JPH04136169A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH04136169A JPH04136169A JP2257430A JP25743090A JPH04136169A JP H04136169 A JPH04136169 A JP H04136169A JP 2257430 A JP2257430 A JP 2257430A JP 25743090 A JP25743090 A JP 25743090A JP H04136169 A JPH04136169 A JP H04136169A
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- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 69
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 65
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 57
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 15
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 20
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 8
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 5
- 239000012768 molten material Substances 0.000 abstract 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 27
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 27
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 10
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000223014 Syzygium aromaticum Species 0.000 description 1
- 235000016639 Syzygium aromaticum Nutrition 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
-
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、亜鉛等の金属やセラミックス等を真空蒸着す
るための真空蒸着装置に関する。
るための真空蒸着装置に関する。
〈従来の技術〉
従来、被蒸着帯体の両面に蒸着を行う装置として、次の
ような真空蒸着装置が提案されている。
ような真空蒸着装置が提案されている。
特公昭６１−６０９１２号公報に提案されている巻付ロ
ール型蒸着装置を第５図に示す。
ール型蒸着装置を第５図に示す。
同図に示すように、帯体０１の搬送系路に沿ってそれぞ
れ片面に蒸着を行うための真空槽０２Ａ、０２Ｂが設け
られている。各真空槽０２Ａ、０２Ｂ内には、溶融金属
０３Ａ、０３Ｂが保持される蒸発槽０４Ａ、０４Ｂ、蒸
発槽０４Ａ、０４で蒸発された金属蒸気０５Ａ。
れ片面に蒸着を行うための真空槽０２Ａ、０２Ｂが設け
られている。各真空槽０２Ａ、０２Ｂ内には、溶融金属
０３Ａ、０３Ｂが保持される蒸発槽０４Ａ、０４Ｂ、蒸
発槽０４Ａ、０４で蒸発された金属蒸気０５Ａ。
０５Ｂを蒸着口０６Ａ、０６Ｂへ導くフード０７Ａ、０
７Ｂ、及び蒸着口０６Ａ、０６Ｂに対向して配置される
巻付はロール０８Ａ。
７Ｂ、及び蒸着口０６Ａ、０６Ｂに対向して配置される
巻付はロール０８Ａ。
０８Ｂがそれぞれ設けられており、帯体０１は巻付は四
−ル０８Ａ、０８Ｂに巻付けられた状態で蒸着口０６Ａ
、０６Ｂと対向するようになっている。なお、図中、０
９Ａ、０９Ｂは蒸着口０６Ａ、０６Ｂへ導かれる金属蒸
気０５Ａ、０５Ｂの量を制御するためのシャッタ、０Ｉ
ＯＡ、０ＩＯＢは大気中溶解槽、０１１Ａ、０ＩＩＢは
溶融金属０３Ａ、０３Ｂを大気中溶解槽０１０Ａ、０Ｉ
ＯＢから蒸発１０４Ａ、０４Ｂへ供給するためのスノー
ケル、０１２Ａ、０１２Ｂは蒸発槽０４Ａ、０４Ｂ内の
溶融金属０３Ａ、０３Ｂを加熱して蒸発するためのヒー
タ、０１３は真空槽０２Ａ。
−ル０８Ａ、０８Ｂに巻付けられた状態で蒸着口０６Ａ
、０６Ｂと対向するようになっている。なお、図中、０
９Ａ、０９Ｂは蒸着口０６Ａ、０６Ｂへ導かれる金属蒸
気０５Ａ、０５Ｂの量を制御するためのシャッタ、０Ｉ
ＯＡ、０ＩＯＢは大気中溶解槽、０１１Ａ、０ＩＩＢは
溶融金属０３Ａ、０３Ｂを大気中溶解槽０１０Ａ、０Ｉ
ＯＢから蒸発１０４Ａ、０４Ｂへ供給するためのスノー
ケル、０１２Ａ、０１２Ｂは蒸発槽０４Ａ、０４Ｂ内の
溶融金属０３Ａ、０３Ｂを加熱して蒸発するためのヒー
タ、０１３は真空槽０２Ａ。
０２Ｂの帯体０１の搬出入口に設けられているシール装
置である。
置である。
以上説明した巻付はロール型蒸着装置では、帯体０１は
真空槽０２Ａ、０２Ｂ内の巻付はロール０８Ａ、０８Ｂ
に巻き付けられて１＠次搬入され、真空槽０２Ａ内で一
方側の面へ、また、真空槽０２Ｂ内で他方側の面へ蒸着
された後、蒸着帯体０１ａとして搬出される。
真空槽０２Ａ、０２Ｂ内の巻付はロール０８Ａ、０８Ｂ
に巻き付けられて１＠次搬入され、真空槽０２Ａ内で一
方側の面へ、また、真空槽０２Ｂ内で他方側の面へ蒸着
された後、蒸着帯体０１ａとして搬出される。
まｔ二、巻付はロール０８Ａ、０８Ｂの代りに加熱され
た平板を用いたプレート型蒸着装置も提案されている（
