JPH04151088A - 真空用回転可撓管および該真空用回転可撓管を用いた真空配管構造 - Google Patents
真空用回転可撓管および該真空用回転可撓管を用いた真空配管構造Info
- Publication number
- JPH04151088A JPH04151088A JP2272413A JP27241390A JPH04151088A JP H04151088 A JPH04151088 A JP H04151088A JP 2272413 A JP2272413 A JP 2272413A JP 27241390 A JP27241390 A JP 27241390A JP H04151088 A JPH04151088 A JP H04151088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- vacuum chamber
- bellows
- vacuum piping
- piping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 4
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Joints Allowing Movement (AREA)
- Rigid Pipes And Flexible Pipes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は真空用回転可撓管および該真空用回転可撓管を
用いた真空配管構造に関する。
用いた真空配管構造に関する。
[従来の技術]
真空配管を用いる装置、としては、例えば、X線源が発
するX線ビームを前記真空配管を通して露光用の真空チ
ャンバへ導くX線露光装置がある。
するX線ビームを前記真空配管を通して露光用の真空チ
ャンバへ導くX線露光装置がある。
X線露光装置においては、マスクおよびウェハを載置し
てそれらの位置合わせを行なうためのマスフステージお
よびウェハステージ等が、X線吸収の少ない気体(例え
ばHe)を充填した真空チャンバである、気密なステー
ジ収納室に収納されている。該ステージ収納室にはX線
を透過する遮断窓が設けられており、X線源からのX線
ビームを、該X線源と前記ステージ収納室とを連結する
ために固定された、内部が超高真空の真空配管であるビ
ームボートを通して前記遮断窓へ導き、該遮断窓を介し
て前記ステージ収納室内のマスクおよびウェハに照射し
て、ステップ&リピート方式で前記ウェハ上にパターン
を焼付けるもの(例えば特開昭54−24267号公報
に記載のもの)が知られており、前記マスクとウェハに
対しては、高精度な位置合わせが要求されるため、前記
ステージ収納室は、床等からの振動を抑える除振ユニッ
トによって支持された構成となっている。
てそれらの位置合わせを行なうためのマスフステージお
よびウェハステージ等が、X線吸収の少ない気体(例え
ばHe)を充填した真空チャンバである、気密なステー
ジ収納室に収納されている。該ステージ収納室にはX線
を透過する遮断窓が設けられており、X線源からのX線
ビームを、該X線源と前記ステージ収納室とを連結する
ために固定された、内部が超高真空の真空配管であるビ
ームボートを通して前記遮断窓へ導き、該遮断窓を介し
て前記ステージ収納室内のマスクおよびウェハに照射し
て、ステップ&リピート方式で前記ウェハ上にパターン
を焼付けるもの(例えば特開昭54−24267号公報
に記載のもの)が知られており、前記マスクとウェハに
対しては、高精度な位置合わせが要求されるため、前記
ステージ収納室は、床等からの振動を抑える除振ユニッ
トによって支持された構成となっている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記従来の技術では、X線露光装置か、
ステップ&リピート方式でウェハ上にパターンを焼付け
るため、ウェハを載置したウェハステージが横方向に移
動し、その際、ステージ収納室内で、前記ウェハステー
ジの移動による重心の横方向への移動が起る。この場合
、前記ステージ収納室は、除振ユニットによって支持さ
れているため、X線源と前記ステージ収納室を連結する
ビームボートの軸を中心にした回転方向の力が生じるが
、前記ビームボートは、固定されており、前記回転方向
の力を吸収することができないので、前記ステージ収納
室との連結部に力が加わって破損してしまい、気密性が
損われるという問題点がある。
ステップ&リピート方式でウェハ上にパターンを焼付け
るため、ウェハを載置したウェハステージが横方向に移
動し、その際、ステージ収納室内で、前記ウェハステー
ジの移動による重心の横方向への移動が起る。この場合
、前記ステージ収納室は、除振ユニットによって支持さ
れているため、X線源と前記ステージ収納室を連結する
ビームボートの軸を中心にした回転方向の力が生じるが
、前記ビームボートは、固定されており、前記回転方向
の力を吸収することができないので、前記ステージ収納
室との連結部に力が加わって破損してしまい、気密性が
損われるという問題点がある。
本発明は、上記従来の技術が有する問題点に鑑みてなさ
れたもので、真空配管の軸方向および該軸を中心とした
回転方向へ加わる力を吸収して、前記真空配管の破損を
防止する、真空用回転可視管および該真空用回転可撓管
を用いた真空配管構造を提供することを目的としている
。
れたもので、真空配管の軸方向および該軸を中心とした
回転方向へ加わる力を吸収して、前記真空配管の破損を
防止する、真空用回転可視管および該真空用回転可撓管
を用いた真空配管構造を提供することを目的としている
。
[課題を解決するための手段]
本発明の真空用回転可撓管は、対角線の長さが異なる平
行四辺形の板状体を、その長い方の対角線に沿って折曲
したものを単位部材とし、少なくとも3個の前記単位部
材を、互いに対向する一辺同士で前記長い方の対角線の
折曲方向とは逆方向に折曲した状態で、一体的に気密に
