JPH04136777A - Ｓｑｕｉｄ素子 - Google Patents
Ｓｑｕｉｄ素子Info
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- JPH04136777A JPH04136777A JP2256973A JP25697390A JPH04136777A JP H04136777 A JPH04136777 A JP H04136777A JP 2256973 A JP2256973 A JP 2256973A JP 25697390 A JP25697390 A JP 25697390A JP H04136777 A JPH04136777 A JP H04136777A
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Landscapes
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、微弱な磁場を計測するのに好適な磁束計に関
し、特に薄膜技術で形成した超伝導量子干渉素子（以下
にＳＱＵＩＤ素子）に関する。
し、特に薄膜技術で形成した超伝導量子干渉素子（以下
にＳＱＵＩＤ素子）に関する。
５ＱｔＪＩＤ磁束計についてジャーナル・オブ・ロウ・
テンブレチャー・フィジクッス（Ｊ、 ＬｏｗＴｅｍｐ
、Ｐｈｙｓ、）、 Ｖｏｌ、 ６８． Ｎｏｓ、３／４
．１９８７年、第２６９頁から第２８４頁に論じられて
いる。 ここに示されたＳＱＵＩＤ磁束計は、ＳＱＵＩＤ素子に
対する入力磁束と出力電圧の関係である磁束−電圧特性
の歪を打ち消すために検出コイルとＳＱＵＩＤの入力コ
イルとを結ぶ２本の伝送線の間に抵抗とキャパシタの直
列回路を接続している。 またこれらの直列回路素子はＳＱＵＩＤ素子の外部に外
付けされたものである。
テンブレチャー・フィジクッス（Ｊ、 ＬｏｗＴｅｍｐ
、Ｐｈｙｓ、）、 Ｖｏｌ、 ６８． Ｎｏｓ、３／４
．１９８７年、第２６９頁から第２８４頁に論じられて
いる。 ここに示されたＳＱＵＩＤ磁束計は、ＳＱＵＩＤ素子に
対する入力磁束と出力電圧の関係である磁束−電圧特性
の歪を打ち消すために検出コイルとＳＱＵＩＤの入力コ
イルとを結ぶ２本の伝送線の間に抵抗とキャパシタの直
列回路を接続している。 またこれらの直列回路素子はＳＱＵＩＤ素子の外部に外
付けされたものである。
上記従来技術は、過大電流による入力コイルの破壊防止
については特に考慮はされていない。すなわち入力コイ
ルと並列の関係となる上記直列回路はキャパシタを含み
、入力コイルの溶断に到るような過大電流の通路とはな
らない。 そこで本発明の第１の目的は過大電流によってる入力コ
イルが破壊されるのを防止する手段を備えたＳＱＵＩＤ
素子を提供することにある。 本発明の第２の目的は、上記の破壊防止手段の採用にか
かわらず素子面積の増大が少なく、また特に多チヤンネ
ル磁束計の実装が容易なＳＱＵＩＤ素子を提供すること
にある。 本発明の第３の目的は、上記の破壊防止手段の採用にか
かわらず磁束計としての感度低下が少ないＳＱＵＩＤ素
子を提供することにある。
については特に考慮はされていない。すなわち入力コイ
ルと並列の関係となる上記直列回路はキャパシタを含み
、入力コイルの溶断に到るような過大電流の通路とはな
らない。 そこで本発明の第１の目的は過大電流によってる入力コ
イルが破壊されるのを防止する手段を備えたＳＱＵＩＤ
素子を提供することにある。 本発明の第２の目的は、上記の破壊防止手段の採用にか
かわらず素子面積の増大が少なく、また特に多チヤンネ
ル磁束計の実装が容易なＳＱＵＩＤ素子を提供すること
にある。 本発明の第３の目的は、上記の破壊防止手段の採用にか
かわらず磁束計としての感度低下が少ないＳＱＵＩＤ素
子を提供することにある。
【課題を解決するための手段１
上記第１目的を達成するために、ＳＱＵＩＤの入力コイ
ルに抵抗を並置した点が本発明の特徴的なところである
。さらに具体的には、この抵抗は入力コイルの全体に接
するように構成されるとともに、その一端はグランド電
位に接地される。 また上記第２の目的を達成するために、上記の抵抗は薄
膜で形成され、入力コイルの一部もしくは全体に接する
ように構成される。つまり薄膜抵抗層とＳＱＵＩＤの入