特願昭６３−７０１０号）。この装置を第６図に示す。
た平板を用いたプレート型蒸着装置も提案されている（
特願昭６３−７０１０号）。この装置を第６図に示す。
同図中、０１４Ａ、０１４Ｂは加熱平板である。なお、
他の構成は第５図の装置とほぼ同様であるので、同一作
用を示す部材に同一符号を付して重複する説明は省略す
る。
他の構成は第５図の装置とほぼ同様であるので、同一作
用を示す部材に同一符号を付して重複する説明は省略す
る。
かかる装置においても、帯体０１は２つの真空槽０２Ａ
、０２Ｂ内へ順次搬入され、真空槽０２Ａ内で一方側の
面へ、また、真空槽０２Ｂ内で他方側の面へ蒸着された
後、蒸着帯体０１ａとして搬出される。
、０２Ｂ内へ順次搬入され、真空槽０２Ａ内で一方側の
面へ、また、真空槽０２Ｂ内で他方側の面へ蒸着された
後、蒸着帯体０１ａとして搬出される。
〈発明が解決しようとする課題〉
前述したように従来においては、帯体の表面及び裏面に
例えば亜鉛を蒸着する場合、真空槽及び蒸着装置が２基
ずつ必要となり、また、亜鉛の供給装置として大気中溶
解炉等も各蒸着装置にそれぞれ設けているので、設備数
が多くコストもかかるという問題があった。
例えば亜鉛を蒸着する場合、真空槽及び蒸着装置が２基
ずつ必要となり、また、亜鉛の供給装置として大気中溶
解炉等も各蒸着装置にそれぞれ設けているので、設備数
が多くコストもかかるという問題があった。
また、前述した第５図あるいは第６図に示す装置では、
帯体０１の表面と裏面とで亜鉛蒸着量を変える差厚めつ
きをする場合には、シャッタ０９Ａ、０９Ｂにより表裏
面の付着量をそれぞれ制御することができる。しかし、
設備数を低減すべく、例えば１つの真空槽内において蒸
着口を帯体の表裏面側に設けた場合、差厚めつきを行う
際に表裏面側の蒸気が干渉して付着量分布に乱れが生ず
るという問題がある。
帯体０１の表面と裏面とで亜鉛蒸着量を変える差厚めつ
きをする場合には、シャッタ０９Ａ、０９Ｂにより表裏
面の付着量をそれぞれ制御することができる。しかし、
設備数を低減すべく、例えば１つの真空槽内において蒸
着口を帯体の表裏面側に設けた場合、差厚めつきを行う
際に表裏面側の蒸気が干渉して付着量分布に乱れが生ず
るという問題がある。
本発明はこのような事情に鑑み、設備数を低減して省ス
ペース、低コスト化を図り、また、差厚めつきや片面め
っきも高品質で行うことができる真空蒸着装置を提供す
ることを目的とする。
ペース、低コスト化を図り、また、差厚めつきや片面め
っきも高品質で行うことができる真空蒸着装置を提供す
ることを目的とする。
＜１１！題を解決するための手段〉
前記目的を達成する本発明に係る真空蒸着装置は、蒸着
材を保持し蒸発する蒸発槽と、この蒸発槽の上方を覆う
と共にその水平方向外側まで延設されるフードと、この
フードの上記蒸発槽に対して外側の延設部分の中央部を
貫通するよう開口されｔコ被蒸着帯体の搬出入口と、上
記蒸発槽及び上記フードの全体を覆うと共に当該フード
の搬出入口と対応する位置に上記被蒸着帯体の搬出入用
のシール装置を有する真空槽とを具え、上記フード内に
て上記被蒸着帯体の表裏両面に同時に蒸着を行うことを
特徴とし、 また、蒸着材を保持し蒸発する蒸発槽と、この蒸発槽の
上方を覆うと共にその水平方向外側まで延設されるフー
ドと、このフードの上記蒸発槽に対して外側の延設部分
の中央部を貫通するよう開口された被蒸着帯体の搬出入
口と、上記蒸発槽及び上記フードの全体を覆うと共に当
該フードの搬出入口と対応する位置に上記被蒸着帯体の
搬出入用のシール装置を有する真空槽と、上記フード内
の上記被蒸着帯体の表裏両側へ導かれる蒸発材の蒸気量
を制御する蒸気量制御装置と、上記フード内の上記被蒸
着帯体の表裏側の少なくとも何れか一方に設けられると
共に当該被蒸着帯体の蒸着面積を制御する蒸着面積制御
装置とを具え、上記フード内にて上記被蒸着帯体の表裏
面に対して厚みを変えた蒸着を行うことを特徴とする。
材を保持し蒸発する蒸発槽と、この蒸発槽の上方を覆う
と共にその水平方向外側まで延設されるフードと、この
フードの上記蒸発槽に対して外側の延設部分の中央部を
貫通するよう開口されｔコ被蒸着帯体の搬出入口と、上
記蒸発槽及び上記フードの全体を覆うと共に当該フード
の搬出入口と対応する位置に上記被蒸着帯体の搬出入用
のシール装置を有する真空槽とを具え、上記フード内に
て上記被蒸着帯体の表裏両面に同時に蒸着を行うことを
特徴とし、 また、蒸着材を保持し蒸発する蒸発槽と、この蒸発槽の
上方を覆うと共にその水平方向外側まで延設されるフー
ドと、このフードの上記蒸発槽に対して外側の延設部分
の中央部を貫通するよう開口された被蒸着帯体の搬出入
口と、上記蒸発槽及び上記フードの全体を覆うと共に当
該フードの搬出入口と対応する位置に上記被蒸着帯体の
搬出入用のシール装置を有する真空槽と、上記フード内
の上記被蒸着帯体の表裏両側へ導かれる蒸発材の蒸気量
を制御する蒸気量制御装置と、上記フード内の上記被蒸
着帯体の表裏側の少なくとも何れか一方に設けられると
共に当該被蒸着帯体の蒸着面積を制御する蒸着面積制御
装置とを具え、上記フード内にて上記被蒸着帯体の表裏
面に対して厚みを変えた蒸着を行うことを特徴とする。
く作 用〉
前記第一の真空蒸着装置では、被蒸着帯体の両側にはフ
ードにより蒸着のためのチャンネルが形成され、これら
二つのチャンネルへ、一つの蒸発槽で蒸発された蒸着材
の蒸気がフードにより導かれる。したがって、真空槽の
搬出入用のシール装置及びフードの搬出入口を介して導
かれる被蒸着帯体には表裏両面に同時に蒸着が施されろ
。
ードにより蒸着のためのチャンネルが形成され、これら
二つのチャンネルへ、一つの蒸発槽で蒸発された蒸着材
の蒸気がフードにより導かれる。したがって、真空槽の
搬出入用のシール装置及びフードの搬出入口を介して導