連結してリング状体を形成し、該リング状体を、前記単
位部材の他辺同士で複数個気密に連結して一本の筒状体
としたものである。
行四辺形の板状体を、その長い方の対角線に沿って折曲
したものを単位部材とし、少なくとも3個の前記単位部
材を、互いに対向する一辺同士で前記長い方の対角線の
折曲方向とは逆方向に折曲した状態で、一体的に気密に
連結してリング状体を形成し、該リング状体を、前記単
位部材の他辺同士で複数個気密に連結して一本の筒状体
としたものである。
また本発明は、除振ユニットによって支持された真空チ
ャンバへ連結される真空配管構造であって、 真空配管の真空チャンバとの結合部に、前記真空配管の
軸方向に長尺の前記真空用回転可撓管を気密に連結した
ものであり、 さらに、除振ユニットによって支持された真空チャンバ
へ連結される真空配管構造であって、真空配管の真空チ
ャンバとの結合部に、前記真空用回転可視管と、前記真
空配管の軸方向に伸縮自在の伸縮可撓管とを気密に連結
したものである。
ャンバへ連結される真空配管構造であって、 真空配管の真空チャンバとの結合部に、前記真空配管の
軸方向に長尺の前記真空用回転可撓管を気密に連結した
ものであり、 さらに、除振ユニットによって支持された真空チャンバ
へ連結される真空配管構造であって、真空配管の真空チ
ャンバとの結合部に、前記真空用回転可視管と、前記真
空配管の軸方向に伸縮自在の伸縮可撓管とを気密に連結
したものである。
前記真空配管構造では真空チャンバがX線露光用のもの
であり、真空配管はX線ビームを前記真空チャンバへ導
くものか考えられる。
であり、真空配管はX線ビームを前記真空チャンバへ導
くものか考えられる。
[作 用]
本発明の真空用回転可撓管を形成するリング状体の上面
および下面は、共に正多角形であり、互いに所定の角度
ねじれた位置にある。このリング状体に対して、その軸
方向に押圧するような力が加わると、該リング状体は、
単位部材を形成する平行四辺形の長い方の対角線と該単
位部材相互の接合部となった前記平行四辺形の一方の辺
に沿って折曲るので、各単位部材において、前記対角線
によって分割された二つの三角形が同方向に倒れるよう
になって、前記上、下面が、ねじれた角度を増すように
互いに逆方向に回転しながら接近する。また、その状態
から元に戻る場合、前記上、下面は、互いに、前述とは
逆方向に回転するようにして離れていく。本発明の真空
用回転可撓管は、上述のようなリング状体を、前記単位
部材を形成する平行四辺形の他方の辺同士で連結した−
木の筒状体からなるもので、その軸方向への伸縮にとも
なって回転可能なものである。
および下面は、共に正多角形であり、互いに所定の角度
ねじれた位置にある。このリング状体に対して、その軸
方向に押圧するような力が加わると、該リング状体は、
単位部材を形成する平行四辺形の長い方の対角線と該単
位部材相互の接合部となった前記平行四辺形の一方の辺
に沿って折曲るので、各単位部材において、前記対角線
によって分割された二つの三角形が同方向に倒れるよう
になって、前記上、下面が、ねじれた角度を増すように
互いに逆方向に回転しながら接近する。また、その状態
から元に戻る場合、前記上、下面は、互いに、前述とは
逆方向に回転するようにして離れていく。本発明の真空
用回転可撓管は、上述のようなリング状体を、前記単位
部材を形成する平行四辺形の他方の辺同士で連結した−
木の筒状体からなるもので、その軸方向への伸縮にとも
なって回転可能なものである。
また、本発明の真空配管構造は真空チャンバとの結合部
に、請求項第2項に記載のもののように、前記真空配管
の軸方向に長尺の上述のような真空用回転可視管かある
いは請求項第3項に記載のもののように、上述のような
真空用回転可撓管とともに伸縮可撓管を連結するので、
真空配管の軸方向の伸縮率が大きくなるとともに軸を中
心にした回転も可能となり前記真空チャンバが傾斜した
場合に前記真空配管に加わる力を前記結合部にて吸収す
ることができる。
に、請求項第2項に記載のもののように、前記真空配管
の軸方向に長尺の上述のような真空用回転可視管かある
いは請求項第3項に記載のもののように、上述のような
真空用回転可撓管とともに伸縮可撓管を連結するので、
真空配管の軸方向の伸縮率が大きくなるとともに軸を中
心にした回転も可能となり前記真空チャンバが傾斜した
場合に前記真空配管に加わる力を前記結合部にて吸収す
ることができる。
[実施例]
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は、本発明の真空用回転可撓管を用いた真空配管
構造を実施するためのX線露光装置の一例を示す断面図
である。
構造を実施するためのX線露光装置の一例を示す断面図
である。
本実施例のX線露光装置は、ステップ&リピート方式で
ウェハ2上へパターンの焼付けを行なうもので、ウェハ
2を載置して、該ウェハ2と不図示のマスクとの位置合
わせを行なうためのウェハ移送用Xステージ3およびウ
ェハ移送用Yステージ4が剛に固定されたメインフレー
ム5が真空チャンバ1内に収納されており、不図示のX
線源が発するX線ビーム17が、該X線源と前記真空チ
ャンバ1とを連結した真空配管であるビームボート11
を通して前記真空チャンバ1内へ導かれて、前記マスク
を照射してウェハ2上へパターンの焼付けを行なう。
ウェハ2上へパターンの焼付けを行なうもので、ウェハ
2を載置して、該ウェハ2と不図示のマスクとの位置合
わせを行なうためのウェハ移送用Xステージ3およびウ
ェハ移送用Yステージ4が剛に固定されたメインフレー
ム5が真空チャンバ1内に収納されており、不図示のX
線源が発するX線ビーム17が、該X線源と前記真空チ
ャンバ1とを連結した真空配管であるビームボート11
を通して前記真空チャンバ1内へ導かれて、前記マスク
を照射してウェハ2上へパターンの焼付けを行なう。
前記真空チャンバ1は、床18上に該床18からの振動
を抑えるための4個の除振ユニットによりて支持されて
