JP2016046340A - 荷電粒子ビーム装置及び振動減衰機構 - Google Patents

Abstract

【課題】装置精度の低下を抑制することができる荷電粒子ビーム装置及び振動減衰機構を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置は、気密性を有する描画チャンバ２ａと、描画チャンバ２ａの外面に設けられ、描画チャンバ２ａの内部空間とつながって気密性を有する第１の伸縮管３４ａと、第１の伸縮管３４ａにおける描画チャンバ２ａの反対側の端部に設けられ、第１の伸縮管３４ａの内部空間とつながって気密性を有する駆動部３３と、駆動部３３における第１の伸縮管３４ａの反対側の端部に設けられ、駆動部３３の内部空間とつながって気密性を有する第２の伸縮管３４ｂと、第２の伸縮管３４ｂにおける駆動部３３の反対側の端部に設けられ、その端部を塞ぐ端部材３４ｃと、描画チャンバ２ａの外面と端部材３４ｃとの間に設けられ、描画チャンバ２ａの外面と端部材３４ｃとの離間距離を維持する維持部材３４ｄとを備える。
【選択図】図３

Description

本発明は、荷電粒子ビーム装置及び振動減衰機構に関する。

通常、荷電粒子ビーム（例えば電子ビーム）を使用する描画装置や検査機、電子顕微鏡、露光機などの荷電粒子ビーム装置では、真空や磁場などの制約からステージの移動に摩擦駆動方式の移動機構が用いられている。この摩擦駆動方式の移動機構では、ステージに連結されたロッドを真空容器の外面に取り付けられたモータにより摩擦駆動することでステージを移動させている。

特に、高い解像度が要求される荷電粒子ビーム描画装置では、ステージ移動に摩擦駆動方式の移動機構を用いることが一般的である。荷電粒子ビーム描画装置は、マスク（レチクル）やブランクなどの試料が載置されたステージを摩擦駆動方式の移動機構により移動させ、ステージ上の試料の所定位置に荷電粒子ビームを偏向して照射し、ステージ上の試料にパターンを描画するものである。なお、ステージの位置を把握するためにはレーザ干渉計が用いられており、このレーザ干渉計は真空容器の外面に取り付けられている。

特開２００２−２９５５８１号公報

しかしながら、前述の荷電粒子ビーム装置において、モータ駆動時に振動が発生するため、発生した振動が真空容器を介してその外面に位置するレーザ干渉計に伝わってしまう。このレーザ干渉計はステージ位置を計測するものであり、モータ駆動によって振動してしまうと、計測精度が低下し、ひいては描画精度や検査精度などの装置精度が低下してしまう。

本発明が解決しようとする課題は、荷電粒子ビーム装置に適用する振動減衰機構を提供し、装置精度の低下を抑制することである。

本発明の実施形態に係る荷電粒子ビーム装置は、気密性を有する真空容器と、真空容器の外面に設けられ、真空容器の内部空間とつながって気密性を有する第１の伸縮管と、第１の伸縮管における真空容器の反対側の端部に設けられ、第１の伸縮管の内部空間とつながって気密性を有する振動体と、振動体における第１の伸縮管の反対側の端部に設けられ、振動体の内部空間とつながって気密性を有する第２の伸縮管と、第２の伸縮管における振動体の反対側の端部に設けられ、その端部を塞ぐ端部材と、真空容器の外面と端部材との間に設けられ、真空容器の外面と端部材との離間距離を維持する維持部材とを備える。

また、上記荷電粒子ビーム装置において、振動体を支持する支持部材と、振動体と支持部材との間に設けられ、振動を吸収する防振部材とをさらに備えることが望ましい。

また、上記荷電粒子ビーム装置において、支持部材は真空容器の外面に設けられていることが望ましい。

また、上記荷電粒子ビーム装置において、維持部材は支持部材であることが望ましい。

本発明の実施形態に係る振動減衰機構は、気密性を有する真空容器の外面に設けられ、その真空容器の内部空間とつながって気密性を有する第１の伸縮管と、第１の伸縮管における真空容器の反対側の端部に設けられ第１の伸縮管の内部空間とつながって気密性を有する振動体における第１の伸縮管の反対側の端部に設けられ、振動体の内部空間とつながって気密性を有する第２の伸縮管と、第２の伸縮管における振動体の反対側の端部に設けられ、その端部を塞ぐ端部材と、真空容器の外面と端部材との間に設けられ、真空容器の外面と端部材との離間距離を維持する維持部材とを備える。

