JP6501388B2 - 移動・傾斜機構 - Google Patents

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本発明は、超小型でミクロンオーダーの精密移動可能でかつ力のある移動・傾斜機構に関するものである。
従来、微細移動として、小型でサブミクロンオーダーの超精密な移動距離制御が可能で、かつ、力のあるアクチュエーターとして圧電素子が広く利用されている。
この圧電素子は、100V程度の電圧を加えることで、数ミクロンから数十ミクロン伸縮する性質があり、かつ、非常に剛性が高い。そのため、精密な位置決め装置として使われている。
しかしながら、100V当たり、数ミクロンから数十ミクロンの可動範囲では、ストロークが短すぎて使いにくい場合が沢山あり、数百ミクロン以上のストロークがあると大変便利な場合が多い。
それを実現するために、圧電素子は何らかの変位拡大機構を利用したものが工夫されているが、折角圧電素子のサイズが小さいにも関わらず、圧電素子本体から外に大きくはみ出した変位拡大機構を有しておりサイズが大きい。つまり体積当たりの、ストローク×発生力、の大きさが小さいという問題があった。
また、圧電素子の支持部とは別に外部に変位拡大のために利用する梃子(レバー)の支点を必要とし設置が不便である。さらには、単なるディスクリート部品の塊なので、装置ごとに性能を保証することも難しいという問題もあった。
本発明は、これらの問題を解決するため、圧電素子のコンパクトさを生かしたまま、変位を拡大できる変位拡大機構を内蔵した一体型の微動機構装置を提供することを目的とし、数百ミクロン以上のストロークを実現し、かつ、剛性も高く、非常にコンパクトで使いやすく便利な微動機構を実現した。
更に、電子顕微鏡などでは、設置環境等から来る振動によって測定対象が振動して拡大画像の分解能等が劣化することが知られている。本発明を利用して、真空チャンバー天板に対して測定対象を測定時のみアドホックで固定して画像に現れる振動を止める方法も開示する。
そのため、本発明は、圧電素子に電圧を印加して測定対象を移動あるいは傾斜あるいは両者をさせる移動・傾斜機構において、支柱と、支柱の周辺に対称に配置した電圧を印加すると伸縮する圧電素子と、圧電素子の一端を固定する台座と、台座に一端を固定した圧電素子の他端を力点に接続し、かつ台座に一端を固定した支柱の他端を支点に接続したレバーと、レバーの作用点に接続した上蓋とを備え、圧電素子に電圧を印加したことによる圧電素子の伸縮に伴う力点の移動に伴い、レバーの支点を中心に、レバーの作用点に接続した上蓋をZ軸方向に移動およびZ軸方向に対して傾斜のいずれか1つ以上を行うようにしている。
この際、圧電素子を支柱に対して対称に2つ以上を設けるようにしている。
また、圧電素子の他端をレバーの力点に突起で接触するようにしている。
また、レバーの支点と力点との距離をa,支点と作用点との距離をbとしたとき、圧電素子の他端の伸縮をb/a倍に増幅するようにしている。
また、作用点に柔軟性の上蓋を接続するようにしている。
また、レバーは、各作用点を上蓋に接続し、各力点を圧電素子の他端に接続し、支点を支柱の他端に接続するようにしている。
また、レバーの作用点を可及的に支点に近づけて傾斜しやすくするようにしている。
また、X方向およびY方向に移動可能なXYステージの上に、3組の移動・傾斜機構を搭載してこの上にサンプルホルダを3点固定したステージを構成するようにしている。
また、3組の移動・傾斜機構の圧電素子に所定の電圧を印加し、サンプルホルダ3に固定したサンプルのZ方向の高さおよび傾きのいずれか1つ以上を調整するようにしている。
また、サンプルを固定したサンプルホルダを、対物レンズに連結した天板あるいは鏡筒に、撮影時にアドホック固定して画像振動を軽減するようにしている。
また、アドホック固定は、静電吸着とするようにしている。
本発明は、(1)非常に小型でありながら、強い力と、数百ミクロン以上のストロークが実現できる。
(2)形状がコンパクトであり、場所を取らない。
(3)変位拡大機構が装置内部にあるため、装置が小型になり装置設置は、変位を期待する場所に挟み込むだけで実現できる。