おり、さらに、該真空チャンバ1には真空チャンバ1内
を、露光雰囲気の減圧雰囲気に保つため低真空用バルブ
13が介在された管路によって低真空用ポンプ14が連
結されている。また、前記メインフレーム5は、前記真
空チャンバ1内で、その上壁の2点と、下面の1点との
3点で固定されており(第4図参照)、該真空チャンバ
1の、ウェハ2と対向する面には、前記ビームボート1
1によって導かれるX線ビーム17を透過し、かつ、該
真空チャンバ1と前記ビームポート11との差圧に耐え
得る遮断窓7が形成されており、前記X線ビーム17は
該遮断窓7を透過して、前記マスクおよびウェハ2を照
射する。
を抑えるための4個の除振ユニットによりて支持されて
おり、さらに、該真空チャンバ1には真空チャンバ1内
を、露光雰囲気の減圧雰囲気に保つため低真空用バルブ
13が介在された管路によって低真空用ポンプ14が連
結されている。また、前記メインフレーム5は、前記真
空チャンバ1内で、その上壁の2点と、下面の1点との
3点で固定されており(第4図参照)、該真空チャンバ
1の、ウェハ2と対向する面には、前記ビームボート1
1によって導かれるX線ビーム17を透過し、かつ、該
真空チャンバ1と前記ビームポート11との差圧に耐え
得る遮断窓7が形成されており、前記X線ビーム17は
該遮断窓7を透過して、前記マスクおよびウェハ2を照
射する。
X線ビーム17を真空チャンバ1へ導くビームボート1
1は、床18上に立設された2本の支持ボール12a、
12bによって固定されており、該支持ポール12a、
12bの中間部分に、前記ビームポート11内を超高真
空にするため、超高真空用バルブ15が介在された管路
によって超高真空用ポンプ16が連結されている。
1は、床18上に立設された2本の支持ボール12a、
12bによって固定されており、該支持ポール12a、
12bの中間部分に、前記ビームポート11内を超高真
空にするため、超高真空用バルブ15が介在された管路
によって超高真空用ポンプ16が連結されている。
また、ビームボート11と真空チャンバ1との結合部に
は、該ビームボート11の真空チャンバ1側の端部に、
該ビームボート11の軸方向に伸縮自在であるとともに
、該軸方向への伸縮にともなって前記ビームボート11
の軸を中心とした回転が可能な、真空用回転可撓管であ
るねじれベローズ9がOリング10bを介して気密に連
結されており、ざらに、該ねじれベローズ9の反ビーム
ボート側には、前記ビームボート11の軸方向に伸縮自
在な一般的な伸縮可撓管である伸縮ベローズ8が気密に
接合され、該伸縮ベローズ8の反ねじれベローズ側の端
部が、前記真空チャンバ1の、遮断窓7の周縁の側面と
0リング10aを介して気密に結合されている。
は、該ビームボート11の真空チャンバ1側の端部に、
該ビームボート11の軸方向に伸縮自在であるとともに
、該軸方向への伸縮にともなって前記ビームボート11
の軸を中心とした回転が可能な、真空用回転可撓管であ
るねじれベローズ9がOリング10bを介して気密に連
結されており、ざらに、該ねじれベローズ9の反ビーム
ボート側には、前記ビームボート11の軸方向に伸縮自
在な一般的な伸縮可撓管である伸縮ベローズ8が気密に
接合され、該伸縮ベローズ8の反ねじれベローズ側の端
部が、前記真空チャンバ1の、遮断窓7の周縁の側面と
0リング10aを介して気密に結合されている。
第2図は、上述した伸縮ベローズ8とねしれベローズ9
とを示す斜視図である。
とを示す斜視図である。
ここで、ねじれベローズ9の構成について説明する。
本実施例のねじれベローズ9は、第3図(a)ニ不すよ
うに、二つの対角線の長さが異なる、アルミあるいはS
US材等で形成した同一形状の平行四辺形である8個の
板状体31.−.38を、対向する同一長さの一辺同士
で接合して、前記平行四辺形の長い方の対角線に沿フて
それぞれ同一方向に折曲させるとともに、前記同一長さ
の一辺に沿って前記長い方の対角線の折曲方向とは逆方
向ニ折曲シた、第3図(b)に示すようなリング計住3
0を形成し、このリング状体30を、その軸方向(第3
図(b)中Z軸方向)へ3個連結した一本の筒状体から
なるものである。このねじれベローズ30においては、
前記板状体31.−38それぞれを、それらの長い方の
対角線に沿って折曲げた状態のものが単位部材である。
うに、二つの対角線の長さが異なる、アルミあるいはS
US材等で形成した同一形状の平行四辺形である8個の
板状体31.−.38を、対向する同一長さの一辺同士
で接合して、前記平行四辺形の長い方の対角線に沿フて
それぞれ同一方向に折曲させるとともに、前記同一長さ
の一辺に沿って前記長い方の対角線の折曲方向とは逆方
向ニ折曲シた、第3図(b)に示すようなリング計住3
0を形成し、このリング状体30を、その軸方向(第3
図(b)中Z軸方向)へ3個連結した一本の筒状体から
なるものである。このねじれベローズ30においては、
前記板状体31.−38それぞれを、それらの長い方の
対角線に沿って折曲げた状態のものが単位部材である。
第3図(a)において、板状体31.−.3Bは長い方
の対角線(図中−点破線)に沿ってそれぞれ同一方向に
折曲げられ、さらに各板状体31゜−,38を互いに対
向する同じ長さの一方の辺(図中破線)同士で、前記長
い方の対角線に沿った折曲方向とは逆方向へ折曲した状
態で接合して、第3図(b)に示すようなリング状体3
0を形成する。このリング状体30は、本実施例では8
個の板状体31.・−,38を使用しているため断面は
正8角形となっており、上面および下面は所定角度ずれ
た位置関係になっている。前記各板状体31.・・・、
38の長い方の対角線に沿った折曲方向は、第3図(b
)に示すリング状体30において、その中心軸(Z軸)
に対して外側であり、また、各板状体31.−.38の
接合部となフた同じ長さの一方の辺に沿った折曲方向は
、前記中心軸に対して内側となっている。このようなリ
ング状体30に対して、下面側を固定してZ軸上力から
押圧すると、該リング状体30は、前記各板状体31.