力コイルとは積層される。 また上記第３の目的を達成するために、薄膜で形成され
た抵抗層のうち、ＳＱＵＩＤリングの開口部にあたる部
分、つまりＳＱＵＩＤリングの開口部の成膜方向（膜の
積層方向）の位置に空孔が設けられる。さらに好ましく
は、この抵抗層には上記空孔と抵抗層の外縁とをつなぐ
スリットが設けられる。 【作用） 上記の構成では、ＳＱＵＩＤの入力コイルが超伝導状態
であるかぎりは検出コイルから伝達される電流は入力コ
イルを流れる。一方、例えば静電気による過大電流が流
入して入力コイルの超伝導性を破り、その一部が常伝導
となると、この過大電流は入力コイルに並置された抵抗
に流入し、抵抗を介して接地点に吸収される。したがっ
て、過大電流が入力コイルを流れ続け、常伝導となった
部分が発熱により溶融して切断するのが防止される。 とくに抵抗が入力コイルの全体に接するようにされた構
成によれば、入力コイルのどの部分が常伝導となった場
合でも上記の破壊防止の作用が確実に行われる。さらに
、入力コイルとＳＱＵＩＤリング間の絶縁破壊が起こっ
た場合でも絶縁破壊を起こした電流が上記同様に接地点
に流れ、コイルの破壊が防止される。 さらに薄膜の積層による構成は素子面積の増大を伴わず
、また抵抗の外付けに比べて実装が容易となる。 抵抗層が設けられることにより透磁率が変化し、入力コ
イルとＳＱＵＩＤリング間の磁気結合が弱められことは
、上記の空孔の配置により防止される。さらに、上記の
スリットは抵抗層にエデイ・カレントが流れるのを防止
し、これらの構成はいずれも抵抗層が挿入されたことに
よる磁束計の感度低下の防止に役立つ。 【実施例】 次に本発明の詳細な説明する。 第１図は実施例のＳＱＵＩＤ素子の主要部の積層構成を
示している。ＳＱＵＩＤリング４は中央に開口部９が設
けられ、さらにスリットが設けられたワッシャ状の第１
の１薄膜超伝導層４−１と、それぞれジョセフソン接合
を介してこのスリットの間をブリッジする第２の薄膜超
伝導層４−２とで構成される。図示しない基板上に形成
した上記構造のＳＱＵＩＤリング４の上に絶縁層６が積
層され、さらに薄膜抵抗層１０が積層される。さらに薄
膜超伝導層で平面スパイラルコイル状に形成した入力コ
イル３と、同じく薄膜超伝導層で形成した帰還変調コイ
ル８が抵抗層１ｏの上に積層され、それぞれＳＱＵＩＤ
リング４と磁気結合される。 この構成のうち抵抗層１０がないのが従来のＳＱＵＩＤ
素子であり１本実施例は抵抗、１１１１０が挿入されて
いる点に特徴がある。抵抗Ｊ’ｉｌＯには、ＳＱＵＩＤ
リング４の中央の開口部９と同一位置、つまり開口部９
の成膜方向（膜の積層方向）の位置に空孔３０があり、
更にこの空孔３ｏと抵抗層の外縁を結ぶ１本のスリット
が設けられる。抵抗層の一端２０は接地用電極とされ、
抵抗層１０がグランド電位に接地される。 第２図は周辺回路を含めた第１図のＳＱＵＩＤ素子の等
値回路図であり、つまり第１図の素子を用いたＳＱＵＩ
Ｄ磁束計の回路図である。第１図の各部に対応する回路
要素には第１図と同一の符号が付されている。検出コイ
ル１を差交する磁束によって発生する磁束検出電流は、
検出コイルとともに一巡の超伝導ループをなす伝送ｇ２
、入力コイル３を流れる。これによって入力コイル３は
入力磁束を発生し、これがＳＱＵＩＤリング４に印加さ
れる。ＳＱＵＩＤは磁束信号を高感度に電圧に変換する
動作をするが、一般にはＳＱＵＩＤの後段に帰還変調回
路７を設け、帰還変調コイル８により変調をかけるとと
もに帰還をかけて動作させる。抵抗Ｊｉ’ｌＯは入力コ
イル３の一面に接しているが簡便には入力コイル３と並
列に接続された抵抗として表せる。 ５ＱＵＩ：Ｄ磁束計の代表的な数値として検出コイル及
び入力コイルのインダクタンスを５０ｎＨ。 入力コイルとＳＱＵＩＤリングの相互インダクタンスを
１ｎＨ１変調周波数を５０ ｋ Ｈｚ、入力コイルが常
伝導化したときの抵抗値を１にΩとする。 このとき薄膜抵抗層１０の等価抵抗は入力コイルが常伝
導化したときの抵抗値よりも十分に小さくする。実施例
においては約１Ωである。 各コイルが超伝導状態に保たれ、正常な動作を行ってい
るときには、薄膜抵抗層１０は検出コイルや人力コイル
に比べてインピーダンスが十分に大きい。したがって、
薄膜抵抗層１０の存在はＳＱＵＩＤ磁束計の動作の妨げ
にならない、一方、例えば静電気による大電流が入力コ
