　　　（ｌｕｘ　５
ｅｅ）、１／１０露光後３０秒後の表面電位Ｖ３ｏを求めて、結果を表５
に示した。

実施例３３実施例３２において、分散媒にＭＥＫの代わりにジエチ
ルケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例３４実施例３２において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチル
イソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いた。

実施例３５実施例３２において、一般式（６）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがメチルであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例３６実施例３２において、一般式（６）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがフェニルであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例３７実施例３２において、一般式（６）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｐ−クロロフェニルであるビスアゾ顔料を用い
た。

実施例３８実施例３２において、一般式（６）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｐ−メトキシフェニルであるビスアゾ顔料を用
いた。

実施例３９実施例３２において、一般式（６）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｏ、ｐ−ジメトキシフェニルであるビスアゾ顔
料を用いた。

実施例４０実施例３２において、一般式（６）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒが。−二トローｐ−メトキシフェニルであるビス
アゾ顔料を用いた。

実施例４１実施例３２において、一般式（６）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒが０−メチル−ｐ−クロロフェニルであるビスア
ゾ顔料を用いた。

実施例４２実施例３２において、一般式（１）のビスアゾ顔料とし
て、ＸがＢｒであるビスアゾ顔料を用いた。

比較例９実施例３２において、分散媒にＭＥＫの代わりにシクロ
ヘキサノン（アノン）を用いた。

比較例１０実施例３２において、分散媒にＭＥＫの代わりにテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。

分散性・静電特性評価結果　表５粘度は、Ｅ型粘度計で１０　Ｏｒ、ｐ、ｔの値（２０℃
）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫ　ニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンアノン：シクロヘキサノンＴＨＦ　：テトラヒドロフラン実施例４３６　ｃｍφｍシカラスポット中／２量の５１１ＩＩｌφ
Ｙ　Ｔ　Ｚ（部分安定化ジルコニア）ボールと前記一般
式（１）のビスアゾ顔料として、ＸかＣｐであるビスア
ゾ顔料と、一般式（７）のビスアゾ顔料として、Ｒ１か
Ｃｐ、ＲかＨ，Ｒ３かＣｐ、Ｒ４かＨであるビスアゾ顔
料をそれぞれ１．２ｇずつ、そしてポリビニルブチラー
ル（ユニオンカーバイト社ＸＹＨＬ）０．２４ｇ　、メ
チルエチルケトン（ＭＥＫ）　２１．３６　ｇを入れて
、２０日間ボールミル分散した。分散終了後、シクロヘ
キサノン２４ｇを追加して撹拌した。この分散液中の顔
料粒子の平均粒径を粒度分布測定装置（板場製作所Ｃ’
ＡＰＡ−５００）で測定し、更にミルベース１０ｇを撹
拌しなからＭＥＫ／シクロヘキサノン（３，７７１；　
／　１４．３１　ｇ　）で滴下稀釈し、電荷発生層用塗
工液を調製し、Ｅ型粘度計（東京計器　ＶＩＳ　Ｃ０Ｎ
ＩＣＥＤ型）を用いて粘度を測定した。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡｆｉ
蒸着した約１００μｍ厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミ
ラー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、１２
０℃１０分間加熱乾燥して膜厚０，１μｍの電荷発生層
を形成した。

く電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ１４００）　　　　　
１０　ｖｔシリコンオイル（信越シリコンＫＦ５０　）
　　　　０．００２　ｗｔジクロロメタン　　　　　　
　　　　　　　　　７６　ｗｔ以上のように作成した電
子写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５Ｐ
−４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した。

まず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗所
に放置して表面電位が一８００ｖになったところで、４
．５　ｌｕｘのタングステン光を照射して、このときの
帯電開始２秒後の表面電位Ｖ　、光照射の際の表面電位
が１／１０になるのに必要な露光ｆｆｉ　Ｅ　　　（ｌ
ｕｘ　５ｅｅ）、１／１０露光後３０秒後の表面電位Ｖ３ｏを求めて、結果を表６
に示した。

実施例４４実施例４３において、分散媒にＭＥＫの代わりにジエチ
ルケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例４５実施例４３において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチル
イソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いた。