(4)多軸のアクチュエーターを1つの微動機構で実現することが可能となり、1方向の移動だけでなく、傾斜も可能になる。
(5)測定対象を天板に対して測定時にアドホックに固定することで、測定時に邪魔となる測定対象の振動を簡単に防げるようになる。振動自身をダンパーなどで制御しないので大掛かりな除振装置が不要となるため、コストダウンや装置のサイズダウン、フットプリント削減に寄与する。
本発明は、内蔵された変位拡大機構により、圧電素子の変位を拡大する微動機構を実現した。
図1は、本発明の1実施例構成図を示す。
図1の(a)は全体図を示し、図1の(a−1)は全体図の正面からの側面図を示し、図1の(a−2)はレバー1の要部を拡大した様子を模式的に示し、図1の(b)は図1の(a)のレバー1の要部説明図を示す。
図1において、レバー1は、支柱4を支点11とし、圧電素子3による伸縮を力点12に作用させ、上蓋6に作用点13によるZ方向の移動を作用させるためのレバー(梃子)であって、棒状、角状、板状などの形状を有するものであり、本発明では支点11を中心に対称(左右、前後、更に、任意角度で対称)に設けたものである。図1は左右対称の1組、図2は左右対称および前後対称の2組、更に、中心に支点を有する1つの円板、矩形板などの薄い板でもよい。
柔軟部2は、レバー1がたわむように柔軟にするものであって、レバー1の支点11を支柱4に固定(支持)したときに、レバー1の力点12に圧電素子3の伸縮が作用して当該レバー1をたわませるためのものである。レバー1をたわませる剛性のある薄い板(例えばリン青銅、ベリリウム合金などのばね材の薄板、更に、真鍮、ステンレスなどの薄板)で作製した場合には不要である。
圧電素子3は、電圧を印加したときに伸縮するものであって、ここでは、台座7に棒状の一端を固定し、他端をレバー1の力点12に接続したものである。圧電素子3に電圧を印加すると、当該圧電素子3が伸縮してレバー1の力点11を、上方向あるいは下方向(Z方向とする)に移動させるように働き、図1ではレバー1の作用点13を上方向あるいは下方向に増幅した移動量だけ移動させるものである。圧電素子3は、支点11を中心に図1では左右対称の位置にそれぞれ設けてあるため、右側および左側のレバー1の作用点13を上方向あるいは下方向のいずれかにそれぞれ増幅(後述するb/a倍だけ増幅)した移動量だけ移動させることとなる。
支柱4は、レバー1の支点11を保持するものであって、図1では棒状で、一端を台座7に固定し、他端にレバー1の支点11を保持(固定)するものである。
歪ゲージ5は、圧電素子3の支点側および作用点側に取り付けたものであって、圧電素子3に電圧を印加したときの当該圧電素子3の伸縮量をそれぞれ測定するゲージである。
上蓋6は、レバー1の支点11を中心に左右対称の作用点13に接続(固定)した板であって、Z軸方向に移動およびZ軸方向に対して傾斜させる対象のサンプルなどを搭載するためのものである。
図1の(b)において、レバー1は、支柱4に接続(固定)された支点11、圧電素子3に接続された力点12、および上蓋6に接続された作用点13から構成されている様子を模式的に示したものである。支点11と力点12との距離をa、力点12と作用点13との距離をbとしたとき、力点12に対して作用点13の移動量はb/a倍に増幅されることとなる。本発明は、このb/a倍の移動量を増幅する機構を内蔵させることにより、圧電素子3自身の伸縮量をb/aに増幅し、大幅な移動量を確保したものである。
次に、図1の構成の動作を説明する。
(1)図1の構成のもとで、レバー1の左右対称の位置に接続した2組の圧電素子3にそれぞれ同じ電圧を印加すると、2組の圧電素子3がそれぞれ伸縮して力点12を上方向あるいは下方向にそれぞれ移動させる。