−.38が長い方の対角線および接合部となった一方の
辺に沿って折曲がるので、Z軸方向に縮むとともに、該
Z軸を中心にして回転する(第3図(b)中ω2方向)
。また元に戻る際は、逆方向に回転しながら伸びること
になる。
の対角線(図中−点破線)に沿ってそれぞれ同一方向に
折曲げられ、さらに各板状体31゜−,38を互いに対
向する同じ長さの一方の辺(図中破線)同士で、前記長
い方の対角線に沿った折曲方向とは逆方向へ折曲した状
態で接合して、第3図(b)に示すようなリング状体3
0を形成する。このリング状体30は、本実施例では8
個の板状体31.・−,38を使用しているため断面は
正8角形となっており、上面および下面は所定角度ずれ
た位置関係になっている。前記各板状体31.・・・、
38の長い方の対角線に沿った折曲方向は、第3図(b
)に示すリング状体30において、その中心軸(Z軸)
に対して外側であり、また、各板状体31.−.38の
接合部となフた同じ長さの一方の辺に沿った折曲方向は
、前記中心軸に対して内側となっている。このようなリ
ング状体30に対して、下面側を固定してZ軸上力から
押圧すると、該リング状体30は、前記各板状体31.
−.38が長い方の対角線および接合部となった一方の
辺に沿って折曲がるので、Z軸方向に縮むとともに、該
Z軸を中心にして回転する(第3図(b)中ω2方向)
。また元に戻る際は、逆方向に回転しながら伸びること
になる。
前述のリング状体30を構成する各板状体31゜−,3
8はそれぞれ長い方の対角線によって二つの合同の三角
形に分割されており、リング状体30が縮む際、各三角
形は倒れるような状態となって、前記各板状体31.−
.38が前記長い方の対角線および接合部となった一方
の辺に沿って折曲がることになる。
8はそれぞれ長い方の対角線によって二つの合同の三角
形に分割されており、リング状体30が縮む際、各三角
形は倒れるような状態となって、前記各板状体31.−
.38が前記長い方の対角線および接合部となった一方
の辺に沿って折曲がることになる。
ここで、第3図(b)に示す極座標(r、θ。
ψ)において、リング状体30が平衡状態(各板状体3
1.−.38が折曲がっていない状態)のとき、正N角
形(本実施例では正8角形)である上面と下面のずれ角
を△、高さをIl、 cosθとし、第3図(a)にお
いて、上面の正N角形の各頂点をA、(n=t、−、N
)下面の正N角形の各頂点を同様にBnとする。
1.−.38が折曲がっていない状態)のとき、正N角
形(本実施例では正8角形)である上面と下面のずれ角
を△、高さをIl、 cosθとし、第3図(a)にお
いて、上面の正N角形の各頂点をA、(n=t、−、N
)下面の正N角形の各頂点を同様にBnとする。
上述の極座標において、上、下面それぞれの頂点の座標
は、 2πn A、= (IL、 α、 )2πn Bn= (lsin α、−9△+ )2
N である。また各板状体31.−.38で長い方の対角線
によって分割されたそれぞれの3角形は△AnA、、I
B、、△An+IBnBn+1で表わされ、それらの三
角形を構成する各辺の長さは、 AoBo2= 2 IL2sin2α(1−cos△)
+ It 2cos2α2π AnAn*+” :BJn++2=2 fL 2Sl
n2 α(t−cos−)2π ^n+lBn” = 2 JZ ”5in2 α(
1−cos (△+□))+ 112cos2 α となる。この三角形が平面を保っている状態、すなわち
、各板状体31.−.38が平面となっているときが前
記リング状体30の平衡状態であり、このリング状体3
0は前記板状体31 、−・・38の対角線に沿った弾
性変形可能な範囲で回転することができる。
は、 2πn A、= (IL、 α、 )2πn Bn= (lsin α、−9△+ )2
N である。また各板状体31.−.38で長い方の対角線
によって分割されたそれぞれの3角形は△AnA、、I
B、、△An+IBnBn+1で表わされ、それらの三
角形を構成する各辺の長さは、 AoBo2= 2 IL2sin2α(1−cos△)
+ It 2cos2α2π AnAn*+” :BJn++2=2 fL 2Sl
n2 α(t−cos−)2π ^n+lBn” = 2 JZ ”5in2 α(
1−cos (△+□))+ 112cos2 α となる。この三角形が平面を保っている状態、すなわち
、各板状体31.−.38が平面となっているときが前
記リング状体30の平衡状態であり、このリング状体3
0は前記板状体31 、−・・38の対角線に沿った弾
性変形可能な範囲で回転することができる。
本実施例のねじれベローズ9は、上述のようなリング状
体30を、各板状体31.−.38の、前記接合部とな
った一方の辺が連続するように、他方の辺同士で折曲自
在に3個連結した一本の筒状体からなるものであり、リ
ング状体30が1個の場合より回転する角度あび軸方向
の伸縮率は大きくなる。このねじれベローズ9は、前述
のように、伸縮ベローズ8と連結されて、共に、前記ビ
ームボート11の軸方向の正負両方向について伸縮可能
な状態でビームボート11と真空チャンバ1どの結合部
に用いられている。
体30を、各板状体31.−.38の、前記接合部とな
った一方の辺が連続するように、他方の辺同士で折曲自
在に3個連結した一本の筒状体からなるものであり、リ
ング状体30が1個の場合より回転する角度あび軸方向
の伸縮率は大きくなる。このねじれベローズ9は、前述
のように、伸縮ベローズ8と連結されて、共に、前記ビ
ームボート11の軸方向の正負両方向について伸縮可能
な状態でビームボート11と真空チャンバ1どの結合部
に用いられている。
本実施例のX線露光装置は、前述のように、ステップ&
リピート方式でウェハ2へのパターンの焼付けを行なう