本発明の一態様によれば、振動体による装置精度の低下を抑制することができる。

第１の実施形態に係る荷電粒子ビーム描画装置の概略構成を示す図である。 第１の実施形態に係るレーザ干渉計及びＸＹステージの概略構成を示す断面図（図１のＡ１−Ａ１線の断面図）である。 第１の実施形態に係る駆動部及び振動減衰機構の概略構成を示す断面図（図２のＡ２−Ａ２線の断面図）である。 第１の実施形態に係る駆動部及び振動減衰機構を拡大して示す斜視図である。 第２の実施形態に係るポンプ部及び振動減衰機構の概略構成を示す断面図である。

（第１の実施形態）
第１の実施形態について図１乃至図４を参照して説明する。第１の実施形態では、荷電粒子ビーム装置の一例として、荷電粒子ビームによる描画を行う荷電粒子ビーム描画装置について説明する。

図１に示すように、第１の実施形態に係る荷電粒子ビーム描画装置１は、荷電粒子ビームによる描画を行う描画部２と、その描画部２を制御する制御部３とを備えている。この荷電粒子ビーム描画装置１は、荷電粒子ビームとして例えば電子ビームを用いた可変成形型の描画装置の一例である。なお、荷電粒子ビームは電子ビームに限られるものではなく、イオンビームなどの他の荷電粒子ビームであっても良い。

描画部２は、描画対象となる試料Ｗを収容する真空容器である描画チャンバ（描画室）２ａと、その描画チャンバ２ａにつながる光学鏡筒２ｂとを有している。描画チャンバ２ａは気密性（密閉性）を有しており、真空チャンバ（減圧チャンバ）として機能する。また、光学鏡筒２ｂは、描画チャンバ２ａの上面に設けられており、光学系により電子ビームＢを成形及び偏向し、描画チャンバ２ａ内の試料Ｗに対して照射する。このとき、描画チャンバ２ａ及び光学鏡筒２ｂの両方の内部は減圧されて真空状態にされている。

描画チャンバ２ａ内には、マスクやブランクなどの試料Ｗを支持する台となる搭載物１１、さらに、その搭載物１１を移動させる摩擦駆動方式のＸＹステージ１２が設けられている。このＸＹステージ１２は、水平面内で互いに直交するＸ軸方向とＹ軸方向（以下、単にＸ方向及びＹ方向という）に搭載物１１を移動させる機構である。

制御部３は、描画データを記憶する描画データ記憶部３ａと、その描画データを処理してショットデータを生成するショットデータ生成部３ｂと、描画部２を制御する描画制御部３ｃとを備えている。

図２に示すように、描画チャンバ２ａの外面（側面）には、搭載物１１の位置を測定するための第１のレーザ干渉計１３ａと第２のレーザ干渉計１３ｂが設けられている。図２中の左側に位置する第１のレーザ干渉計１３ａは搭載物１１とのＸ方向の相対距離を、下側に位置する第２のレーザ干渉計１３ｂは搭載物１１とのＹ方向の相対距離を計測する。なお、搭載物１１上には、レーザ光を反射するミラーなどの反射部１１ａが取り付けられている。

電子ビームＢによる描画において、レーザ干渉計１３ａ、１３ｂにより計測された搭載物１１との相対距離情報は、描画制御部３ｃによる、搭載物１１の移動に関する制御（フィードバック制御）だけではなく、描画制御部３ｃによる、光学鏡筒２ｂ内の偏向器などによる照射位置の制御（描画の制御）にも用いられる。このため、レーザ干渉計１３ａ、１３ｂの計測精度は描画精度に大きく影響することになる。

図３及び図４に示すように、ＸＹステージ１２は、Ｘステージ１２ａ及びＹステージ１２ｂから構成されている。Ｘステージ１２ａは、試料Ｗの台となる搭載物１１を支持し、ロッド３２により駆動部３３と連結され、Ｘ方向に移動する。また、駆動部３３は自身の振動を減衰する振動減衰機構３４を備えている。なお、Ｙステージ１２ｂの構造は基本的にＸステージ１２ａと同様であり、移動方向がＹ方向となるだけであるため、その説明は省略する。

駆動部３３は、筺体となるケース３３ａと、ロッド３２を移動させるための駆動ローラ３３ｂ及び加圧ローラ３３ｃと、駆動ローラ３３ｂを回転させるモータ３３ｄ（図４参照）とを備え、駆動時には振動を発する。このように振動体となる駆動部３３は、第１のレーザ干渉計１３ａ及び第２のレーザ干渉計１３ｂと同じ壁面にそれぞれ設けられている。