かれる被蒸着帯体には表裏両面に同時に蒸着が施されろ
。
一方、第二の真空蒸着装置では、被蒸着帯体の表裏両面
側の各チャンネルに導かれろ蒸気量を蒸気量制御装置に
より側部すると同時に蒸着面積制御装置によりその蒸気
量に合せて表裏両側の蒸着口の面積を調整する。これに
より被蒸着帯体の表裏面側の蒸気圧を等しくし、帯体両
側の蒸気の干渉を防止して帯体表裏面の幅方向の付着量
分布を均一にする。
側の各チャンネルに導かれろ蒸気量を蒸気量制御装置に
より側部すると同時に蒸着面積制御装置によりその蒸気
量に合せて表裏両側の蒸着口の面積を調整する。これに
より被蒸着帯体の表裏面側の蒸気圧を等しくし、帯体両
側の蒸気の干渉を防止して帯体表裏面の幅方向の付着量
分布を均一にする。
この作用を以下に詳細に説明する。
本来、帯体な挾んで対向してチャンネルが設けられた蒸
着装置により差厚めつきを行う場合、例えば帯体を境に
表面へ蒸着される蒸気の余剰の蒸気が帯体を越えて裏面
へ蒸着される蒸気と干渉する、また、逆に裏面の余剰の
蒸気が帯体を越えて表面へ蒸着される蒸気と干渉する。
着装置により差厚めつきを行う場合、例えば帯体を境に
表面へ蒸着される蒸気の余剰の蒸気が帯体を越えて裏面
へ蒸着される蒸気と干渉する、また、逆に裏面の余剰の
蒸気が帯体を越えて表面へ蒸着される蒸気と干渉する。
これにより帯体表面の付着量分布あるいは裏面の付着量
分布が帯体の幅方向に亘って不均一になる。例えば、表
面の蒸着材付着量がｇ ｇ／ｍ”、このときの蒸着直前
の蒸気圧力をＰ、Ｔｏｒｒ、また、裏面の蒸着材付着量
がｇ２ｇ ／ ｍ′、このときの蒸１１直的の蒸気圧力
をＰ、Ｔｏｒｒとすると、ｇ、 ＜ ｇ２のときｐ、
＜ ｐ２となる。すなわち、裏面に蒸着するために飛来
した蒸着材蒸気は帯体を越えて表面側へ廻や、表面に蒸
着するｔこめに飛来してきた蒸着材蒸気の中に侵入して
蒸気の流れを乱し、表面の蒸着材付着量の板幅方向に亘
って不均一とする。また、裏面側の蒸着材蒸気の一部が
表面側へ廻るため、裏面側の蒸着材蒸気自体の流れも乱
れ、裏面の蒸着材付着量も板幅方向に亘って不均一とな
る。
分布が帯体の幅方向に亘って不均一になる。例えば、表
面の蒸着材付着量がｇ ｇ／ｍ”、このときの蒸着直前
の蒸気圧力をＰ、Ｔｏｒｒ、また、裏面の蒸着材付着量
がｇ２ｇ ／ ｍ′、このときの蒸１１直的の蒸気圧力
をＰ、Ｔｏｒｒとすると、ｇ、 ＜ ｇ２のときｐ、
＜ ｐ２となる。すなわち、裏面に蒸着するために飛来
した蒸着材蒸気は帯体を越えて表面側へ廻や、表面に蒸
着するｔこめに飛来してきた蒸着材蒸気の中に侵入して
蒸気の流れを乱し、表面の蒸着材付着量の板幅方向に亘
って不均一とする。また、裏面側の蒸着材蒸気の一部が
表面側へ廻るため、裏面側の蒸着材蒸気自体の流れも乱
れ、裏面の蒸着材付着量も板幅方向に亘って不均一とな
る。
本発明の第二の蒸着装置では、かかる問題を解決するた
めにｇ着面横制御装置を設けて帯体の付着量が少ない側
のｇ着面積を変化させ、表面側の蒸着面積と裏面側の蒸
着面積との比が、表面の蒸着材付着量ｇ、と裏面の蒸着
材付着量ｇ２との比ｇ、／ｇ、と一致するようにする。
めにｇ着面横制御装置を設けて帯体の付着量が少ない側
のｇ着面積を変化させ、表面側の蒸着面積と裏面側の蒸
着面積との比が、表面の蒸着材付着量ｇ、と裏面の蒸着
材付着量ｇ２との比ｇ、／ｇ、と一致するようにする。
これによりｇ２＞ｇ、であってもＰ、 ＝ Ｐ２となっ
て帯体を境として表面側と裏面側との蒸気圧力が均等と
なり、蒸気の流れが乱れることなく表面の蒸着材付着量
ｇｇ／ｍ’及び裏面の蒸着材付着量ｇ２ ｇ ／ ｒｎ
”が帯体の板幅方向に亘って均一に付着される。
て帯体を境として表面側と裏面側との蒸気圧力が均等と
なり、蒸気の流れが乱れることなく表面の蒸着材付着量
ｇｇ／ｍ’及び裏面の蒸着材付着量ｇ２ ｇ ／ ｒｎ
”が帯体の板幅方向に亘って均一に付着される。
また、この点を理論的に説明すると次のようになる。
帯体への蒸着材の付着量は次式で表される。
ｇ″Ｐ Ｘｙ
Ｌ：蒸着口の長さに）
Ｖ：帯体の通過速度（ｍ／５ｅｃ）
Ｐ：蒸着口におけろ蒸気圧力（Ｎ／ｍ”１ｇ＝帯体への
蒸着材付着量（ｇ／ｍ“）ここで、帯体表面の蒸着材付
着量をｇ、 （ｇ／ｍ′）、このときの蒸気圧力をＰ、
（Ｎ／ｍ′）、また、蒸着口の開口長さをり、−とし、
一方、帯体裏面の蒸着材付着量をｇ２＝ １０ ｇ、
（ｇ ／ｍ’）、このときの蒸気圧力をＰ２（Ｎ／ｌｒ
ｉ”）、また、蒸着口の開口長さをＬ２に）とすると、
となる。
蒸着材付着量（ｇ／ｍ“）ここで、帯体表面の蒸着材付
着量をｇ、 （ｇ／ｍ′）、このときの蒸気圧力をＰ、
（Ｎ／ｍ′）、また、蒸着口の開口長さをり、−とし、
一方、帯体裏面の蒸着材付着量をｇ２＝ １０ ｇ、
（ｇ ／ｍ’）、このときの蒸気圧力をＰ２（Ｎ／ｌｒ
ｉ”）、また、蒸着口の開口長さをＬ２に）とすると、
となる。
そして、帯体の表裏両側におけろ蒸着口の開口面積が同
一の場合、すなわちり、 ＝ Ｌ２のとき、 Ｐ ＝１０Ｐ ・（
４）となる。したがって、この場合には上述したように
帯体の両側において蒸気流の乱れが発生する。
一の場合、すなわちり、 ＝ Ｌ２のとき、 Ｐ ＝１０Ｐ ・（
４）となる。したがって、この場合には上述したように
帯体の両側において蒸気流の乱れが発生する。
一方、上記（３）式において、Ｌｌ−丁子Ｌ２とおくと
となる。すなわち、帯体の両側の付着量が異って也、そ
の両側の蒸着面積の比を制御することにより、帯体の両
側における蒸気圧力を同一にすることができる。これに
より、帯体を境とした両側の蒸着口近傍における蒸気流
に乱れが生ずることがなく、帯体の表裏面の蒸着材付着
量の板幅方向における分布が均一となる。
の両側の蒸着面積の比を制御することにより、帯体の両
側における蒸気圧力を同一にすることができる。これに
より、帯体を境とした両側の蒸着口近傍における蒸気流
に乱れが生ずることがなく、帯体の表裏面の蒸着材付着