実施例４６実施例４３において、一般式（７）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ１がＣ１、Ｒ２がＨＳＲ３がＣＨ３、Ｒ４がＨで
あるビスアゾ顔料を用いた。

実施例４７実施例４３において、一般式（７）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ、ＲがＣＨ，Ｒ，ＲがＲであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例４８実施例４３において、一般式（ア）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ、ＲかＯＣＨＳＲ、ＲがＨであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例４つ実施例４３において、一般式（了）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ，Ｒ２，ＲがＯＣＨ，ＲかＨであるビスアゾ顔料
を用いた。

実施例５０実施例４３において、一般式（７）のビスアゾ顔料とし
て、ＲがＣＨ、Ｒ、ＲかＨ，Ｒ３かＣｇであるビスアゾ
顔料を用いた。

実施例５１実施例４３において、一般式（７）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ、ＲがＯＣＨ，ＲがＨｌｌ　　３　　　３　２Ｒ４かＣｇであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例５２実施例４３において、一般式（１）のビスアゾ顔料とし
、ＸがＢｒであるビスアゾ顔料を用いた。

比較例１１実施例４３において、分散媒にＭＥＫの代わり１こシク
ロヘキサノン（フラン）を用いｔこ。

比較例１２実施例４３において、分散媒にＭＥＫの代わりにテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。

分散性・静電特性評価結果　表６粘度は、Ｅ型粘度計で１０　Ｏｒ、ｐ、＋ａ、の値（２
０℃）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンフラン：シクロヘキサノンＴＨＦ　：テトラヒドロフラン実施例５３６ｃｍφガラスポット中に１／２量の５關φＹＴＺ（部
分安定化ジルコニア）ボールと前記一般式（１）のビス
アゾ顔料として、ＸがＣＩｌであるビスアゾ顔料と、一
般式（８）のビスアゾ顔料として、Ｒ１゜Ｒ、Ｒ、Ｒ、
ＲがすべてＨであるビスアゾ顔料をそれぞれ１．２ｇず
つ、そしてポリビニルブチラール（ユニオンカーバイド
社ＸＹＨＬ）０．２４［。

メチルエチルケトン（ＭＥＫ）　２１．３８　ｇを入れ
て、２０日間ボールミル分散した。分散終了後、シクロ
へキサノン２４ｇを追加して撹拌した。この分散液中の
顔料粒子の平均粒径を粒度分布測定装置（板場製作所Ｃ
ＡＰＡ−５００）で測定し、更にミルベース１０ｇを撹
拌しながらＭＥＫ／シクロヘキサノン（３，７７ｇ　／
　１４．３１　ｇ　）で滴下稀釈し、電荷発生層用塗工
液を調製し、Ｅ型粘度計（東京計器ＶＩＳＣＯＮＩＣＥ
Ｄ型）を用いて粘度を測定した。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡＩ！
蒸着した約１００μ−厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミ
ラー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、１２
０℃１０分間加熱乾燥して膜厚０．１μ■の電荷発生層
を形成した。

〈電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ］４００）　　　　　
１０νｔシリコンオイル（信越シリコンＫＦ５０　）　
　　　０．００２　ｖｔジクロロメタン　　　　　　　
　　　　　　　　７８　ｖｔ以上のように作成した電子
写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５Ｐ−
４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した。ま
ず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗所に
放置して表面電位が一８００■になったところで、４．
５１ｕｘのタングステン光を照射して、このときの帯電
開始２秒後の表面電位■　、光照射の際の表面電位か１
／１０になるのに必要な露光量Ｅ　　　（ｌｕｘ　５ｅ
ｅ）、１／ｌＯ露光後３０秒後の表面電位ｖ３ｏを求めて、結果を表７
に示した。

実施例５４実施例５３において、分散媒にＭＥＫの代わりにジエチ
ルケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例５５実施例５３において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチル
イソブチルケトンＣＭＩＢＫ）を用いた。

実施例５６実施例５３において、一般式（８）のビスアゾ顔料とし
てＲ、Ｒ、Ｒ、ＲがＨ，Ｒ２がＣＨａであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例５７実施例５３において、一般式（８）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ５がＨ−Ｒ２が０ＣＨ３であるビス
アゾ顔料を用いた。