ので、その都度、真空チャンバ1内で前記ウェハ2が載
置されたウェハ移送用Xステージ3およびウェハ移送用
Yステージ4が移動して不図示のマスクとの位置合わせ
を行なう。その際、真空チャンバ1は、前述のように4
個の除振ユニットによって支持されているため前記ウェ
ハ移送用Xステージ3およびウェハ移送用Yステージ4
の移動にともなって真空チャンバ1の重心が移動し、例
えば第4図に示すように、真空チャンバ1全体が傾斜す
る可能性がある。この真空チャンバ1は、前述のように
ビームボート11に連結されており、該ビームボート1
1は支持ボール12a、12bによって支持固定されて
いるので、前記真空チャンバ1はビームボート11を軸
にして回転しようとする力が働き、その力が前記ビーム
ボート11に加わる。しかし、本実施例の場合、前述の
ように、ビームボート11と真空チャンバ1との結合部
に伸縮ベローズ8とねじれベローズ9とを連結している
ので、それらの伸縮および回転によって前記ビームボー
ト11に加わる力を吸収することができる。
リピート方式でウェハ2へのパターンの焼付けを行なう
ので、その都度、真空チャンバ1内で前記ウェハ2が載
置されたウェハ移送用Xステージ3およびウェハ移送用
Yステージ4が移動して不図示のマスクとの位置合わせ
を行なう。その際、真空チャンバ1は、前述のように4
個の除振ユニットによって支持されているため前記ウェ
ハ移送用Xステージ3およびウェハ移送用Yステージ4
の移動にともなって真空チャンバ1の重心が移動し、例
えば第4図に示すように、真空チャンバ1全体が傾斜す
る可能性がある。この真空チャンバ1は、前述のように
ビームボート11に連結されており、該ビームボート1
1は支持ボール12a、12bによって支持固定されて
いるので、前記真空チャンバ1はビームボート11を軸
にして回転しようとする力が働き、その力が前記ビーム
ボート11に加わる。しかし、本実施例の場合、前述の
ように、ビームボート11と真空チャンバ1との結合部
に伸縮ベローズ8とねじれベローズ9とを連結している
ので、それらの伸縮および回転によって前記ビームボー
ト11に加わる力を吸収することができる。
真空チャンバ1か傾斜した場合の、伸縮ベローズ8と、
ねじれベローズ9とを用いたビームボート11と真空チ
ャンバ1との結合部を、第5図に示す。
ねじれベローズ9とを用いたビームボート11と真空チ
ャンバ1との結合部を、第5図に示す。
第5図は、第4図に示すように傾斜した真空チャンバ1
とビームボート11どの結合部を示す断面図である。
とビームボート11どの結合部を示す断面図である。
この場合、第1図に示した正常な状態のときに比較して
ねじれベローズ9は伸びており、伸縮ベローズ8は逆に
縮んだ状態となっている。これは真空チャンバ1の傾斜
によって生じた力が、ビームボート11に対して、前記
ねじれベローズ9が伸びる方向へ加わったためであり、
そのねじれベローズ9が伸びた分伸縮ベローズ8が縮み
、ビームボート11としての長さは変化していない。ま
た、真空チャンバ1が第4図に示した傾斜方向(図中右
方向)とは逆に傾斜(図中左方向)したとすると、前記
ビームボート11に対しては、ねじれベローズ9が縮む
方向へ、回転しようとする力が加わることになるので、
該ねじれベローズ9は縮み、伸縮ベローズ8はねじれベ
ローズ9の縮んだ分伸びることになって、同様にビーム
ボート11としての長さは変化しないことになる。この
ように、真空チャンバ1の傾斜によってビームボート1
1へ加わる力は、それらの結合部に配したねじれベロー
ズ9と伸縮ベローズ8とによって吸収できるので、前記
ビームボート11へ影響を及ぼすことはなくなる。
ねじれベローズ9は伸びており、伸縮ベローズ8は逆に
縮んだ状態となっている。これは真空チャンバ1の傾斜
によって生じた力が、ビームボート11に対して、前記
ねじれベローズ9が伸びる方向へ加わったためであり、
そのねじれベローズ9が伸びた分伸縮ベローズ8が縮み
、ビームボート11としての長さは変化していない。ま
た、真空チャンバ1が第4図に示した傾斜方向(図中右
方向)とは逆に傾斜(図中左方向)したとすると、前記
ビームボート11に対しては、ねじれベローズ9が縮む
方向へ、回転しようとする力が加わることになるので、
該ねじれベローズ9は縮み、伸縮ベローズ8はねじれベ
ローズ9の縮んだ分伸びることになって、同様にビーム
ボート11としての長さは変化しないことになる。この
ように、真空チャンバ1の傾斜によってビームボート1
1へ加わる力は、それらの結合部に配したねじれベロー
ズ9と伸縮ベローズ8とによって吸収できるので、前記
ビームボート11へ影響を及ぼすことはなくなる。
本実施例の場合、ねじれベローズ9とともに伸縮ベロー
ズ8を使用したが、該ねじれベローズ9を形成する前記
リング状体30の連結段数を多くして、軸方向の長さを
長くすれば、伸縮率右よび回転角度が大きくなるので、
ねじれベローズのみでもよい。また、前記ねじれベロー
ズ9は逆方向に回転可能な他のねじれベローズを形成し
、該ねじれベローズを前記ねじれベローズ9および伸縮
ベローズ8とともに、ビームボート11と真空チャンバ
1との結合部に連結して、真空チャンバ1の左右両方向
の傾斜に対処してもよい。この場合、二つの逆方向に回
転可能なねじれベローズは、前記真空チャンバ1の逆方
向への等角度傾斜について等感度のものが望ましい。
ズ8を使用したが、該ねじれベローズ9を形成する前記
リング状体30の連結段数を多くして、軸方向の長さを
長くすれば、伸縮率右よび回転角度が大きくなるので、
ねじれベローズのみでもよい。また、前記ねじれベロー
ズ9は逆方向に回転可能な他のねじれベローズを形成し
、該ねじれベローズを前記ねじれベローズ9および伸縮