量の板幅方向における分布が均一となる。
く実 施 例〉
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
第１図は一実施例に係る真空蒸着装置の正面図、第２図
はその■−■綿断面断面図３図は第１図の■−■線断面
図、第４図は側面図を示す。これらの図面に示すように
、真空槽１内には蒸着材を蒸発するための蒸発槽２と、
この蒸発槽２の上方を覆うと共に水平方向外側へ延設さ
れるフード３が設けられている。
はその■−■綿断面断面図３図は第１図の■−■線断面
図、第４図は側面図を示す。これらの図面に示すように
、真空槽１内には蒸着材を蒸発するための蒸発槽２と、
この蒸発槽２の上方を覆うと共に水平方向外側へ延設さ
れるフード３が設けられている。
フード３は蒸発槽２を覆うフード本体３ａと、このフー
ド本体３ａから水平方向に突設されて２本の通路を形成
する通路形成部３ｂ、３ｃと、これら通路形成部３ｂ、
３ｃの先端部上側へ連通して１つの蒸着のための部屋を
形成する延設部３ｄとからなり、との延設部３ｄの上下
側の中央部には被蒸着帯体である帯鋼４の搬入口３ｅ及
び搬出口３ｆが形成されている。一方、真空槽１のフー
ド３の搬入口３θ及び搬出口３ｆに対応する位置にも帯
鋼４の搬入口１ａ及び搬出口１ｂが形成されており、搬
入口１ａ及び搬出口１ｂにはシール装置５ａ。
ド本体３ａから水平方向に突設されて２本の通路を形成
する通路形成部３ｂ、３ｃと、これら通路形成部３ｂ、
３ｃの先端部上側へ連通して１つの蒸着のための部屋を
形成する延設部３ｄとからなり、との延設部３ｄの上下
側の中央部には被蒸着帯体である帯鋼４の搬入口３ｅ及
び搬出口３ｆが形成されている。一方、真空槽１のフー
ド３の搬入口３θ及び搬出口３ｆに対応する位置にも帯
鋼４の搬入口１ａ及び搬出口１ｂが形成されており、搬
入口１ａ及び搬出口１ｂにはシール装置５ａ。
５ｂが設けられている。そして、帯鋼４はシール装置５
ａ、５ｂを介してフード３の延設部３ｄの中央部を上方
から下方へ向って搬送される。したがって、フード３の
延設部３ｄは帯鋼４により二分割されており、すなわち
、帯鋼４の表面側（第１図中右側とする）及び裏面側（
第１図中左側とする）には各面にそれぞれ蒸着するため
のチャンネル６ａ、６ｂが形成されている。
ａ、５ｂを介してフード３の延設部３ｄの中央部を上方
から下方へ向って搬送される。したがって、フード３の
延設部３ｄは帯鋼４により二分割されており、すなわち
、帯鋼４の表面側（第１図中右側とする）及び裏面側（
第１図中左側とする）には各面にそれぞれ蒸着するため
のチャンネル６ａ、６ｂが形成されている。
一方、真空槽１の外部には大気中亜鉛溶解炉７が設けら
れており、この亜鉛溶解炉７と上記蒸発槽２とは、圧力
差により蒸発槽２内へ溶融亜鉛８を吸い上げろスノーケ
ル９で連結されている。また、蒸発１９２の上部にはス
ノーケル９により吸い上げられた溶融亜鉛８を加熱する
ヒータ１０が配置されている。ヒータ１０により加熱さ
れた溶融亜鉛８は亜鉛蒸気１１としてフード本体３ａ内
へ蒸発するが、この亜鉛蒸気１１はフード本体３ａに連
通ずる通路形成部３ｂ、３ｃによりそれぞれ分割して導
かれて延設部３ｄ内の帯鋼４の両側のチャンネル６ｍ、
６ｂ内へ供給される。
れており、この亜鉛溶解炉７と上記蒸発槽２とは、圧力
差により蒸発槽２内へ溶融亜鉛８を吸い上げろスノーケ
ル９で連結されている。また、蒸発１９２の上部にはス
ノーケル９により吸い上げられた溶融亜鉛８を加熱する
ヒータ１０が配置されている。ヒータ１０により加熱さ
れた溶融亜鉛８は亜鉛蒸気１１としてフード本体３ａ内
へ蒸発するが、この亜鉛蒸気１１はフード本体３ａに連
通ずる通路形成部３ｂ、３ｃによりそれぞれ分割して導
かれて延設部３ｄ内の帯鋼４の両側のチャンネル６ｍ、
６ｂ内へ供給される。
なお、通路形成部３ｂ、３ｃと延設部３ｄとの境界には
それぞれ、延設部３ｄの中央側から外側方向へ延びる邪
魔板３ｇ、３ｈが突設されており、チャンネル６ａ、６
ｂへの蒸気の供給が、外側下方から行われるようになっ
ている。また、チャンネル６ａ、６ｂ内の蒸気の入口側
には各チャンネル６ａ、６ｂに供給される亜鉛蒸気１１
の量をそれぞれ制御する蒸気量制御装置としてのシャッ
タ１２ａ。
それぞれ、延設部３ｄの中央側から外側方向へ延びる邪
魔板３ｇ、３ｈが突設されており、チャンネル６ａ、６
ｂへの蒸気の供給が、外側下方から行われるようになっ
ている。また、チャンネル６ａ、６ｂ内の蒸気の入口側
には各チャンネル６ａ、６ｂに供給される亜鉛蒸気１１
の量をそれぞれ制御する蒸気量制御装置としてのシャッ
タ１２ａ。
１２ｂが設けられている。さらに、チャンネル６ａの帯
ｆｉ４へ向っての開口である蒸着口には、その開口面積
を変化するため、可動板状部材を図示しない駆動装置に
より面方向に移動することができる蒸着面積制御装置［
１３が設けられている。
ｆｉ４へ向っての開口である蒸着口には、その開口面積
を変化するため、可動板状部材を図示しない駆動装置に
より面方向に移動することができる蒸着面積制御装置［
１３が設けられている。
なお、フード３、シａｒツタ１２ａ、１２ｂ。
蒸着面積Ｉ！ｔａｌ＋装置１３は、図示しないヒータに
より溶融亜鉛８の温度と同−又はそれ以上の温度に加熱
されており、各部材の内壁に亜鉛前９Ｆｃ１１が凝集し
て付着するのが防止されている。また、大気中亜鉛溶解
炉７及びスノーケル９は図示しないヒータにより約４５
０℃に加熱されている。さらに、真空槽１は、真空ポン
プＰ（こより臭突排気されると共にその雰囲気は窒素ガ
スとなっており、圧力は亜鉛蒸着の場合で一般に０．０
１〜Ｉ Ｔｏｒｒに制御される。
より溶融亜鉛８の温度と同−又はそれ以上の温度に加熱
されており、各部材の内壁に亜鉛前９Ｆｃ１１が凝集し
て付着するのが防止されている。また、大気中亜鉛溶解