(2)(1)の左右の力点12の上方向あるいは下方向へのそれぞれの移動に伴い、それぞれの作用点13がb/a倍されただけ上方向あるいは下方向に移動し、上蓋の左右をそれぞれ同移動量だけ移動させる。これにより、上蓋の支点11に対応する上部の部分が上方向あるいは下方向(Z方向)に圧電素子3の伸縮量のb/a倍した移動量だけ移動させることが可能となる。尚、圧電素子3の移動量は、当該圧電素子3の支点側、作用点側に固定した歪ゲージ5でその伸縮量をそれぞれ測定し、その平均で移動量を算出(測定)し、所望の電圧を圧電素子3に印加するようにすればよい。このようにすれば圧電素子3のヒステリシス等の非線形性も補正できる。
(3)例えばレバー1を、a=2mm,b=10mmとすればb/a=5倍だけ増幅する。そして、圧電素子3として、長さ20mmで100Vを印加して20μ伸縮させれば、その5倍の100μだけ上蓋6を上方向あるいは下方向(Z方向)に移動させることが可能となる。尚、圧電素子3に正あるいは負の逆電圧を印加すると、移動量を逆方向にすることができ、上蓋6は上方向あるいは下方向に移動することなく、傾斜することとなるので、傾斜機構としても使用できる。
(4)圧電素子3は発生力が3000N以上と大きく、剛性も190N以上と大きいため、断面が1平方センチメートルの圧電素子3を用いた場合、1μのたわみを許せば、20Kg以上の荷重を載せることが出来る。従って、それを複数用いて5倍程度移動量を拡大しても数Kg以上の荷重に耐えるため、半導体用のフォトマスクおよびそのパレットなどを載せて上下移動することも容易に出来ることが判明した。この際、大きな変位(移動量)を得るためには、てこの原理から出来るだけ、力点12を支点11に近づけることが設計上重要であるため、図1の(a−2)に示すように、柔軟部2を支点11の近くに設けてこれを実現しやすくしたものである。尚、実際の製造に際しては、レバー1のばね材の厚さ、断面積などを支点11の近くで薄く、小さくしてもよい。
図2は、本発明の1実施例構成図(その2)を示す。図2は、圧電素子3を同心円状の1つとした実施例構成図を示す。図2中の1、4、6,7は図1中の同一番号と同じであるので説明を省略する。
図2において、圧電素子31は、円筒状の圧電素子であって、支柱4の周囲に円筒状の圧電素子を配置したものである。
突起31は、円筒状の圧電素子31の支柱4に近い部分に設けた突起であって、レバー1の力点12として接続(接触)する部分となるものである。図2では、支柱4の左右の当該支柱4に可及的に近い部分に突起31を設けてレバー1の力点12に接触するようにしている。
以上のように、圧電素子31を支柱4を取り巻く円筒状にすることにより、
(1)圧電素子31の断面積を大きくすることができ、より大きな荷重に耐えられる(図2の装置の単位面積当たりの変位量×荷重が大きくなる)。
(2)また、支柱4の周辺に配置された圧電素子31は1つの圧電素子なので、変位量(移動量)のばらつきも無い。例えば、直径が3cmの装置であれば、その外周ぎりぎりまでのサイズを持つ圧電素子31を利用可能で、5倍変位量をとっても10Kg近い荷重に耐えることが出来る。力点12が出来るだけ支点11に近くなるように、圧電素子31の先端には、支点に近い方に突起31を設けることにより、圧電素子31が大きくなっても、支点11と力点12の距離を近く保つことが出来る。
図3は本発明の1実施例構成図(その3)を示し、図3の(a−1)は全体の正面から見た側面図を示し、図3の(a−2)は上面からみた模式図を示す。この図3は、図1、図2が中心に支柱4を配置しその周辺に圧電素子3、31を配置したのと逆に、中心に圧電素子3を配置してその周辺に支柱40を配置した実施例構成図を示す。
図3において、圧電素子3は、中心に配置した円柱状あるいは矩形状の圧電素子である。
支柱40は、圧電素子3の周辺に配置した支柱であって、本例では圧電素子3の周辺に設けた円筒状の支柱である。
突起31は、圧電素子3の周辺であって、かつ左右対称および前後対称の位置に配置してレバー1の力点12に対応する位置に設けたものである。本例の場合には、レバー1の支点11を中心に、力点12と作用点13とを左右に分離して設けたものである(いわゆる天秤のレバー1と同じである)。
ベアリング32は、支柱40の上に固定して支点11となるものである。
次に、図3の構成および特徴を説明する。
(1)圧電素子3を中心に4本のレバー1が周辺に伸びている。圧電素子3に設けた突起31がレバー1の力点12に対応して当該レバー1に変位を加える働きをする。
