JPH0414281B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0414281B2 JPH0414281B2 JP59164943A JP16494384A JPH0414281B2 JP H0414281 B2 JPH0414281 B2 JP H0414281B2 JP 59164943 A JP59164943 A JP 59164943A JP 16494384 A JP16494384 A JP 16494384A JP H0414281 B2 JPH0414281 B2 JP H0414281B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printed circuit
- circuit board
- wiring pattern
- light
- fluorescence
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N21/6456—Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Input (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、表面にはんだ付された配線パターン
を有するプリント基板において、はんだ表面から
の正反射光を受光することなく、プリント基板か
ら励起された蛍光のみの光像を結像させて画像と
して検出して、配線パターンのネガテイブパター
ンを得て配線パターンの欠陥を検査するプリント
基板上の配線パターンの検査装置に関するもので
ある。
を有するプリント基板において、はんだ表面から
の正反射光を受光することなく、プリント基板か
ら励起された蛍光のみの光像を結像させて画像と
して検出して、配線パターンのネガテイブパター
ンを得て配線パターンの欠陥を検査するプリント
基板上の配線パターンの検査装置に関するもので
ある。
蛍光を利用したプリント基板上の配線パターン
の検出法に関しては、特願58−106750に細述され
ているように第１図に示すように紫（外）光４を
ダイクロイツク鏡５によつて垂直方向に曲げ、上
方から対象物（プリント基板）６を照射する。対
象物からは、紫（外）光が反射するとともに、基
材部７から蛍光１４が発生する。ダイクロイツク
鏡５は紫（外）光を透過し、これより長い波長の
蛍光（黄・緑色光等）を透過する性質を持つてい
る。つぎに光はレンズ８を通り、配線パターンの
ネガテイブパターン像を結像するが、途中に黄・
緑色光等長い波長の光のみを通す長波長透過フイ
ルタ１０を挿入する。これによつて、蛍光１４″
のみの画像を得るので物体の反射率によらない鮮
明な画像が得られる。
の検出法に関しては、特願58−106750に細述され
ているように第１図に示すように紫（外）光４を
ダイクロイツク鏡５によつて垂直方向に曲げ、上
方から対象物（プリント基板）６を照射する。対
象物からは、紫（外）光が反射するとともに、基
材部７から蛍光１４が発生する。ダイクロイツク
鏡５は紫（外）光を透過し、これより長い波長の
蛍光（黄・緑色光等）を透過する性質を持つてい
る。つぎに光はレンズ８を通り、配線パターンの
ネガテイブパターン像を結像するが、途中に黄・
緑色光等長い波長の光のみを通す長波長透過フイ
ルタ１０を挿入する。これによつて、蛍光１４″
のみの画像を得るので物体の反射率によらない鮮
明な画像が得られる。
しかしながら、この検出方法を、例えば半田等
の反射率の高いもので形成されたパターン（配線
パターン）１１の検出に利用すると、反射率が高
いために、照明紫（外）光１３が強く反射される
ためにダイクロイツク鏡５、長波長透過フイルタ
１０では反射紫（外）光１３を十分に遮断するこ
とができず、蛍光１４″のみによる配線パターン
のネガテイブパターン像の検出が難しい面を有し
ていた。
の反射率の高いもので形成されたパターン（配線
パターン）１１の検出に利用すると、反射率が高
いために、照明紫（外）光１３が強く反射される
ためにダイクロイツク鏡５、長波長透過フイルタ
１０では反射紫（外）光１３を十分に遮断するこ
とができず、蛍光１４″のみによる配線パターン
のネガテイブパターン像の検出が難しい面を有し
ていた。
本発明の目的は、表面にはんだ付された配線パ
ターンを有するプリント基板において、配線パタ
ーンによつて影が生じることなく励起光を照射で
き、しかもはんだ表面からの正反射光を受光する
ことなく、プリント基板から励起された蛍光のみ
の光像を結像させて画像として検出して、配線パ
ターンのネガテイブパターンを得て配線パターン
の欠陥を検査することができるようにしたプリン
ト基板上の配線パターンの検査装置を提供するこ
とにある。
ターンを有するプリント基板において、配線パタ
ーンによつて影が生じることなく励起光を照射で
き、しかもはんだ表面からの正反射光を受光する
ことなく、プリント基板から励起された蛍光のみ
の光像を結像させて画像として検出して、配線パ
ターンのネガテイブパターンを得て配線パターン
の欠陥を検査することができるようにしたプリン
ト基板上の配線パターンの検査装置を提供するこ
とにある。
本発明は、上記目的を達成するために、表面に
はんだ付された配線パターンを有するプリント基
板の垂直方向に対して傾斜させた複数方向から、
フイルタを通すことによつて蛍光を消去した紫色
以外の短波長の光で形成された励起光をほぼ平行
光にして上記配線パターンのはんだ表面で正反射
する正反射光を視野外に逃がすように上記プリン
ト基板上に照射する複数の励起光照射手段と、上
記プリント基板の垂直方向に光軸を有し、且つ上
記複数の励起光照射手段の各々により照射されて
プリント基板の基材で励起され、上記視野内に入
射してフイルタを通すことにより得られる蛍光の
みの像を結像させる結像光学系と、該結像光学系
で結像されたプリント基板の基材で励起された蛍
光のみの像を受光して画像信号に変換する光電変