炉７及びスノーケル９は図示しないヒータにより約４５
０℃に加熱されている。さらに、真空槽１は、真空ポン
プＰ（こより臭突排気されると共にその雰囲気は窒素ガ
スとなっており、圧力は亜鉛蒸着の場合で一般に０．０
１〜Ｉ Ｔｏｒｒに制御される。
次に、以上の構成の真空蒸着装Ｗの作用を説明する。
大気中亜鉛溶解炉７から圧力差によりスノーケル９を介
して蒸発槽２内へ吸い上げられた溶融亜鉛８をヒータ１
０により加熱して亜鉛蒸気１１をチャンネル６ａ、６ｂ
へ導くと共に、真空槽１の搬入口１ａから帯鋼４をシー
ル装Ｍ５Ｂを介して導入すると、チャンネル６ａの中を
飛来してきた亜鉛蒸気１１は帯鋼４の表面に、また、チ
ャンネル６ｂの中を飛来してきた亜鉛蒸気１工は帯鋼４
の裏面に、それぞれ蒸着され、帯鋼４の両面に同時に亜
鉛めっきが施される。そして、亜鉛めっきが施された帯
鋼４ａは真空槽１の搬出口１ｂに設けられたシール装置
５ｂを経て真空槽１外へ導出される。
して蒸発槽２内へ吸い上げられた溶融亜鉛８をヒータ１
０により加熱して亜鉛蒸気１１をチャンネル６ａ、６ｂ
へ導くと共に、真空槽１の搬入口１ａから帯鋼４をシー
ル装Ｍ５Ｂを介して導入すると、チャンネル６ａの中を
飛来してきた亜鉛蒸気１１は帯鋼４の表面に、また、チ
ャンネル６ｂの中を飛来してきた亜鉛蒸気１工は帯鋼４
の裏面に、それぞれ蒸着され、帯鋼４の両面に同時に亜
鉛めっきが施される。そして、亜鉛めっきが施された帯
鋼４ａは真空槽１の搬出口１ｂに設けられたシール装置
５ｂを経て真空槽１外へ導出される。
ここで、チャンネル６ａ、６ｂへ導かれる亜鉛蒸気１１
の社はシャッタ１２ ａ、 １２ ｂによりそれぞれ
制御され、例えば帯鋼４の表面の付着量としてＬ ｇ
／ ｍ”が、また、裏面の付着量としてｇ２ｇ ／ ｍ
がそれぞれチャンネル６ａ、６ｂへ供給される。
の社はシャッタ１２ ａ、 １２ ｂによりそれぞれ
制御され、例えば帯鋼４の表面の付着量としてＬ ｇ
／ ｍ”が、また、裏面の付着量としてｇ２ｇ ／ ｍ
がそれぞれチャンネル６ａ、６ｂへ供給される。
このとき、表面と裏面の蒸着量が同一の場合、すなわち
ｇ、 ＝ ｇＱの場合はこのまま連続的に蒸着を行えば
よい。
ｇ、 ＝ ｇＱの場合はこのまま連続的に蒸着を行えば
よい。
しかし、表面と裏面とで蒸着量が異なる差厚めつきの場
合には、蒸着面積制御装置１３によりチャンネル６ａの
蒸着面積を適宜調整する。すなわち、ｇｌ＜ｇ２（例え
ばｇ、＝πも）の場合、帯ｗＩ４の表面側の蒸着口蒸気
圧力Ｐ１と裏面側の蒸着口蒸気圧力Ｐ２とを同一圧力と
するために、蒸着面積制紳装ｗ１３を作動させて表面側
の蒸着面積を裏面の蒸着面積に対してｇ、／ｇ、（例え
ば丁で）の比となるように調整する。これにより、Ｐ、
＝ Ｐ２となり、帯鋼４の表面側及び裏面側の蒸着口
近傍における蒸気干渉が解消され、帯鋼４の板幅方向の
付着分布が均一なものとなる。
合には、蒸着面積制御装置１３によりチャンネル６ａの
蒸着面積を適宜調整する。すなわち、ｇｌ＜ｇ２（例え
ばｇ、＝πも）の場合、帯ｗＩ４の表面側の蒸着口蒸気
圧力Ｐ１と裏面側の蒸着口蒸気圧力Ｐ２とを同一圧力と
するために、蒸着面積制紳装ｗ１３を作動させて表面側
の蒸着面積を裏面の蒸着面積に対してｇ、／ｇ、（例え
ば丁で）の比となるように調整する。これにより、Ｐ、
＝ Ｐ２となり、帯鋼４の表面側及び裏面側の蒸着口
近傍における蒸気干渉が解消され、帯鋼４の板幅方向の
付着分布が均一なものとなる。
また、帯鋼４の片面のみに蒸着を施す場合には、ｇ、＝
＝Ｑにするためにシャッター２ａを完全閉とすると共に
蒸着面積制御装置１３を完全閉にし、第１図中左側のチ
ャンネル６ｂのみを用いて蒸着を行う。
＝Ｑにするためにシャッター２ａを完全閉とすると共に
蒸着面積制御装置１３を完全閉にし、第１図中左側のチ
ャンネル６ｂのみを用いて蒸着を行う。
なお、上記実施例の真空蒸着装置では、差厚めつきある
いは片面めっきを行うためにシャッタ１２ａ、１２ｂ及
び蒸着面積制御装ば１３を設けているが、両面に対して
均一な蒸着のみを行う場合にはこれらの装置を設ける必
要はない。
いは片面めっきを行うためにシャッタ１２ａ、１２ｂ及
び蒸着面積制御装ば１３を設けているが、両面に対して
均一な蒸着のみを行う場合にはこれらの装置を設ける必
要はない。
また、上記実施例では蒸着面積制御装置１３の帯鋼４の
一方側のみに設けているが、両側に設けてもよいことは
言うまでもない。
一方側のみに設けているが、両側に設けてもよいことは
言うまでもない。
以上説明した真空蒸着装置では、１つの真空槽】内に蒸
着口が帯鋼４を境にして相対向した蒸着装置が２個設け
られていることになり、帯ｔｉ４４の表裏面へ同時に蒸
着することができる。また、この場合、蒸気を発生させ
る蒸発槽２は１つであり、蒸着材としての亜鉛を蒸発槽
２に供給する大気中亜鉛溶解炉７も１つであり、従来の
ものに比べて設ｍ費の低減が図られている。
着口が帯鋼４を境にして相対向した蒸着装置が２個設け
られていることになり、帯ｔｉ４４の表裏面へ同時に蒸
着することができる。また、この場合、蒸気を発生させ
る蒸発槽２は１つであり、蒸着材としての亜鉛を蒸発槽
２に供給する大気中亜鉛溶解炉７も１つであり、従来の
ものに比べて設ｍ費の低減が図られている。
さら（こ、上記真空蒸着装置では、蒸着を行うチャンネ
ル部分と、蒸発を行う蒸発槽部分とが分離されているの
で、蒸発槽２のライニング交換等の保守作業が容易であ
り、また、保守に要する費用も低減できるという効果も
奏する。
ル部分と、蒸発を行う蒸発槽部分とが分離されているの
で、蒸発槽２のライニング交換等の保守作業が容易であ
り、また、保守に要する費用も低減できるという効果も
奏する。
なお、上記実施例では亜鉛の帯鋼への蒸着を例にとって
説明したが、他の金属やセラミックス等の蒸着に也適用
できるのは勿論である。
説明したが、他の金属やセラミックス等の蒸着に也適用