ケース３３ａは、箱形状に形成されており、その内部に駆動ローラ３３ｂや加圧ローラ３３ｃなどを収容することが可能な構造になっている。このケース３３ａには、対向する一対の貫通孔３３ａ１及び３３ａ２が形成されており、ロッド３２がそれらの貫通孔３３ａ１及び３３ａ２を通っている。

駆動ローラ３３ｂは、軸心がロッド３２の延伸方向（Ｘ方向）と直交し、さらに、外周面がロッド３２の上面に接触するように位置付けられ、その軸心を回転軸として回転可能にケース３３ａ内に設けられている。この駆動ローラ３３ｂはモータ３３ｄにより回転し、接触摩擦によりロッド３２をＸ方向に駆動する。

加圧ローラ３３ｃは、軸心がロッド３２の延伸方向（Ｘ方向）と直交し、さらに、外周面がロッド３２の下面に接触するように位置付けられ、その軸心を回転軸として回転可能にケース３３ａ内に設けられている。この加圧ローラ３３ｃは、駆動ローラ３３ｂにロッド３２を介して対向し、例えばバネなどの押圧部材（図示せず）により上方向に押されてロッド３２に所定の圧力で当接している。

モータ３３ｄ（図４参照）は、駆動ローラ３３ｂを回転させるモータであり、ロッド３２をＸ方向に移動させるための駆動源となる。このモータ３３ｄは、振動減衰機構３４を避けてケース３３ａの側面に固定されて設けられている。

振動減衰機構３４は、描画チャンバ２ａの外面及び駆動部３３のケース３３ａの一端につながる第１の伸縮管３４ａと、ケース３３ａの他端につながる第２の伸縮管３４ｂと、その第２の伸縮管３４ｂの一端を塞ぐ端部材３４ｃと、描画チャンバ２ａ及び端部材３４ｃとの離間距離を維持する複数の維持部材３４ｄと、駆動部３３を支持する支持部材３４ｅとを具備している。

第１の伸縮管３４ａは、描画チャンバ２ａの外面及びケース３３ａの描画チャンバ２ａ側の外面との間に設けられ、描画チャンバ２ａ及びケース３３ａの各内部空間とつながって気密性を有する管である。詳しくは、描画チャンバ２ａの側壁に貫通孔２ａ１が形成されており、第１の伸縮管３４ａは、その一端部の開口内に描画チャンバ２ａの貫通孔２ａ１を含め、さらに、他端部の開口内にケース３３ａの貫通孔３３ａ１を含めるように設けられており、Ｏリングなどのシール材（図示せず）あるいは溶接などによって気密性が保持されている。

この第１の伸縮管３４ａは、伸縮によって駆動部３３により生じる振動を吸収する。第１の伸縮管３４ａとしては、例えば、ベローズ構造のベローズ配管を用いることが可能である。この第１の伸縮管３４ａ内をロッド３２が通っており、そのロッド３２は第１の伸縮管３４ａの延伸方向（Ｘ方向）に沿って移動する。第１の伸縮管３４ａは、内部を真空に維持することが可能である材料、例えば、ステンレスなどの金属材料により形成されている。

第２の伸縮管３４ｂは、ケース３３ａにおける描画チャンバ２ａの反対側の外面と端部材３４ｃの描画チャンバ２ａ側の外面との間に設けられ、ケース３３ａの内部空間とつながって気密性を有する管である。詳しくは、第２の伸縮管３４ｂは、その一端部の開口内にケース３３ａの貫通孔３３ａ２を含め、さらに、他端部の開口内に端部材３４ｃの貫通孔３４ｃ１を含めるように設けられており、Ｏリングなどのシール材（図示せず）あるいは溶接などによって気密性が保持されている。

この第２の伸縮管３４ｂは、第１の伸縮管３４ｂと同じように、伸縮によって駆動部３３により生じる振動を吸収する。第２の伸縮管３４ｂとしては、第１の伸縮管３４ａと同様、例えば、ベローズ構造のベローズ配管を用いることが可能である。この第２の伸縮管３４ｂ内をロッド３２が通っており、そのロッド３２は第２の伸縮管３４ｂの延伸方向（Ｘ方向）に沿って移動する。第２の伸縮管３４ｂは、第１の伸縮管３４ａと同様、内部を真空に維持することが可能である材料、例えば、ステンレスなどの金属材料により形成されている。