実施例５８実施例５３において、一般式（８）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ、Ｒ、Ｒ、ＲがＨ１Ｒ２がＦであるビスアゾ顔料
を用いた。

実施例５９実施例５３において、一般式（８）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒ、Ｒ、Ｒ、ＲがＨＳＲ２がＣＩ？であるビスアゾ
顔料を用いた。

実施例６０実施例５３において、一般式（８）のビスアゾ顔料とし
て、ＲがＣＨ、Ｒ、Ｒ、Ｒ４゜Ｒ５がＨであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例６１実施例５３において、一般式（８）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがベンジル、Ｒ，Ｒ，Ｒ４゜Ｒ５がＨであるビス
アゾ顔料を用いた。

実施例６２実施例５３において、一般式（８）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがフェニル、Ｒ，Ｒ，Ｒ４゜Ｒ５がＨであるビス
アゾ顔料を用いた。

実施例６３実施例５３において、一般式（１）のビスアゾ顔料とし
て、ＸがＢｒであるビスアゾ顔料を用いた。

比較例１３実施例５３において、分散媒にＭＥＫの代わりにシクロ
ヘキサノン（フラン）を用いた。

比較例１４実施例５３において、分散媒にＭ　Ｅ　Ｋの代わりにテ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。

分散性・静電特性評価結果　表７粘度は、Ｅ型粘度計で１０　Ｏｒ、ｐ、ｍ、の値（２０
℃）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫ　ニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンアノン；シクロヘキサノンＴＨＦ　：テトラヒドロフラン実施例６４６ｃｍφガラスポット中に１７２量の５■ｌφＹＴＺ（
部分安定化ジルコニア）ボールと前記一般式（１）のビ
スアゾ顔料として、ＸがＣΩであるビスアゾ顔料と、一
般式（９）のビスアゾ顔料として、ＲがＨであるビスア
ゾ顔料をそれぞれ１．２　ｇずつ、そしてポリビニルブ
チラール（ユニオンカーバイド社ＸＹＨＬ）　０．２４
ｇ　、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）２１．３６　ｇを
入れて、２０日間ボールミル分散した。

分散終了後、シクロへキサノン２４ｇを追加して撹拌し
た。この分散液中の顔料粒子の平均粒径を粒度分布測定
装置（板場製作所ＣＡＰＡ−５００）で測定し、更にミ
ルベース１０ｇを撹拌しながらＭＥＫ／シクロヘキサノ
ン（３，７７ｇ／１４．３１　ｇ）で滴下稀釈し、電荷
発生層用塗工液を調製し、Ｅ型粘度計（東京計器　ＶＩ
Ｓ　Ｃ０ＮＩＣＥＤ型）を用いて粘度を測定した。

以上のようにして調製した電荷発生層用塗工液をＡｆｆ
蒸着した約１００μ貌厚のＰＥＴフィルム（東し　ルミ
ラー）の表面にドクターブレードを用いて塗工し、１２
０℃１０分間加熱乾燥して膜厚０．１　μＩの電荷発生
層を形成した。

く電荷輸送層用塗工液〉ポリカーボネート（パンライトＣ１４００）　　　　　
　１０　ｗｔシリコンオイル（信越シリコンＫＦ５０　
）　　　　０．００２　ｗｔジクロロメタン　　　　　
　　　　　　　　　　７６シを以上のように作成した電
子写真用感光体を静電複写紙装置（川口電気製作所５Ｐ
−４２８）を用いて、次のように静電特性を評価した。

まず−６ｋＶのコロナ帯電を２０秒間行ない、次に暗所
に放置して表面電位が一８００■になったところで、４
．５　ｌｕｘ表面電位が一８００Ｖになったところて、
４．５　ｌｕｘのタングステン光を照射して、このとき
の帯電開始２秒後の表面電位Ｖ　、光照射の際の表面電
位が１／１０になるのに必要な露光量Ｅ　　　（ｌｕｘ
　５ｅｅ）、１／ＬＯ露光後３０秒後の表面電位Ｖ３ｏを求めて、結果を表８
に示した。