できるのは勿論である。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明の真空蒸着装置は、真空槽
、大気中溶解炉、蒸発槽等を２基から１基へ減らすと共
に巻付きロールを排除したので、設備がコンパクトにな
り、省スペース、コスト低減を図ることができる。また
、従来の巻付きロール方式ではロールに帯体が接触する
こと１と起因しためっき面の傷、模様等生じていたが、
これが完全に無くなり、従来実施していた巻付きロール
の保守に要する費用の低減が図れると共に製品の品質向
上を図ることができる。
、大気中溶解炉、蒸発槽等を２基から１基へ減らすと共
に巻付きロールを排除したので、設備がコンパクトにな
り、省スペース、コスト低減を図ることができる。また
、従来の巻付きロール方式ではロールに帯体が接触する
こと１と起因しためっき面の傷、模様等生じていたが、
これが完全に無くなり、従来実施していた巻付きロール
の保守に要する費用の低減が図れると共に製品の品質向
上を図ることができる。
さらに、蒸気をｌ＃ｌ純する蒸気量制卿装蹟と共に蒸着
面積制御装置を設けることにより、差厚めつきの際にも
帯体の表裏面側の蒸気の干渉が防止され、蒸着量分布の
乱れのない高品質の製品を得ることができる。
面積制御装置を設けることにより、差厚めつきの際にも
帯体の表裏面側の蒸気の干渉が防止され、蒸着量分布の
乱れのない高品質の製品を得ることができる。
第１図は一実施例に係る真空蒸着装置の正面図、第２図
及び第３図はその■−■線及びト１線断面図、第４図は
その側面図、第５図及び第６図はそれぞれ従来技術に係
る真空蒸着装置を示す説明図である。 図 回 中、 １は真空槽、 ２は蒸発槽、 ３はフード、 ３ａはフード本体、 ３ｂ、３ｃは通路形成部、 ３ｄは延設部、 ３ｅは搬入口、 ３ｆは搬出口、 ３ｇは邪魔板、 ４は帯鋼、 ５ａ、５ｂはシール装置、 ６ａ、６ｂはチャンネル、 ７は大気中亜鈴溶解炉、 ８は溶融亜鉛、 ９はスノーケル、 １０はヒータ、 １１は亜鉛蒸気、 １２ａ、１２ｂはシャッタ、 １３は蒸着面積制御装置である。 第６図 ＦＮ Ｍ ｌ’ｏ ’−’ ”Ｏｈ ＥＩ Ｑ’ｔ ０
ｍ１ｍ − １Ω 手続補正口 平成８年８月９日
及び第３図はその■−■線及びト１線断面図、第４図は
その側面図、第５図及び第６図はそれぞれ従来技術に係
る真空蒸着装置を示す説明図である。 図 回 中、 １は真空槽、 ２は蒸発槽、 ３はフード、 ３ａはフード本体、 ３ｂ、３ｃは通路形成部、 ３ｄは延設部、 ３ｅは搬入口、 ３ｆは搬出口、 ３ｇは邪魔板、 ４は帯鋼、 ５ａ、５ｂはシール装置、 ６ａ、６ｂはチャンネル、 ７は大気中亜鈴溶解炉、 ８は溶融亜鉛、 ９はスノーケル、 １０はヒータ、 １１は亜鉛蒸気、 １２ａ、１２ｂはシャッタ、 １３は蒸着面積制御装置である。 第６図 ＦＮ Ｍ ｌ’ｏ ’−’ ”Ｏｈ ＥＩ Ｑ’ｔ ０
ｍ１ｍ − １Ω 手続補正口 平成８年８月９日
Claims (2)
- （１）蒸着材を保持し蒸発する蒸発槽と、この蒸発槽の
上方を覆うと共にその水平方向外側まで延設されるフー
ドと、このフードの上記蒸発槽に対して外側の延設部分
の中央部を貫通するよう開口された被蒸着帯体の搬出入
口と、上記蒸発槽及び上記フードの全体を覆うと共に当
該フードの搬出入口と対応する位置に上記被蒸着帯体の
搬出入用のシール装置を有する真空槽とを具え、上記フ
ード内にて上記被蒸着帯体の表裏両面に同時に蒸着を行
うことを特徴とする真空蒸着装置。 - （２）蒸着材を保持し蒸発する蒸発槽と、この蒸発槽の
上方を覆うと共にその水平方向外側まで延設されるフー
ドと、このフードの上記蒸発槽に対して外側の延設部分
の中央部を貫通するよう開口された被蒸着帯体の搬出入
口と、上記蒸着槽及び上記フードの全体を覆うと共に当
該フードの搬出入口と対応する位置に上記被蒸着帯体の
搬出入用のシール装置を有する真空槽と、上記フード内
の上記被蒸着帯体の表裏両側へ導かれる蒸発材の蒸気量
を制御する蒸気量制御装置と、上記フード内の上記被蒸
着帯体の表裏側の少なくとも何れか一方に設けられると
共に当該被蒸着帯体の蒸着面積を制御する蒸着面積制御
装置とを具え、上記フード内にて上記被蒸着帯体の表裏
面に対して厚みを変えた蒸着を行うことを特徴とする真
空蒸着装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2257430A JPH0762239B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 真空蒸着装置 |
| DE199191110103T DE477474T1 (de) | 1990-09-28 | 1991-06-19 | Vorrichtung zum vakuum-aufdampfen. |
| CA002044976A CA2044976C (en) | 1990-09-28 | 1991-06-19 | Vacuum vapor deposition apparatus |
| EP91110103A EP0477474B1 (en) | 1990-09-28 | 1991-06-19 | Vacuum vapor deposition apparatus |
| DE69104000T DE69104000T2 (de) | 1990-09-28 | 1991-06-19 | Vorrichtung zum Vakuum-Aufdampfen. |
| AU83486/91A AU631074B2 (en) | 1990-09-28 | 1991-08-29 | Vacuum vapor deposition apparatus |
| KR1019910016902A KR940001031B1 (ko) | 1990-09-28 | 1991-09-27 | 진공증착장치 |