(2)圧電素子3に電圧を印加すると、圧電素子3の突起31を介してレバー1の力点12に加えられた変位は、支柱40に固定したべリング32に接続されたレバー1の支点11を介して拡大されてレバー1の作用点13に増幅される。
(3)増幅されたレバー1の作用点13を剛性のある上蓋6の両端に接続することで、上蓋6が上あるいは下方向(Z方向)に増幅された移動量だけ移動する。
(4)以上のように構成すれば、1本の圧電素子3で構成できる。また、出来るだけ、圧電素子31を太く(断面積をおおきく)した方が、大きな荷重に耐えられる。但し、余り大きくしすぎると、レバー1のb/aの増幅率を大きく取ることが困難となる。
(5)また、支柱40の端部に突起31を設けて、支点11が圧電素子3に近づくように工夫する。レバー1には回転自由度だけが必要なので、摩擦が小さくなるように非常に小さなベアリング32を用い、支点11で支えても良い。このようにしておけば、装置を上下さかさまにしても、破損しないし、設置が容易になる。
図4は、本発明の1実施例構成図(その4)を示す。図4は、台座7の部分から外筒22が伸びており、圧電素子3を取り囲んでいる。外観は一本の筒の様に見えるように成っている。外筒22と内筒21との間には、わずかに隙間が空いている。
また、レバー1の作用点13となる部材は、茶筒の様に装置全体を取り囲むように配置され、わずかに隙間が設けられている。このようにすれば、本装置は1つのパイプの様に扱うことが可能となり、ハンドリングが容易となる。レバー1の作用点13の隙間を制御すれば、可動軸が曲がってしまうことを避けることも出来る。
また、大きな衝撃が加えられた時の変形も防止できる。
また、圧電素子3には圧電素子駆動用の高圧アンプ41から電圧が供給され、その供給電圧はPC42等の制御装置から制御信号をアンプ41に送ることによって実現される。
図5は本発明の1実施例構成図(その5)を示し、図5の(a−1)は正面から見た側面図を示し、図5の(a−2)は上面から見た模式図を示す。ここで、図5は、1つの装置で複数の圧電素子3による多軸動作を実現した例を示す。
図5において、圧電素子3は、円筒状の圧電素子を複数に分割したものであって、ここでは、4つの独立した同等の圧電素子3を左右対称および前後対称に配置したものである。
外筒23は、台座7に固定し、4つの圧電素子3の外周に設けたものである。
次に、図5の構成および動作を説明する。
(1)図5の圧電素子3は、それぞれの圧電素子に、独立したアンプ41が接続され、それぞれの圧電素子3の伸縮量をPC42からの指令によって決めることが出来るように構成されている。
(2)図5の場合には、アクチュエーター(圧電素子3)が4つあるので、全てのアクチュエータ(圧電素子3)に同じ電気信号を送れば1軸方向(上あるいは下方向のZ軸方向)に上蓋6を伸縮する運動が行われ、それぞれ異なった電圧を供給すれば、上蓋6を右左前後に傾斜させることが可能となる。
図6は本発明の他の実施例構成図を示し、図6の(a−1)は正面からの見た側面図を示し、図6の(a−2)は上から見た模式図を示す。図6はフォトマスクを上下運動させるのに最適な、Z軸ステージの応用例を示す。実際の利用にあたっては、本装置をXYステージ等の移動手段の上に乗せてXYZステージとして利用する。
図6において、フォトマスク43は、走査型電子顕微鏡などの測長、検査装置におけるサンプルである。
マスクパレット44は、フォトマスク43を保持するものである。
Z軸可動装置45は、図1から5で説明した本発明のZ軸方向の移動・傾斜装置であって、ここでは、図6の(a−2)に示すように、マスクパレット44をP1(X1、Y1)、P2(X2、Y2)、P3(X3、Y3)で保持するものである。
次に、図6の構成および動作を説明する。
(1)図6の(a−2)に示す3点(P1,P2,P3の位置)に、図6の(a−1)に示すようにZ軸可動装置45を配置し、マスクパレット44を保持する。