イルに流入する場合がある。これは検出コイル１の交換
のため入力コイル３がオープンになっているような場合
に起こりやすい。このような過大電流により入力コイル
のいずれかの位置で超伝導性がやぶれて常伝導となると
、抵抗率の差によりこの過大電流の大部分は入力コイル
３の常伝導化された部分でなく、抵抗層１０に分布して
流れ、電極２０を介して接地点に吸収される。したがっ
て、過大電流が入力コイル３を流れ続け、常伝導となっ
た部分が発熱により溶融して切断するのが防止される。 とくに本実施例では抵抗層１０が入力コイル３の全体に
接するように積層されているので、入力コイルのどの部
分が常伝導となった場合でも上記の破壊防止の作用が確
実に行われる。さらに、本実施例では、抵抗層１０が入
力コイルとＳＱＵＩＤリングの間に挿入されているので
、入力コイルとＳＱＵＩＤリング間の絶縁破壊が起こっ
た場合でもｌＩ！縁破壊を起こした電流が上記同様に接
地点に流れ、コイルの破壊が防止される。 なお本実施例で、抵抗層１０の中央を空孔３０としてい
るめは、抵抗層が設けられることにより透磁率が変化し
、ＳＱＵＩＤリングと入力コイル間あるいはＳＱＵＩＤ
リングと帰還変調コイル間の磁気結合が弱められことを
防止するためである。 さらに、スリット４ｏを設けることにより抵抗層にエデ
イ・カレントが流れるのが防止される。つまりこれらの
構成により、抵抗層が挿入されたことによるコイル間の
実効的な相互インダクタンスの低下が避けられ、磁束計
としての感度の低下が防止される。 上述の抵抗層の保護抵抗として作用は、上記実施例のよ
うな入力コイルの全面に抵抗層が接している構造でなく
ても発揮される。第３図の例では、抵抗層１０は入力コ
イルの一部に、ただしスパイラルコイルの各ターンに渡
って接している。ＳＱＵＩＤ素子の他の部分の構造は第
１図と同じであり、図から省略している。この構成でも
、第１図の実施例とほぼ同様に入力コイル３の一部の超
伝導性がこわれた場合に電流通路の変化が起こり、入力
コイル３の破壊が防止される。さらに、少なくとも等価
回路的に第２図の様に入力コイルのほぼ両端に並列接続
される抵抗があれば良い場合もある。ただし過大電流を
確実に抵抗に流し、これを接地点に吸収する上で、入力
コイルに接する抵抗を設け、その一部を接地する構成が
好ましい。 さらに、抵抗の付加による素子面積の増大を避ける意味
から第１図、もしくは第３図のような薄膜抵抗層の採用
が好ましい。 第４図はさらに別の実施例を示す。この例はひとつの素
子基板上に複数のＳＱＵＩＤを配列したものである。各
々のＳＱＵＩＤリング４と入力コイル３のペアに対して
抵抗層は独立に設ける必要が無いので、薄膜抵抗層１０
が共通に形成されている。各入力コイルに対する保護動
作は第１図の実施例と全くかわり無い。なお、図中で帰
還変調コイルは省略されている。このような多チヤンネ
ル素子構成とした場合にとくに保護用抵抗を薄膜抵抗層
で形成することの実装上のメリットが大きい。
ルに抵抗を並置した点が本発明の特徴的なところである
。さらに具体的には、この抵抗は入力コイルの全体に接
するように構成されるとともに、その一端はグランド電
位に接地される。 また上記第２の目的を達成するために、上記の抵抗は薄
膜で形成され、入力コイルの一部もしくは全体に接する
ように構成される。つまり薄膜抵抗層とＳＱＵＩＤの入
力コイルとは積層される。 また上記第３の目的を達成するために、薄膜で形成され
た抵抗層のうち、ＳＱＵＩＤリングの開口部にあたる部
分、つまりＳＱＵＩＤリングの開口部の成膜方向（膜の
積層方向）の位置に空孔が設けられる。さらに好ましく
は、この抵抗層には上記空孔と抵抗層の外縁とをつなぐ
スリットが設けられる。 【作用） 上記の構成では、ＳＱＵＩＤの入力コイルが超伝導状態
であるかぎりは検出コイルから伝達される電流は入力コ
イルを流れる。一方、例えば静電気による過大電流が流
入して入力コイルの超伝導性を破り、その一部が常伝導
となると、この過大電流は入力コイルに並置された抵抗
に流入し、抵抗を介して接地点に吸収される。したがっ
て、過大電流が入力コイルを流れ続け、常伝導となった
部分が発熱により溶融して切断するのが防止される。 とくに抵抗が入力コイルの全体に接するようにされた構
成によれば、入力コイルのどの部分が常伝導となった場