ベローズ8とともに、ビームボート11と真空チャンバ
1との結合部に連結して、真空チャンバ1の左右両方向
の傾斜に対処してもよい。この場合、二つの逆方向に回
転可能なねじれベローズは、前記真空チャンバ1の逆方
向への等角度傾斜について等感度のものが望ましい。
また、本実施例においては、リング状体30を形成する
際、同一形状の平行四辺形からなる8個の板状体31.
−.38を対向する一辺同士で接合する例を示したが、
第3図(a)において、長尺の平行四辺形AIBI (
AI) (Bl)を考え、破線で示した線分および一点
破線で示した線分を仮想線として、それぞれ逆方向に折
曲した状態で、第3図(b)に示すようなリング状体3
0を形成してもよい。さらに、リング状体を形成する板
状体の個数については、最低3個を用いることにより、
上面および下面が正三角形のリング状体を形成すること
ができ、上限は特に制限されないが、X線ビームが通過
するビームボートの径あるいは真空用回転可撓管として
の回転角度等を考慮すると、前述のように8個程度の板
状体を用いるものがよい。
際、同一形状の平行四辺形からなる8個の板状体31.
−.38を対向する一辺同士で接合する例を示したが、
第3図(a)において、長尺の平行四辺形AIBI (
AI) (Bl)を考え、破線で示した線分および一点
破線で示した線分を仮想線として、それぞれ逆方向に折
曲した状態で、第3図(b)に示すようなリング状体3
0を形成してもよい。さらに、リング状体を形成する板
状体の個数については、最低3個を用いることにより、
上面および下面が正三角形のリング状体を形成すること
ができ、上限は特に制限されないが、X線ビームが通過
するビームボートの径あるいは真空用回転可撓管として
の回転角度等を考慮すると、前述のように8個程度の板
状体を用いるものがよい。
次に、本発明の他の実施例について第6図を参照して説
明する。
明する。
第6図は本実施例の断面図であり、前述の実施例と同一
の構成については同一符号を付している。
の構成については同一符号を付している。
本実施例の場合も、前述の実施例の場合と同様に、不図
示のX線源からのX線ビームを真空チャンバ1へ導くビ
ームポート62の、前記真空チャンバ1との結合部に伸
縮ベローズ8とねじれベローズ9とを気密に連結したも
のである。
示のX線源からのX線ビームを真空チャンバ1へ導くビ
ームポート62の、前記真空チャンバ1との結合部に伸
縮ベローズ8とねじれベローズ9とを気密に連結したも
のである。
前記ビームポート62の真空チャンバ1側の端部にはフ
ランジ63が周設されており、該フランジ63には、前
記伸縮ベローズ8およびねじれベローズ9を、前記ビー
ムポート62の軸に対して常に平行な状態で伸縮させる
ための円筒状のガイド部材60が前記ビームポート62
の軸方向に取付けられている。
ランジ63が周設されており、該フランジ63には、前
記伸縮ベローズ8およびねじれベローズ9を、前記ビー
ムポート62の軸に対して常に平行な状態で伸縮させる
ための円筒状のガイド部材60が前記ビームポート62
の軸方向に取付けられている。
前記伸縮ベローズ8とねじれベローズ9とは、前記ガイ
ド部材60内に挿入され、外径が該ガイド部材60の内
径と略しい輪状の摺動部材61を介して気密に接合され
て前記ビームポート62と真空チャンバ1とを気密に連
結している。前記摺動部材61の外周縁とガイド部材6
0の内周壁とは、それらの間に不図示の転動体を介在さ
せた転がり接触となっており、該転動体の転勤により、
前記摺動部材61は、ガイド部材60の内周壁に沿って
、ビームポート62の軸方向および該軸を中心とした回
転方向へ摺動自在となっている。
ド部材60内に挿入され、外径が該ガイド部材60の内
径と略しい輪状の摺動部材61を介して気密に接合され
て前記ビームポート62と真空チャンバ1とを気密に連
結している。前記摺動部材61の外周縁とガイド部材6
0の内周壁とは、それらの間に不図示の転動体を介在さ
せた転がり接触となっており、該転動体の転勤により、
前記摺動部材61は、ガイド部材60の内周壁に沿って
、ビームポート62の軸方向および該軸を中心とした回
転方向へ摺動自在となっている。
したがって、前記伸縮ベローズ8およびねじれベローズ
9か伸縮すると、前記摺動部材61は、ガイド部材60
の内周壁に沿って軸方向および該軸を中心とした回転方
向へ摺動するため、前記伸縮ベローズ8およびねじれベ
ローズ9は、常に、前記ビームポート62の軸に対して
平行な状態となり、X線ビームを導くビームポート62
の軸がねじれることがなくなる。本実施例は特に伸縮ベ
ローズ8およびねじれベローズ9の軸方向の長さが長い
場合に効果的である。
9か伸縮すると、前記摺動部材61は、ガイド部材60
の内周壁に沿って軸方向および該軸を中心とした回転方
向へ摺動するため、前記伸縮ベローズ8およびねじれベ
ローズ9は、常に、前記ビームポート62の軸に対して
平行な状態となり、X線ビームを導くビームポート62
の軸がねじれることがなくなる。本実施例は特に伸縮ベ
ローズ8およびねじれベローズ9の軸方向の長さが長い
場合に効果的である。
[発明の効果]
本発明は、以上説明したように構成されているので、下
記のような効果を奏する。
記のような効果を奏する。
本発明の真空用回転可撓管は、その軸方向に伸縮できる
とともに、該伸縮動作にともなって前記軸を中心にした
回転か可能なものであり、真空配管の真空チャンバとの
結合部に、請求項第2項に記載のもののように、軸方向
に長尺の上述のような真空用回転可撓管を連結するか、
あるいは請求項第3項に記載のもののように、上述のよ
うな真空用回転可撓管とともに伸縮可撓管を連結するこ
とにより、該結合部において、前記真空チャンバから真