| US07/766,766 US5169451A (en) | 1990-09-28 | 1991-09-27 | Vacuum vapor deposition apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2257430A JPH0762239B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04136169A true JPH04136169A (ja) | 1992-05-11 |
| JPH0762239B2 JPH0762239B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=17306258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2257430A Expired - Fee Related JPH0762239B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 真空蒸着装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5169451A (ja) |
| EP (1) | EP0477474B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0762239B2 (ja) |
| KR (1) | KR940001031B1 (ja) |
| AU (1) | AU631074B2 (ja) |
| CA (1) | CA2044976C (ja) |
| DE (2) | DE69104000T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012510568A (ja) * | 2008-12-03 | 2012-05-10 | ファースト ソーラー インコーポレイテッド | トップダウン式の材料堆積用システム及び方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4442733C2 (de) * | 1994-12-01 | 2001-04-26 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Einrichtung zur Bedampfung bandförmiger Substrate im Vakuum |
| WO1996035822A1 (fr) * | 1995-05-10 | 1996-11-14 | Centre De Recherches Metallurgiques - Centrum Voor Research In De Metallurgie | Dispositif et installation pour revetir une bande d'acier |
| AUPO712097A0 (en) * | 1997-05-30 | 1997-06-26 | Lintek Pty Ltd | Vacuum deposition system |
| DE10128091C1 (de) * | 2001-06-11 | 2002-10-02 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Vorrichtung für die Beschichtung eines flächigen Substrats |
| DE102004001884A1 (de) * | 2004-01-14 | 2005-08-11 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Verdampfungseinrichtung für sublimierende Materialien |
| PL1752554T3 (pl) * | 2005-07-28 | 2008-03-31 | Applied Mat Gmbh & Co Kg | Urządzenie do naparowywania |
| EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
| US8323408B2 (en) * | 2007-12-10 | 2012-12-04 | Solopower, Inc. | Methods and apparatus to provide group VIA materials to reactors for group IBIIIAVIA film formation |
| WO2011065998A1 (en) * | 2008-12-18 | 2011-06-03 | Veeco Instruments Inc. | Linear deposition source |
| DE102020119155A1 (de) * | 2020-07-21 | 2022-01-27 | Voestalpine Stahl Gmbh | Verfahren zum Abscheiden von metallischen Werkstoffen |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61204374A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-10 | Hitachi Maxell Ltd | 蒸着方法ならびに蒸着装置 |