合でも上記の破壊防止の作用が確実に行われる。さらに
、入力コイルとＳＱＵＩＤリング間の絶縁破壊が起こっ
た場合でも絶縁破壊を起こした電流が上記同様に接地点
に流れ、コイルの破壊が防止される。 さらに薄膜の積層による構成は素子面積の増大を伴わず
、また抵抗の外付けに比べて実装が容易となる。 抵抗層が設けられることにより透磁率が変化し、入力コ
イルとＳＱＵＩＤリング間の磁気結合が弱められことは
、上記の空孔の配置により防止される。さらに、上記の
スリットは抵抗層にエデイ・カレントが流れるのを防止
し、これらの構成はいずれも抵抗層が挿入されたことに
よる磁束計の感度低下の防止に役立つ。 【実施例】 次に本発明の詳細な説明する。 第１図は実施例のＳＱＵＩＤ素子の主要部の積層構成を
示している。ＳＱＵＩＤリング４は中央に開口部９が設
けられ、さらにスリットが設けられたワッシャ状の第１
の１薄膜超伝導層４−１と、それぞれジョセフソン接合
を介してこのスリットの間をブリッジする第２の薄膜超
伝導層４−２とで構成される。図示しない基板上に形成
した上記構造のＳＱＵＩＤリング４の上に絶縁層６が積
層され、さらに薄膜抵抗層１０が積層される。さらに薄
膜超伝導層で平面スパイラルコイル状に形成した入力コ
イル３と、同じく薄膜超伝導層で形成した帰還変調コイ
ル８が抵抗層１ｏの上に積層され、それぞれＳＱＵＩＤ
リング４と磁気結合される。 この構成のうち抵抗層１０がないのが従来のＳＱＵＩＤ
素子であり１本実施例は抵抗、１１１１０が挿入されて
いる点に特徴がある。抵抗Ｊ’ｉｌＯには、ＳＱＵＩＤ
リング４の中央の開口部９と同一位置、つまり開口部９
の成膜方向（膜の積層方向）の位置に空孔３０があり、
更にこの空孔３ｏと抵抗層の外縁を結ぶ１本のスリット
が設けられる。抵抗層の一端２０は接地用電極とされ、
抵抗層１０がグランド電位に接地される。 第２図は周辺回路を含めた第１図のＳＱＵＩＤ素子の等
値回路図であり、つまり第１図の素子を用いたＳＱＵＩ
Ｄ磁束計の回路図である。第１図の各部に対応する回路
要素には第１図と同一の符号が付されている。検出コイ
ル１を差交する磁束によって発生する磁束検出電流は、
検出コイルとともに一巡の超伝導ループをなす伝送ｇ２
、入力コイル３を流れる。これによって入力コイル３は
入力磁束を発生し、これがＳＱＵＩＤリング４に印加さ
れる。ＳＱＵＩＤは磁束信号を高感度に電圧に変換する
動作をするが、一般にはＳＱＵＩＤの後段に帰還変調回
路７を設け、帰還変調コイル８により変調をかけるとと
もに帰還をかけて動作させる。抵抗Ｊｉ’ｌＯは入力コ
イル３の一面に接しているが簡便には入力コイル３と並
列に接続された抵抗として表せる。 ５ＱＵＩ：Ｄ磁束計の代表的な数値として検出コイル及
び入力コイルのインダクタンスを５０ｎＨ。 入力コイルとＳＱＵＩＤリングの相互インダクタンスを
１ｎＨ１変調周波数を５０ ｋ Ｈｚ、入力コイルが常
伝導化したときの抵抗値を１にΩとする。 このとき薄膜抵抗層１０の等価抵抗は入力コイルが常伝
導化したときの抵抗値よりも十分に小さくする。実施例
においては約１Ωである。 各コイルが超伝導状態に保たれ、正常な動作を行ってい
るときには、薄膜抵抗層１０は検出コイルや人力コイル
に比べてインピーダンスが十分に大きい。したがって、
薄膜抵抗層１０の存在はＳＱＵＩＤ磁束計の動作の妨げ
にならない、一方、例えば静電気による大電流が入力コ
イルに流入する場合がある。これは検出コイル１の交換
のため入力コイル３がオープンになっているような場合
に起こりやすい。このような過大電流により入力コイル
のいずれかの位置で超伝導性がやぶれて常伝導となると
、抵抗率の差によりこの過大電流の大部分は入力コイル
３の常伝導化された部分でなく、抵抗層１０に分布して
流れ、電極２０を介して接地点に吸収される。したがっ
て、過大電流が入力コイル３を流れ続け、常伝導となっ
た部分が発熱により溶融して切断するのが防止される。 とくに本実施例では抵抗層１０が入力コイル３の全体に
接するように積層されているので、入力コイルのどの部
分が常伝導となった場合でも上記の破壊防止の作用が確
実に行われる。さらに、本実施例では、抵抗層１０が入
力コイルとＳＱＵＩＤリングの間に挿入されているので
、入力コイルとＳＱＵＩＤリング間の絶縁破壊が起こっ