空配管に加わる軸方向の力あるいは回転方向の力を吸収
することができるとともに、前記真空配管の長さは略一
定に保たれるので、前記真空チャンバが傾斜した場合で
あっても、前記真空配管に余計な力が加わることがなく
なって、真空配管と真空チャンバとの結合部の破損を防
止でき、真空配管の気密性が損なわれることはない。
とともに、該伸縮動作にともなって前記軸を中心にした
回転か可能なものであり、真空配管の真空チャンバとの
結合部に、請求項第2項に記載のもののように、軸方向
に長尺の上述のような真空用回転可撓管を連結するか、
あるいは請求項第3項に記載のもののように、上述のよ
うな真空用回転可撓管とともに伸縮可撓管を連結するこ
とにより、該結合部において、前記真空チャンバから真
空配管に加わる軸方向の力あるいは回転方向の力を吸収
することができるとともに、前記真空配管の長さは略一
定に保たれるので、前記真空チャンバが傾斜した場合で
あっても、前記真空配管に余計な力が加わることがなく
なって、真空配管と真空チャンバとの結合部の破損を防
止でき、真空配管の気密性が損なわれることはない。
第1図は本発明の真空用回転可撓管を用いた真空配管構
造の一実施例を示す断面図、第2図は真空配管の真空チ
ャンバとの結合部に連結した真空用回転可撓管および伸
縮可撓管の一例を示す斜視図、第3図(a) 、 (b
)は、それぞれ、真空用回転可撓管のリング状体を形成
する複数の板状体を接合した状態を示す平面図と、前記
輪状体を示す斜視図、第4図は真空チャンバが傾斜した
状態を示す正面図、第5図は傾斜した状態の真空チャン
バと真空配管との結合部を示す断面図、第6図は本発明
の、真空用回転可撓管を用いた真空配管構造の他の実施
例を示す断面図である。 1−・真空チャンバ、 2−ウェハ、3・・・ウェ
ハ移送用Xステージ、 4・・・ウェハ移送用Yステージ、 5・・・メインフレーム、 6−・除振ユニット、7
−・遮断窓、 8−・伸縮ベローズ、9・・・
ねじれベローズ、 10−0リング、11.62−・・
ビームポート、12−支持ボール、13−・・低真空用
パルプ 14−・低真空用ポンプ、15−・・超高真
空用バルブ、16−・超高真空用ポンプ、17−X線ビ
ーム、 18−床、30−リング状体、 3
1〜38−・板状体、60−・・ガイド部材、 6
1−・摺動部材、63−・フランジ。 第 図 第 図
造の一実施例を示す断面図、第2図は真空配管の真空チ
ャンバとの結合部に連結した真空用回転可撓管および伸
縮可撓管の一例を示す斜視図、第3図(a) 、 (b
)は、それぞれ、真空用回転可撓管のリング状体を形成
する複数の板状体を接合した状態を示す平面図と、前記
輪状体を示す斜視図、第4図は真空チャンバが傾斜した
状態を示す正面図、第5図は傾斜した状態の真空チャン
バと真空配管との結合部を示す断面図、第6図は本発明
の、真空用回転可撓管を用いた真空配管構造の他の実施
例を示す断面図である。 1−・真空チャンバ、 2−ウェハ、3・・・ウェ
ハ移送用Xステージ、 4・・・ウェハ移送用Yステージ、 5・・・メインフレーム、 6−・除振ユニット、7
−・遮断窓、 8−・伸縮ベローズ、9・・・
ねじれベローズ、 10−0リング、11.62−・・
ビームポート、12−支持ボール、13−・・低真空用
パルプ 14−・低真空用ポンプ、15−・・超高真
空用バルブ、16−・超高真空用ポンプ、17−X線ビ
ーム、 18−床、30−リング状体、 3
1〜38−・板状体、60−・・ガイド部材、 6
1−・摺動部材、63−・フランジ。 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、対角線の長さが異なる平行四辺形の板状体を、その
長い方の対角線に沿って折曲したものを単位部材とし、
少なくとも3個の前記単位部材を、互いに対向する一辺
同士で前記長い方の対角線の折曲方向とは逆方向に折曲
した状態で、一体的に気密に連結してリング状体を形成
し、該リング状体を、前記単位部材の他辺同士で複数個
気密に連結して一本の筒状体とした真空用回転可撓管。 2、除振ユニットによって支持された真空チャンバへ連
結される真空配管構造であって、真空配管の真空チャン
バとの結合部に、前記真空配管の軸方向に長尺の請求項
1記載の真空用回転可撓管を気密に連結したことを特徴
とする真空配管構造。 3、除振ユニットによって支持された真空チャンバへ連
結される真空配管構造であって、真空配管の真空チャン
バとの結合部に、請求項1記載の真空用回転可撓管と、
前記真空配管の軸方向に伸縮自在の伸縮可撓管とを気密
に連結したことを特徴とする真空配管構造。4、真空チ
ャンバがX線露光用のものであり、真空配管はX線ビー
ムを前記真空チャンバへ導くことを特徴とする請求項2
あるいは3記載の真空配管構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2272413A JPH04151088A (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | 真空用回転可撓管および該真空用回転可撓管を用いた真空配管構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2272413A JPH04151088A (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | 真空用回転可撓管および該真空用回転可撓管を用いた真空配管構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04151088A true JPH04151088A (ja) | 1992-05-25 |
Family