(2)(1)で3つのZ軸可動装置45でマスクパレット44を保持したことにより、フォトマスク43の、図示外の走査型電子顕微鏡を用いた測長装置の対物レンズへの高さ(Z方向)を所望の位置に移動できるZ軸ステージを構成する。マスクパレット44への作用点(接触点)は位置決めが正確になるようにルビーボール等を用いて当該マスクパレット44のそこに3点接触するようにすることが望ましい。
(3)本発明の装置は非常に小型なので、従来の装置において利用されている、マスクパレット44の支柱をそのまま置き換えることが出来る。従って、従来のステージの設計変更や製造変更しなくても、Z軸可動機構を搭載して実装することが容易に出来る。
(4)Z軸可動装置45は全体が金属で覆われているため、真空装置内部で有機物を除去するために行われるプラズマ洗浄等を行っても素子が破壊することが無い。Z軸可動装置45の外周のケースを非磁性材料で作ることにより、電子ビームに影響を避けることが出来る。それぞれのZ軸可動装置45を独立に制御すれば、フォトマスク43を傾斜させたり、Z軸方向に微細に移動させたりし、図示外の対物レンズに対して精密に平行にすることが出来る。これらの制御は別途設けたフォトマスク高さ測定装置(レーザ干渉計など)からの信号を用いて行うことが出来る。
図7は、本発明の説明図(Z軸+傾斜可能装置)を示す。図7は、電子顕微鏡で観察するためのサンプルを積極的に傾斜させるために最適なステージへの応用例を示す。
図7において、サンプル46は、電子顕微鏡などで観察する対象のサンプル(例えばフォトマスクなど)である。
サンプルホルダー47は、サンプル46を保持するものである。
作用点48は、既述した上蓋6の上に、レバー1の支点11の真上の点を中心に、対称にここでは左右に2つ設けた作用点である。図示の2つの対称の作用点の上にサンプルホルダー47を固定する。
次に、図7の構成および動作を説明する。
(1)図7は、サンプルホルダー45(図6のマスクパレット44に相当)の中心部分に本発明のZ軸可動装置45を配置することに特徴がある。
(2)(1)のようにすることによって、マスクパレットはZ軸方向に移動(左右対称に配置した圧電素子(1)、(2)に同じ電圧を印加してZ軸方向に移動)できるばかりでなく、傾斜(例えば左右対称に配置した圧電素子(1)、(2)に逆電圧を印加して傾斜)させることが出来る。傾斜角度を大きくするためには、出来るだけ作用点48がレバー1の支点11(中心)の近くなるように設計することが大事で、距離を1mm程度に設計すれば10度近く傾斜させることが出来る。
図8は、本発明の他の実施例構成図(その2)を示す。図8は従来の走査型電子顕微鏡は床の上に除振台、その上にチャンバー(試料室)、その上にXYステージ、さらにその上に測定対象(フォトマスク)というように機械的に積み重ねた構造となっている。そのため、床で生じた振動(主に各種装置の駆動源であるモータが発生する100/120Hzの振動、更に交通機関の振動)は何らかの形で測定対象(マスクウェハ)に振動として伝わるという経路を本質的に持っている。そのため、従来は、画像(マスクウェハの画像)の揺れを無くすためには、床から来る振動を遮断することが必須と考えられ、沢山の振動遮断方法が考えられてきた。本発明はこの方法を根本的に変え、床からの機械振動を止めるのではなく、従来とは全く逆に、電子顕微鏡で測定されるサンプルを測定するときに天板あるいは電子ビームコラムに対して、アドホックに剛体結合することによって、測定対象が天板やコラム(つまりこれに接続された対物レンズ)と全く同じように振動するようにして、対物レンズからみたときの振動をなくし電子顕微鏡で得られる画像の振動を除去したものである。
そのために図8では、マスクパレット(サンプルホルダー)44の上に、本発明のZ軸可動装置45を設け、Z軸可動装置45を伸ばしたときのみ、天板52と機械的な剛体結合が起こる構造を持たせている。以下順次詳細に説明する。
図8において、電子ビームコラム51は、走査型電子顕微鏡の鏡筒であって、公知の電子ビームを発生する電子銃、発生された電子ビームを集束する集束レンズ、集束された電子ビームを対物レンズ53で細く絞ってフォトマスク43上に照射された電子ビームを走査する走査偏向系などから構成されるものである。