た場合でもｌＩ！縁破壊を起こした電流が上記同様に接
地点に流れ、コイルの破壊が防止される。 なお本実施例で、抵抗層１０の中央を空孔３０としてい
るめは、抵抗層が設けられることにより透磁率が変化し
、ＳＱＵＩＤリングと入力コイル間あるいはＳＱＵＩＤ
リングと帰還変調コイル間の磁気結合が弱められことを
防止するためである。 さらに、スリット４ｏを設けることにより抵抗層にエデ
イ・カレントが流れるのが防止される。つまりこれらの
構成により、抵抗層が挿入されたことによるコイル間の
実効的な相互インダクタンスの低下が避けられ、磁束計
としての感度の低下が防止される。 上述の抵抗層の保護抵抗として作用は、上記実施例のよ
うな入力コイルの全面に抵抗層が接している構造でなく
ても発揮される。第３図の例では、抵抗層１０は入力コ
イルの一部に、ただしスパイラルコイルの各ターンに渡
って接している。ＳＱＵＩＤ素子の他の部分の構造は第
１図と同じであり、図から省略している。この構成でも
、第１図の実施例とほぼ同様に入力コイル３の一部の超
伝導性がこわれた場合に電流通路の変化が起こり、入力
コイル３の破壊が防止される。さらに、少なくとも等価
回路的に第２図の様に入力コイルのほぼ両端に並列接続
される抵抗があれば良い場合もある。ただし過大電流を
確実に抵抗に流し、これを接地点に吸収する上で、入力
コイルに接する抵抗を設け、その一部を接地する構成が
好ましい。 さらに、抵抗の付加による素子面積の増大を避ける意味
から第１図、もしくは第３図のような薄膜抵抗層の採用
が好ましい。 第４図はさらに別の実施例を示す。この例はひとつの素
子基板上に複数のＳＱＵＩＤを配列したものである。各
々のＳＱＵＩＤリング４と入力コイル３のペアに対して
抵抗層は独立に設ける必要が無いので、薄膜抵抗層１０
が共通に形成されている。各入力コイルに対する保護動
作は第１図の実施例と全くかわり無い。なお、図中で帰
還変調コイルは省略されている。このような多チヤンネ
ル素子構成とした場合にとくに保護用抵抗を薄膜抵抗層
で形成することの実装上のメリットが大きい。
以上の様に、本発明によれば過大電流の流入によりＳＱ
ＵＩＤの入力コイルが溶断破壊を起こすことが未然に防
止され、ＳＱＵＩＤ素子の破壊率が著しく減少するとの
効果が得られる。
ＵＩＤの入力コイルが溶断破壊を起こすことが未然に防
止され、ＳＱＵＩＤ素子の破壊率が著しく減少するとの
効果が得られる。
第１図は本発明の一実施例のＳＱＵＩＤ素子の主要な各
層を分離して示した図、第２図は実施例の等価回路図、
第３図、第４図はそれぞれ別の実施例を示す図である。 Ｑ ３Ｐｆ図
層を分離して示した図、第２図は実施例の等価回路図、
第３図、第４図はそれぞれ別の実施例を示す図である。 Ｑ ３Ｐｆ図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、差交する磁束を電圧に変換するＳＱＵＩＤリングと
、前記ＳＱＵＩＤリングと磁気結合された超伝導コイル
であり、外部から伝達された磁束検出電流により磁束を
発生して前記ＳＱＵＩＤリングに入力磁束を印加する入
力コイルとを備えたＳＱＵＩＤ素子において、前記入力
コイルと並列に過大電流による前記入力コイルの破壊を
防止する抵抗が接続されたことを特徴とするＳＱＵＩＤ
素子。 ２、前記抵抗の一部が接地されていることを特徴とする
請求項１に記載のＳＱＵＩＤ素子。 ３、差交する磁束を電圧に変換するＳＱＵＩＤリングと
、薄膜超伝導層により形成され、外部から伝達された磁
束検出電流により磁束を発生して上記ＳＱＵＩＤリング
に入力磁束を印加する入力コイルとが一体の素子とされ
たＳＱＵＩＤ素子において、過大電流による前記入力コ
イルの破壊を防止する抵抗層が前記入力コイルに接して
形成されたことを特徴とするＳＱＵＩＤ素子。 ４、前記抵抗層の一部が接地されていることを特徴とす
る請求項３に記載のＳＱＵＩＤ素子。 ５、前記抵抗層は前記入力コイルと前記ＳＱＵＩＤリン
グとの間に挿入されていることを特徴とする請求項３に
記載のＳＱＵＩＤ素子。 ６、前記抵抗層の前記ＳＱＵＩＤリングの開口部に当る
位置に空孔が設けられていることを特徴とする請求項３
に記載のＳＱＵＩＤ素子。 ７、前記抵抗層は、その外縁と前記空孔とを結ぶスリッ
トを有することを特徴とする請求項６に記載のＳＱＵＩ
Ｄ素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2256973A JPH0812232B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | Ｓｑｕｉｄ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2256973A JPH0812232B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | Ｓｑｕｉｄ素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04136777A true JPH04136777A (ja) | 1992-05-11 |
| JPH0812232B2 JPH0812232B2 (ja) | 1996-02-07 |
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ID=17299949
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|---|---|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20210193372A1 (en) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Electronic Package for an Electrically Small Device with Integrated Magnetic Field Bias |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59218712A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-10 | Toshiba Corp | 超電導コイルの保護回路 |
| JPS6120303A (ja) * | 1984-07-09 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | 超電導コイル装置 |
| JPS61121483A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-09 | Mitsubishi Electric Corp | 直流駆動型超伝導量子干渉素子 |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP2256973A patent/JPH0812232B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59218712A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-10 | Toshiba Corp | 超電導コイルの保護回路 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20210193372A1 (en) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Electronic Package for an Electrically Small Device with Integrated Magnetic Field Bias |
| US11776736B2 (en) * | 2019-12-18 | 2023-10-03 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Electronic package for an electrically small device with integrated magnetic field bias |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0812232B2 (ja) | 1996-02-07 |
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