ID=17513563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2272413A Pending JPH04151088A (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | 真空用回転可撓管および該真空用回転可撓管を用いた真空配管構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04151088A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1284444A1 (en) * | 2001-08-15 | 2003-02-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2003086504A (ja) * | 2001-08-15 | 2003-03-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器、装置製造方法および製造される装置 |
JP2003269662A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Oki Electric Ind Co Ltd | 真空システム用フレキシブルチューブ |
JP2013072785A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Hitachi Ltd | 低真空軟x線実験装置 |
-
1990
- 1990-10-12 JP JP2272413A patent/JPH04151088A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1284444A1 (en) * | 2001-08-15 | 2003-02-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2003086504A (ja) * | 2001-08-15 | 2003-03-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器、装置製造方法および製造される装置 |
US6937316B2 (en) | 2001-08-15 | 2005-08-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
JP2003269662A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Oki Electric Ind Co Ltd | 真空システム用フレキシブルチューブ |
JP4553548B2 (ja) * | 2002-03-13 | 2010-09-29 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 真空システム用フレキシブルチューブ |
JP2013072785A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Hitachi Ltd | 低真空軟x線実験装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3576176B2 (ja) | ガス軸受を有する支持装置 | |
US5305981A (en) | Multiaxis vibration isolation system | |
JP4714226B2 (ja) | 外部から加圧されるシールベローズを使用する改善された隔離器 | |
JP2007537411A (ja) | 振動減衰器又は絶縁器 | |
JP2001041395A (ja) | ペイロードの被安定化プラットホーム装置 | |
JPH04151088A (ja) | 真空用回転可撓管および該真空用回転可撓管を用いた真空配管構造 | |
JPH07159669A (ja) | 反射鏡固定装置 | |
US2901208A (en) | Stabilized load | |
JP7057167B2 (ja) | 真空用接続機構、電子光学装置 | |
JP4655024B2 (ja) | ダイナミックダンパ | |
US3941451A (en) | Inline optical wedge stabilizer | |
JPH11229663A (ja) | 減衰装置およびこれを用いた制震構造物 | |
JP2016130127A (ja) | 機器の照準を定めるための組立体 | |
JP3343581B2 (ja) | 真空防振継手 | |
JP2005520738A (ja) | 宇宙飛行体の姿勢を制御するためのジャイロスコープ・アクチュエータ | |
JP3657836B2 (ja) | 除振継ぎ手 | |
US4283688A (en) | Laser autoalignment system | |
US2968954A (en) | Air-supported spherical gyroscope | |
JPH01320345A (ja) | 免震装置 | |
JP2016046340A (ja) | 荷電粒子ビーム装置及び振動減衰機構 | |
WO2024034274A1 (ja) | 補助支持装置およびこれを備える試験装置 | |
JP2005003088A (ja) | 気体ばね式除振装置 | |
JP4069304B2 (ja) | ベローズ継手 | |
JP2795181B2 (ja) | 衛星搭載用光反射望遠鏡 | |
JP4069305B2 (ja) | ベローズ継手 |