天板52は、電子ビームコラム51および対物レンズ53を固定、更に、静電吸着器54でマスクパレット44を静電吸着して固定するためのものである。内部は真空に排気される。
対物レンズ53は、天板52に固定した対物レンズであって、電子ビームを細く絞ってフォトマスク43上に照射するものである。
静電吸着器54は、マスクパレット44を天板52に静電吸着して固定するものであって、少なくとも3点でマスクパレット44を天板52に静電吸着するものである。静電吸着器54でマスクパレット44を天板52に固定したときは、Z軸可動装置45はXYステージ56とマスクパレット44との間の結合を可及的に疎(圧電素子に印加する電圧を外部から制御して機械的な結合を可及的に疎)にする。
力検出装置55は、Z軸可動装置45とマスクパレット44との間に加わる力を検出する素子である。静電吸着器54でマスクパレット44を天板52に静電吸着したときに、力検出装置55に加わる力が最小ないし0になるように、Z軸可動装置45の圧電素子に印加する電圧を外部から制御するためのものである。
XYステージ56は、Z軸可動装置45、その上にマスクパレット44、更にその上にフォトマスク43を搭載し、フォトマスク43上の任意の場所に電子ビームを照射させるようにX方向およびY方向に、図示外のレーザー干渉計でリアルタイムに計測しながら移動させるためのものである。
底板57は、XYステージ56などを固定するものである。
ドバイバー58は、Z軸可動装置45、静電吸着器54などを駆動する駆動回路であって、PC59からの指示に基づいて所定の電圧などを印加するためのものである。
次に、構成を説明する。
(1)電子顕微鏡の対物レンズ53の先端とフォトマスク(測定対象)43の表面は通常数mmのギャップ(空間)があり、これをWD(ワーキングディスタンス)と呼ぶ。フォトマスク43はXYステージ56等のX方向およびY方向に移動する移動機構の上に図示のように配置されており、自由に移動できるようになっている。
(2)一方、フォトマスク(測定対象)43は装置全体の設置環境から来る振動の影響を受けるため、XYステージ上に乗せられているフォトマスク43は、無視できない程度の振動を常にしている。観察分解能がnmのオーダーになると、除振装置では画像上の振動除去が事実上極めて困難となり、XYテーブル自身の共振周波数に一致するような、nmオーダー振動が残るようになってしまうのが現状である。
(3)nmの振動自身を取り除くことは非常に困難である。しかしながら、電子顕微鏡で観察される画像の振動は、電子ビームコラム51で起こる振動と、フォトマスク43で起こる振動との差分の振動であることに発明者は注目した。
(4)つまり、電子顕微鏡装置の全体が振動してもフォトマスク(サンプル)43と電子ビームコラム51(特に対物レンズ53)とが全く同じように振動すれば、観察される画像には振動は現れなくなるという点である。
(4)図8では、図1から図7で説明した本発明のZ軸駆動装置45を用い、フォトマスク(測定対象)43を測定時だけコンピュータから指令を与えて、天板(対物レンズ53)52に機械的に接触させることでフォトマスク43と天板と52を機械的に剛体固定し、フォトマスク43を電子ビームコラム51や天板52や対物レンズ53と全く同じように揺れるようにして、結果として画像に現れるXY平面振動を抑止する。
(5)図8では、外部エネルギーによる振動を停止させる訳ではないので、大きなエネルギーは不要であり、容易に天板52の振動、つまりは電子ビームコラム51(対物レンズ53)の振動と測定対象試料の振動とが一致させることで画像上の振動を除去出来る。静電吸着器54の先端が天板52に良く接触して、力学的に剛体結合されるように、シリコーン等の滑り止め材料を接触部分に用いても良い。
(6)図8の構成にすると、電子顕微鏡が設置環境からの振動によって振動しても、フォトマスク(測定試料)43は測定時に天板52、電子ビームコラム51、対物レンズ53に対して力学的に剛体固定されるため、両者の間の振動の差分が無くなり、完全に停止した観察画像を得ることができる。これにより、振動による影響を無くしてあるいは極めて小さくして電子顕微鏡の画像分解能は各段に上昇させることができる。