換手段とを備え、該光電変換手段で変換された画
像信号からはんだ付された配線パターンのネガテ
イブパターンを得て配線パターンの欠陥を検査す
るように構成したことを特徴とするプリント基板
上の配線パターンの検査装置である。
はんだ付された配線パターンを有するプリント基
板の垂直方向に対して傾斜させた複数方向から、
フイルタを通すことによつて蛍光を消去した紫色
以外の短波長の光で形成された励起光をほぼ平行
光にして上記配線パターンのはんだ表面で正反射
する正反射光を視野外に逃がすように上記プリン
ト基板上に照射する複数の励起光照射手段と、上
記プリント基板の垂直方向に光軸を有し、且つ上
記複数の励起光照射手段の各々により照射されて
プリント基板の基材で励起され、上記視野内に入
射してフイルタを通すことにより得られる蛍光の
みの像を結像させる結像光学系と、該結像光学系
で結像されたプリント基板の基材で励起された蛍
光のみの像を受光して画像信号に変換する光電変
換手段とを備え、該光電変換手段で変換された画
像信号からはんだ付された配線パターンのネガテ
イブパターンを得て配線パターンの欠陥を検査す
るように構成したことを特徴とするプリント基板
上の配線パターンの検査装置である。
第２図に実施例を示す。
検出光学系は第１図のものと同じであるが、表
面にはんだ付された配線パターン１１を有するプ
リント基板６の垂直方向に対して傾斜（角度θ）
させ、配線パターン１１によつて影が生じないよ
うに、配線パターン１１の両側の複数方向から、
フイルタ３を通すことによつて蛍光を消去した照
明光（紫色以外の短波長の光で形成された励起
光）４をほぼ平行光にして、配線パターン１１の
はんだ表面で正反射する正反射光をレンズ（結像
レンズ）８の視野外に逃がすようにプリント基板
６上に照射する。斜から対象物６に入射する光４
は、対象物６により正反射をおこし、反対側に反
射する。角度θは、反射光１２がレンズ８に入射
しない角度を選択する。第１図においては、照明
光４は垂直落射でパターン１１に入射するため、
パターン１１の反射率が高いと強い反射光１３が
レンズ８に入射する。通常基材部７から発生する
蛍光１４は入射光４の強度の1/1000〜1/10000の
強度であり非常に弱いため、ダイクロイツク鏡
５、長波長透過フイルタ１０を用いても、照明光
４の反射光１３を、1/10000以下の強度に減衰さ
せることは困難である。
面にはんだ付された配線パターン１１を有するプ
リント基板６の垂直方向に対して傾斜（角度θ）
させ、配線パターン１１によつて影が生じないよ
うに、配線パターン１１の両側の複数方向から、
フイルタ３を通すことによつて蛍光を消去した照
明光（紫色以外の短波長の光で形成された励起
光）４をほぼ平行光にして、配線パターン１１の
はんだ表面で正反射する正反射光をレンズ（結像
レンズ）８の視野外に逃がすようにプリント基板
６上に照射する。斜から対象物６に入射する光４
は、対象物６により正反射をおこし、反対側に反
射する。角度θは、反射光１２がレンズ８に入射
しない角度を選択する。第１図においては、照明
光４は垂直落射でパターン１１に入射するため、
パターン１１の反射率が高いと強い反射光１３が
レンズ８に入射する。通常基材部７から発生する
蛍光１４は入射光４の強度の1/1000〜1/10000の
強度であり非常に弱いため、ダイクロイツク鏡
５、長波長透過フイルタ１０を用いても、照明光
４の反射光１３を、1/10000以下の強度に減衰さ
せることは困難である。
本発明によれば、第２図に示すように入射光４
は斜めから入射するため、反射光１２はレンズ８
に入射しないため、レンズ８に入射する光１３，
１４′は、入射光の反射光１３の強度が低い。従
つて、長波長透過フイルタ１０によつて十分に反
射光１３を遮断することができるので、パターン
検出器９には、プリント基板６の基材部７から発
生する蛍光のみの光像がレンズ８によつて結像さ
れ、蛍光のみの画像が形成される。従つて、基材
部「明」、パターン部「暗」の明確なネガテイブ
配線パターンの画像が検出可能となる。
は斜めから入射するため、反射光１２はレンズ８
に入射しないため、レンズ８に入射する光１３，
１４′は、入射光の反射光１３の強度が低い。従
つて、長波長透過フイルタ１０によつて十分に反
射光１３を遮断することができるので、パターン
検出器９には、プリント基板６の基材部７から発
生する蛍光のみの光像がレンズ８によつて結像さ
れ、蛍光のみの画像が形成される。従つて、基材
部「明」、パターン部「暗」の明確なネガテイブ
配線パターンの画像が検出可能となる。
なお、蛍光１４の発生は、第３図に示すように
入射光４に対して、等方的に蛍光１４が発生す
る。従つて入射光４を斜から入射させても、蛍光
１４はレンズ８の方向に発生する成分があるの
で、この成分による蛍光１４′，１４″によつて検
出器９の上に像が結像する。入射光４を斜にした
ことによる問題はおこらない。
入射光４に対して、等方的に蛍光１４が発生す
る。従つて入射光４を斜から入射させても、蛍光
１４はレンズ８の方向に発生する成分があるの
で、この成分による蛍光１４′，１４″によつて検
出器９の上に像が結像する。入射光４を斜にした
ことによる問題はおこらない。
本発明によれば、表面にはんだ付された配線パ
ターンを有するプリント基板において、配線パタ
ーンによつて影が生じることなく励起光を照射で
き、しかもはんだ表面からの正反射光を受光する
ことなく、プリント基板から励起された蛍光のみ
の光像を結像させて画像として検出して、配線パ
ターンのネガテイブパターンを得て配線パターン
の欠陥を検査することができる極めて大きな効果
を奏する。
ターンを有するプリント基板において、配線パタ
ーンによつて影が生じることなく励起光を照射で
き、しかもはんだ表面からの正反射光を受光する
ことなく、プリント基板から励起された蛍光のみ
の光像を結像させて画像として検出して、配線パ
ターンのネガテイブパターンを得て配線パターン
の欠陥を検査することができる極めて大きな効果