これらの第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂは、支持部材３４ｅにより支持されている駆動部３３のケース３３ａを挟み込むように設けられている。さらに、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂの口径（直径）は同じであり、それらの開口面積は一致している。なお、駆動部３３のケース３３ａは、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂの両方の内部空間とつながっており、気密性を有している。

端部材３４ｃは、第２の伸縮管３４ｂにおける描画チャンバ２ａの反対側の端部に位置する板状の板部材４１と、ロッド３２の移動空間（移動するロッド３２の逃げ空間）を形成する空間ケース４２とにより構成されている。

板部材４１は、第２の伸縮管３４ｂにおける描画チャンバ２ａの反対側の端部にその端部の開口を塞ぐように設けられている。この板部材４１には、ロッド３２が通過する貫通孔３４ｃ１が形成されている。板部材４１は、例えば、ステンレスなどの金属材料により形成されている。なお、板部材４１は、例えば矩形状に形成されているが、その形状に限るものではなく、他の形状でも良い。

空間ケース４２は、ロッド３２の移動空間を形成し、第２の伸縮管３４ｂを介して駆動部３３のケース３３ａの内部空間とつながって気密性を有する管状のケースである。この空間ケース４２は、その内部を真空に維持することが可能である材料、例えば、ステンレスなどの金属材料により形成されている。

維持部材３４ｄは、描画チャンバ２ａの外面と端部材３４ｃの間に複数設けられ、装置が真空状態の際に端部材３４ｃに大気圧が作用しても二つの伸縮管３４ａ及び３４ｂを圧縮することなく描画チャンバ２ａの外面と端部材３４ｃとの離間距離を維持する。例えば、維持部材３４ｄは棒状に形成されており、この維持部材３４ｄが四本（図４参照）、端部材３４ｃの四隅に位置付けられ、描画チャンバ２ａの外面と端部材３４ｃの外面との間に設けられている。維持部材３４ｄは、例えば、ステンレスなどの金属材料により形成されている。なお、維持部材３４ｄは棒状に形成されているが、その形状に限るものではなく、例えば板状など他の形状でも良く、また、その数も特に限定されるものではない。

支持部材３４ｅは、振動を吸収する防振部材３４ｆを有しており、その防振部材３４ｆを介してケース３３ａを支持している。この支持部材３４ｅは、描画チャンバ２ａの外面（側面）に取り付けられている。防振部材３４ｆとしては、例えば防振ゴムや樹脂などの弾性体を用いることが可能である。なお、防振部材３４ｆは、駆動部３３のケース３３ａの下面に対して面接触するように形成されているが、これに限るものではなく、例えば点接触で接触するように形成されても良い。また、防振部材３４ｆは、板状に形成されているが、その形状に限るものではなく、他の形状でも良く、また、その数も特に限定されるものではない。

次に、前述のような構成の荷電粒子ビーム描画装置１の真空状態（減圧状態）における振動減衰動作について説明する。

まず、描画チャンバ２ａ及び光学鏡筒２ｂ内は描画開始前に所定の真空度まで減圧され、真空状態にされる。このとき、駆動部３３のケース３３ａや第１の伸縮管３４ａ、第２の伸縮管３４ｂ、空間ケース４２の各部も真空状態となる。この真空状態において、描画時など搭載物１１がＸＹステージ１２により移動する場合、Ｘステージ１２ａ及びＹステージ１２ｂのどちらか一方又は両方の駆動部３３のモータ３３ｄが駆動することになる。

このモータ３３ｄの駆動時、そのモータ駆動によって振動が生じるが、この振動は駆動部３３のケース３３ａの両側に位置する第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂにより減衰される。このため、モータ３３ｄの駆動による振動が描画チャンバ２ａを介してその外面に位置するレーザ干渉計１３に伝わることが抑制され、レーザ干渉計１３が振動することが抑えられることになる。これにより、レーザ干渉計の計測精度が低下すること、ひいては描画精度などの装置精度が低下すること（精度劣化）を抑制することが可能となる。

この振動減衰動作では、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂが、大気圧により圧縮されて柔軟性を損なわないように、第１の伸縮管３４ａが縮もうとする力と第２の伸縮管３４ｂが縮もうとする力を互いに相殺する。このとき、描画チャンバ２ａの外面と端部材３４ｃの描画チャンバ２ａ側の外面との離間距離は各維持部材３４ｄにより維持されており、第２の伸縮管３４ｂの端部材３４ｃ側の端部の位置が変わることはない。このようにして、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂが大気圧により縮むことが抑止され、それらの柔軟性が維持されるため、柔軟性の低下により減衰特性が悪化することが抑えられている。