実施例６５実施例６４において、分散媒にＭＥＫの代わりにジエチ
ルケトン（Ｄ　Ｅ　Ｋ）を用いた。

実施例６６実施例６４において、分散媒にＭＥＫの代わりにメチル
イソブチルケトン（旧ＢＫ）を用いた。

実施例６７実施例６４において、一般式（９）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｏ　　ＣＨａであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例６８実施例６４において、一般式（９）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｒｎ　　ＣＨａであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例６９実施例６４において、一般式（９）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒかｏ−Ｃ２Ｈ５であるビスアゾ顔料を用いた。

実施例７０実施例６４において、一般式（９）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｏ　　ＯＣＨａであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例７１実施例６４において、一般式（９〉のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｍ　　ＯＣＨａであるビスアゾ顔料を用いた。

実施例７２実施例６４において、一般式（９）のビスアゾ顔料とし
て、Ｒがｏ−ＯＣ２Ｈ５であるビスアゾ顔料を用いた。

実施例７３実施例６４において、一般式（１）のビスアゾ顔料とし
て、ＸがＢｒであるビスアゾ顔料を用いた。

比較例１５実施例６４において、分散媒にＭＥＫの代わりにシクロ
ヘキサノン（フラン）を用いた。

比較例１６実施例６４において、分散媒にＭ　Ｅ　Ｋの代わりにテ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。

粘度は、Ｅ型粘度計で１０　Ｏｒ、ｐ、ｗ、の値（２０
℃）ＭＥＫ：メチルエチルケトンＤＥＫニジエチルケトンＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトンアノン：シクロヘキサノンＴＨＦ　：テトラヒドロフラン［発明の効果コ以上説明したように、本発明により二種のビスアゾ顔料
を分散媒としてアルキルケトンを用いて混合分散して得
た分散液を用いて作成された電子写真用感光体は、優れ
た静電特性を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は単層型感光体の層構成を説明する図、第２図は
積層型感光体の層構成を説明する図。１・・・導電性基体、２・・・単層型感光層、２′・・
積層型感光層、３・・・電荷発生層、４・・・電荷移動
層。特許出願人　株式会社　　リコー代理人　弁理士　小　松　秀　岳

Claims

【特許請求の範囲】（１）導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子
写真感光体において、感光層中に、分散媒としてアルキ
ルケトンを用いて分散した二種のビスアゾ顔料を電荷発
生物質として用いることを特徴とする電子写真用感光体
。（２）一種のビスアゾ顔料が下記一般式（１）で示され
るビスアゾ顔料である請求項（１）記載の電子写真用感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（１）［ただし、Ｘはハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉを表
す。］（３）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（２）で示され
るビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電子写真用感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（２）［ただし、Ａは−ＮＯ＿２、−ＣＮ、−ＣＦ＿３を表わ
す。］（４）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（３）で示され
るビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電子写真用感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（３）［ただし、Ｒはアルキル基又はアルコキシ基を表わす。］（５）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（４）で示され
るビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電子写真用感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（４）［ただし、Ｃｐは▲数式、化学式、表等があります▼又
は ▲数式、化学式、表等があります▼を表わす。］（６）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（５）で示され
るビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電子写真用感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（５）［ただし、Ｒは低級アルキル基、カルボキシル基、及び
そのエステルから成る群から選択される。Ａｒは置換基を有するか又は有しないベンゼン環、ナフ
タレン環などの芳香環を表わす。］（７）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（６）で示され
るビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電子写真用感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（６）［ただし、Ｒは水素、アルキル基、置換されても良いフ
ェニル基を表わす。］（８）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（７）で示され
るビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電子写真用感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（７）［ただし、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４の中の０〜
２個は水素原子から成り、他の２〜４個はハロゲン原子
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、アルキル基、アルコキシ基か
ら成る。］（９）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（８
）で示されるビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電
子写真用感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（８）［ただし、Ｒ＿１は水素、メチル、フェニル、ベンジル
基を表わし、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は水素、
アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を表わす。］（１０）他方のビスアゾ顔料が下記一般式（９）で示さ
れるビスアゾ顔料である請求項（２）記載の電子写真用
感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（９）［ただし、Ｒは水素、アルキル基又はアルコキシ基を表
わす。］