| JPH01184270A (ja) * | 1988-01-18 | 1989-07-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPH024963A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-09 | Kawasaki Steel Corp | イオンプレーティング装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5938382A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-03-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| AU559722B2 (en) * | 1984-02-08 | 1987-03-19 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | A combined plating apparatus for hot dip plating and vacuum deposition plating |
| JPS6173875A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 流路幅調整板付き真空蒸着装置 |
| AU585531B2 (en) * | 1984-09-17 | 1989-06-22 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for vacuum deposition plating |
| JPS6179755A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-23 | Nisshin Steel Co Ltd | 溶融めつき真空蒸着めつき兼用の連続めつき装置 |
| JPH01225768A (ja) * | 1988-03-04 | 1989-09-08 | Hitachi Maxell Ltd | 両面同時蒸着装置 |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP2257430A patent/JPH0762239B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-19 DE DE69104000T patent/DE69104000T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-19 DE DE199191110103T patent/DE477474T1/de active Pending
- 1991-06-19 EP EP91110103A patent/EP0477474B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-19 CA CA002044976A patent/CA2044976C/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-29 AU AU83486/91A patent/AU631074B2/en not_active Ceased
- 1991-09-27 KR KR1019910016902A patent/KR940001031B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-09-27 US US07/766,766 patent/US5169451A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61204374A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-10 | Hitachi Maxell Ltd | 蒸着方法ならびに蒸着装置 |
| JPH01184270A (ja) * | 1988-01-18 | 1989-07-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPH024963A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-09 | Kawasaki Steel Corp | イオンプレーティング装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012510568A (ja) * | 2008-12-03 | 2012-05-10 | ファースト ソーラー インコーポレイテッド | トップダウン式の材料堆積用システム及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0477474A1 (en) | 1992-04-01 |
| US5169451A (en) | 1992-12-08 |
| AU631074B2 (en) | 1992-11-12 |
| JPH0762239B2 (ja) | 1995-07-05 |
| KR940001031B1 (ko) | 1994-02-08 |
| DE477474T1 (de) | 1992-09-03 |
| KR920006535A (ko) | 1992-04-27 |
| CA2044976C (en) | 1994-01-25 |
| DE69104000D1 (de) | 1994-10-20 |
| DE69104000T2 (de) | 1995-05-04 |
| AU8348691A (en) | 1992-04-16 |
| EP0477474B1 (en) | 1994-09-14 |
| CA2044976A1 (en) | 1992-03-29 |
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