ここで、第２の伸縮管３４ｂが存在しない場合には、第１の伸縮管３４ａが大気圧によりつぶれて縮み、柔軟性は低下して減衰特性が悪化することになる。すなわち、減衰特性の悪化を防止するためには、第１の伸縮管３４ａを柔軟な状態に維持する必要がある。そこで、第１の伸縮管３４ａと同じ開口面積の第２の伸縮管３４ｂにより駆動部３３を挟むことによって、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂが大気圧によって縮もうとする力を相殺する。これにより、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂの柔軟性が低下することが抑止されるため、それらの第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂによって、描画チャンバ２ａに伝わるモータ振動（モータ３３ｄにより生じる振動）を確実に減衰することが可能となり、描画精度などの装置精度の低下を抑えることができる。

なお、前述の第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂの相殺バランスを適切に取る必要がある。この相殺バランスが大きくずれた場合には、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂのどちらか一方が大気圧により縮み、その他方が伸びてしまい、両方の柔軟性は低下して減衰特性が悪化することになる。そこで、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂは、それらの開口面積が一致するように同じ材料で形成されており、大気圧によって第１の伸縮管３４ａが縮もうとする力と第２の伸縮管３４ｂが縮もうとする力が同じになるようにしている。

ただし、この相殺バランスは多少どちらかに偏っても、振動を抑えるために必要とする柔軟性を維持することは可能である。また、モータ振動の度合い（強弱）によっても、相殺バランスがある程度偏っても、振動を抑えるために必要とする柔軟性を維持することは可能である。したがって、大気圧によって第１の伸縮管３４ａが縮もうとする力と第２の伸縮管３４ｂが縮もうとする力を同じにすることが望ましいが、必ずしもそれらの力を完全に一致させるような必要は無い。

以上説明したように、第１の実施形態によれば、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂにより駆動部３３を挟むことによって、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂが大気圧によって縮もうとする力を相殺し、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂの柔軟性が低下することを抑えることが可能となる。これにより、それらの第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂによって、描画チャンバ２ａに伝わるモータ振動を確実に減衰することができるため、レーザ干渉計１３の計測精度の低下、すなわち描画精度などの装置精度の低下を抑制することができる。

（第２の実施形態）
第２の実施形態について図５を参照して説明する。なお、第２の実施形態では、第１の実施形態との相違点（ポンプ設置）について説明し、第１の実施形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。

図５に示すように、第２の実施形態では、描画チャンバ２ａの外面にポンプ部５１が設けられている。このポンプ部５１は、第１の実施形態と同様のケース３３ａと、そのケース３３ａ内に設けられて描画チャンバ２ａ内を減圧する減圧部５１ａとを備えており、減圧部５１ａにより描画チャンバ２ａ及び光学鏡筒２ｂ内を所定の真空度まで減圧して真空状態とする。減圧部５１ａとしては、ターボポンプなど振動源となり得る減圧ポンプを用いることが可能である。

このポンプ部５１は減圧部５１ａの駆動時に振動する振動体となるため、第１の実施形態に係る振動減衰機構３４により描画チャンバ２ａの外面に設けられている。この振動減衰機構３４の設置構造などは第１の実施形態と同様であるが、描画チャンバ２ａの側壁には貫通孔２ａ２が形成されており、振動減衰機構３４が備える第１の伸縮管３４ａは、その一端部の開口内に描画チャンバ２ａの貫通孔２ａ２を含めるように設けられている。また、端部材３４ｃは板状に形成されており、その板状の端部材３４ｃは第２の伸縮管３４ｂの開口を完全に塞いでいる。

このような振動減衰機構３４によって、第１の実施形態と同じように、ポンプ部５１の駆動による振動が描画チャンバ２ａを介してその外面に位置するレーザ干渉計１３に伝わることが抑制され、レーザ干渉計１３が振動することが抑えられることになる。これにより、レーザ干渉計１３の計測精度が低下すること、ひいては描画精度などの装置精度が低下すること（精度劣化）を抑制することが可能となる。

以上説明したように、第２の実施形態によれば、前述の第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。すなわち、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂによりポンプ部５１を挟むことによって、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂが大気圧によって縮もうとする力を相殺し、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂの柔軟性が低下することを抑えることが可能となる。これにより、それらの第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂによって、描画チャンバ２ａに伝わるポンプ振動を確実に減衰することができるため、レーザ干渉計１３の計測精度の低下、すなわち描画精度などの装置精度の低下を抑制することができる。