(7)測定時以外は、静電吸着器54をOFFにするので、フォトマスク43をXY方向に自由に動かすことが可能なので、XYステージ56を用いて所望の測定場所に移動させることができる。
(8)Z軸可動装置45、図8に示したようなフォトマスク43の全体を上下する機構として導入しても良いし、マスクパレット44上に天板52に対してアドホックな固定が出来るようにZ軸可動装置45を取り付けても良い。
次に、図9のフローチャートの順番に従い、図8の構成の動作を詳細に説明する。
図9は、本発明の動作説明フローチャートを示す。
図9において、S1は、測定対象をXYステージで指示位置に移動させる。これは、図8のXYステージ56を用いてフォトマスク43が指示位置にくるように、図示外のレーザー干渉計でリアルタイムにX方向およびY方向を測定しつつ移動させ、電子ビームを平面走査して画像を撮影する場所に移動させる。
S2は、XYステージ56の移動制御を停止させるステップである。
S3は、天板と測定対象をアドホックに剛体結合する。これは、図8の静電吸着器54をONにして測定対象(マスクパレット44)を天板52に静電吸着させ、測定対象と天板52とを機械的に剛体結合する。
S4は、測定する。これは、S3の測定対象(マスクパレット44に搭載したフォトマスク53)を天板52に剛体結合した状態で、細く絞った電子ビームをフォトマスク53上に照射しつつ平面走査し、そのときに放出された2次電子を図示外の検出器で検出・増幅し、画像を取得する。そして、画像上のパターンの寸法などを測定する。
S5は、アドホック剛体結合を解除する。これは、図8の静電吸着器54をOFFにし、剛体結合を解除し、XYステージ56で移動可能にする。
S6は、測定終了か判別する。YESの場合には、終了する。NOの場合には、S1に戻り、繰り返す。
以上によって、図8の構成のもとで、XYステージ56で所望の撮影場所にフォトマスク43を移動させた後、静電吸着器54でフォトマスク43を搭載したマスクパレットS3を天板52に静電吸着して剛体結合して外部振動の影響を無くした状態でフォトマスク43の画像を撮影してそのパターンの寸法を測定する。撮影後に、静電吸着器54をOFFにし、XYステージ56で次の撮影場所に移動することを繰り返すことが可能となる。
図10は、本発明の動作説明フローチャート(その2)を示す。図10は、図6から図8の構成のもとで、フォトマスク43のZ軸方向の高さを水平に調整する場合の手順の詳細フローチャートを示す。
図10において、S11は、現在状態を測定する。
S12は、移動指示を受け取る。これは、S11で測定した現在状態のP1(X1、Y1、Z1)、P2(X2、Y2、Z2),P3(X3、Y3、Z3)の各座標情報をもとに、フォトマスク43を水平に調整するための座標情報をP10(x1、y1、z1)、P20(x2、y2、z2),P30(x3、y3、z3)の各座標情報を受け取る。
S13は、差分を算出する。これは、現在状態と移動指示状態との差分を下記のように算出する。ここでは、通常、x1,X1は同じ、y1,Y1は同じであるので、z1,Z2の差分のみを算出することとなる。
・(x1−X1)≒0
・(y1−Y1)≒0
・(z1−Z1)
S14は、各圧電素子を駆動する。これは、S13で算出した差分に相当する距離だけ移動させるように各圧電素子に電圧を増加あるいは減少させる。
S15は、確認、再度現在位置を測定する。これは、S14で差分に相当する距離だけ移動させるように各圧電素子の電圧を増加あるいは減少させたので、再度、現在位置のP1,P2,P3のx、y、zの座標を測定し、所定の範囲に入っているか確認する。
S16は、許容値以内か判別する。YESの場合には終了する。NOの場合にはS11以降を繰り返す。
以上によって、図6から図8の構成中の3つのZ軸可動装置45の装着した座標P1,P2,P3についてフォトマスク43上の基準マークなどをもとに水平に保持されるように当該座標P1,P2,P3の値のうち各Zを移動指示し、フォトマスク43を水平に自動調整することが可能となる。