を奏する。
第１図は検出光学系の正面図、第２図は本発明
の一実施例の検出光学系の正面図、第３図は検査
対象物断面と照明光の入射説明図である。 １……ランプ、３……紫（外）光フイルタ、４
……入射光、入射紫（外）光、６……対象物、８
……レンズ、９……検出器、１０……長波長透過
フイルタ、１４……蛍光。
の一実施例の検出光学系の正面図、第３図は検査
対象物断面と照明光の入射説明図である。 １……ランプ、３……紫（外）光フイルタ、４
……入射光、入射紫（外）光、６……対象物、８
……レンズ、９……検出器、１０……長波長透過
フイルタ、１４……蛍光。
Claims (1)
- １ 表面にはんだ付された配線パターンを有する
プリント基板の垂直方向に対して傾斜させた複数
方向から、フイルタを通すことによつて蛍光を消
去した紫色以外の短波長の光で形成された励起光
をほぼ平行光にして上記配線パターンのはんだ表
面で正反射する正反射光を視野外に逃がすように
上記プリント基板上に照射する複数の励起光照射
手段と、上記プリント基板の垂直方向に光軸を有
し、且つ上記複数の励起光照射手段の各々により
照射されてプリント基板の基材で励起され、上記
視野内に入射してフイルタを通すことにより得ら
れる蛍光のみの像を結像させる結像光学系と、該
結像光学系で結像されたプリント基板の基材で励
起された蛍光のみの像を受光して画像信号に変換
する光電変換手段とを備え、該光電変換手段で変
換された画像信号からはんだ付された配線パター
ンのネガテイブパターンを得て配線パターンの欠
陥を検査するように構成したことを特徴とするプ
リント基板上の配線パターンの検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59164943A JPS6144309A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | プリント基板上の配線パターンの検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59164943A JPS6144309A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | プリント基板上の配線パターンの検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6144309A JPS6144309A (ja) | 1986-03-04 |
| JPH0414281B2 true JPH0414281B2 (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=15802795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59164943A Granted JPS6144309A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | プリント基板上の配線パターンの検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6144309A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63298484A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Kawasaki Steel Corp | 指紋検出用投受光装置 |
| JPH05196416A (ja) * | 1992-01-17 | 1993-08-06 | Japan Radio Co Ltd | 光学式変位測定装置 |
| IES20000264A2 (en) * | 1999-04-07 | 2000-11-15 | Mv Res Ltd | A system and method for the inspection of dielectric materials |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5599047A (en) * | 1979-01-24 | 1980-07-28 | Hitachi Ltd | Measuring apparatus for surface fluorescence |
| JPS58129351A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-02 | Fujitsu Ltd | フオトルミネツセンス強度測定装置 |
| JPS58153151A (ja) * | 1982-03-09 | 1983-09-12 | Toshiba Corp | 発光物質検出装置 |
-
1984
- 1984-08-08 JP JP59164943A patent/JPS6144309A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5599047A (en) * | 1979-01-24 | 1980-07-28 | Hitachi Ltd | Measuring apparatus for surface fluorescence |
| JPS58129351A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-02 | Fujitsu Ltd | フオトルミネツセンス強度測定装置 |
| JPS58153151A (ja) * | 1982-03-09 | 1983-09-12 | Toshiba Corp | 発光物質検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6144309A (ja) | 1986-03-04 |
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