（他の実施形態）
前述の第１又は第２の実施形態においては、振動減衰機構３４を荷電粒子ビーム描画装置１に適用しているが、これに限るものではなく、例えば、電子顕微鏡や露光機、検査機などの他の荷電粒子ビーム装置に適用することも可能である。

また、前述の第１又は第２の実施形態においては、第１の伸縮管３４ａ及び第２の伸縮管３４ｂを、それらの開口面積が一致するように形成しているが、これに限るものではなく、前述の相殺バランスの調整に応じて開口面積を変えて形成するようにしても良い。ただし、開口面積の差が大きくなると本実施態様における振動減衰の効果が低減するため、開口面積比を１：２以内に留めることが望ましい。

また、前述の第１又は第２の実施形態においては、駆動部３３又はポンプ部５１のケース３３ａを支持部材３４ｅにより支持しているが、これに限るものではなく、例えば、ケース３３ａの下方に位置する維持部材３４ｄを板状に形成し、その維持部材３４ｄにより防振部材３４ｆを介してケース３３ａを支持するようにしても良い。この場合には、維持部材３４ｄが支持部材として機能することになる。

また、前述の第１又は第２の実施形態においては、描画チャンバ２ａの外面に支持部材３４ｅを設けているが、これに限るものではなく、例えば、描画チャンバ２ａを支持する台座などの他の部材に設けるようにしても良い。

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１ 荷電粒子ビーム描画装置
２ 描画部
２ａ 描画チャンバ
２ａ１ 貫通孔
２ａ２ 貫通孔
２ｂ 光学鏡筒
３ 制御部
３ａ 描画データ記憶部
３ｂ ショットデータ生成部
３ｃ 描画制御部
１１ 搭載物
１１ａ ミラー
１２ ＸＹステージ
１２ａ Ｘステージ
１２ｂ Ｙステージ
１３ａ 第１のレーザ干渉計
１３ｂ 第２のレーザ干渉計
３２ ロッド
３３ 駆動部
３３ａ ケース
３３ａ１ 貫通孔
３３ａ２ 貫通孔
３３ｂ 駆動ローラ
３３ｃ 加圧ローラ
３３ｄ モータ
３４ 振動減衰機構
３４ａ 第１の伸縮管
３４ｂ 第２の伸縮管
３４ｃ 端部材
３４ｃ１ 貫通孔
３４ｄ 維持部材
３４ｅ 支持部材
３４ｆ 防振部材
４１ 板部材
４２ 空間ケース
５１ ポンプ部
５１ａ 減圧部
Ｂ 電子ビーム
Ｗ 試料

Claims (5)

1. 気密性を有する真空容器と、
   前記真空容器の外面に設けられ、前記真空容器の内部空間とつながって気密性を有する第１の伸縮管と、
   前記第１の伸縮管における前記真空容器の反対側の端部に設けられ、前記第１の伸縮管の内部空間とつながって気密性を有する振動体と、
   前記振動体における前記第１の伸縮管の反対側の端部に設けられ、前記振動体の内部空間とつながって気密性を有する第２の伸縮管と、
   前記第２の伸縮管における前記振動体の反対側の端部に設けられ、その端部を塞ぐ端部材と、
   前記真空容器の前記外面と前記端部材との間に設けられ、前記真空容器の前記外面と前記端部材との離間距離を維持する維持部材と、
   を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
2. 前記振動体を支持する支持部材と、
   前記振動体と前記支持部材との間に設けられ、振動を吸収する防振部材と、
   をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム装置。
3. 前記支持部材は前記真空容器の前記外面に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の荷電粒子ビーム装置。
4. 前記維持部材は前記支持部材であることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の荷電粒子ビーム装置。
5. 気密性を有する真空容器の外面に設けられ、その真空容器の内部空間とつながって気密性を有する第１の伸縮管と、
   前記第１の伸縮管における前記真空容器の反対側の端部に設けられ前記第１の伸縮管の内部空間とつながって気密性を有する振動体における前記第１の伸縮管の反対側の端部に設けられ、前記振動体の内部空間とつながって気密性を有する第２の伸縮管と、
   前記第２の伸縮管における前記振動体の反対側の端部に設けられ、その端部を塞ぐ端部材と、
   前記真空容器の前記外面と前記端部材との間に設けられ、前記真空容器の前記外面と前記端部材との離間距離を維持する維持部材と、
   を備えることを特徴とする振動減衰機構。

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