図11は、本発明のサンプル高さ制御テーブル例を示す。現在位置は調整前の現在状態のP1,P2,P3の座標である(図6参照)。制御後位置は調整後の状態のP10.P20.P30の座標である。各座標は、フォトマスク43が変わる毎に変動するので、その都度、現在位置を測定し、フォトマスク43が水平に保持されるように制御後位置を調整することにより、フォトマスク43を常に水平に保持させることが可能となる。
本発明の1実施例構造図である。 本発明の1実施例構成図(その2)である。 本発明の1実施例構成図(その3)である。 本発明の1実施例構成図(その4)である。 本発明の1実施例構成図(その5)である。 本発明の他の実施例構成図である。 本発明の説明図である。 本発明の他の実施例構成図(その2)である。 本発明の動作説明フローチャートである。 本発明の動作説明フローチャート(その2)である。 本発明のサンプル高さ制御テーブル例である。
1:レバー
2:柔軟部
3:圧電素子
4、40:支柱
5:歪ゲージ
6:上蓋
7:台座
11:支点
12:力点
13、48:作用点
21:内筒
22、23:外筒
31:突起
32:ベアリング
41:アンプ
42、59:PC(パソコン)
43:フォトマスク
44:マスクパレット
45:Z軸可動装置
46:サンプル
47:サンプルホルダー
51:電子ビームコラム
52:天板
53:対物レンズ
54:静電吸着器
55:力検出器
56:XYステージ
57:底板
58:ドライバー
60:サンプル高さ制御テーブル

Claims (10)

  1. 圧電素子に電圧を印加して測定対象を移動あるいは傾斜あるいは両者をさせる移動・傾斜機構において、
    支柱と、
    前記支柱の周辺に対称に配置した、電圧を印加すると伸縮する、2つ以上の圧電素子と、
    前記圧電素子の一端を固定する台座と、
    前記台座に一端を固定した圧電素子の他端を力点に接続し、かつ前記台座に一端を固定した支柱の他端を支点に接続したレバーと、
    前記レバーの作用点に接続した上蓋とを備え、
    前記圧電素子に電圧を印加したことによる当該圧電素子の伸縮に伴う前記力点の移動に伴い、前記レバーの支点を中心に、前記レバーの作用点に接続した上蓋をZ軸方向に移動およびZ軸方向に対して傾斜のいずれか1つ以上を行うことを特徴とする移動・傾斜機構。
  2. 前記圧電素子の他端を前記レバーの力点に突起で接触するように構成したことを特徴とする請求項1に記載の移動・傾斜機構。
  3. 前記レバーの支点と力点との距離をa,支点と作用点との距離をbとしたとき、前記圧電素子の他端の伸縮をb/a倍に増幅したことを特徴とする請求項1ないし請求項のいずれかに記載の移動・傾斜機構。
  4. 前記作用点に柔軟性の前記上蓋を接続したことを特徴とする請求項1から請求項のいずれかに記載の移動・傾斜機構。
  5. 前記レバーは、各作用点を前記上蓋に接続し、各力点を前記圧電素子の他端に接続し、支点を前記支柱の他端に接続したことを特徴とする請求項1から請求項のいずれかに記載の移動・傾斜機構。
  6. 前記レバーの作用点を可及的に支点に近づけて傾斜しやすくしたことを特徴とする請求項1から請求項のいずれかに記載の移動・傾斜機構。
  7. X方向およびY方向に移動可能なXYステージの上に、3組の前記移動・傾斜機構を搭載してこの上にサンプルホルダを3点固定したことを特徴とする請求項1から請求項のいずれかに記載の移動・傾斜機構。
  8. 前記3組の移動・傾斜機構の圧電素子に所定の電圧を印加し、サンプルホルダ3に固定したサンプルのZ方向の高さおよび傾きの1つ以上を調整することを特徴とする請求項に記載の移動・傾斜機構。
  9. サンプルを固定した前記サンプルホルダを、対物レンズに連結した天板あるいは鏡筒に、撮影時にアドホック固定して画像振動を軽減したことを特徴とする請求項あるいは請求項に記載の移動・傾斜機構。
  10. 前記アドホック固定は、静電吸着としたことを特徴とする請求項記載の移動・傾斜機構。
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