JPH04111243A - 光磁気記録素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の利用分野］ この発明は、光磁気記録素子とその製造方法とに関し、
特に書き込みにフライング型磁気ヘッドを用いる単板型
光磁気記録素子とその製造方法とに関する。

［従来技術１ 特開平１−３１９．１４３号は、表面に１００〜２００
人の凹凸を設けた光磁気記録素子を開示している。この
光磁気記録素子では、基板表面のプレグルーブの深さを
、通常の７００〜９００人よりも深い１０００〜３００
０人とし、表面保護層をテトラフルオロエチレン等の潤
滑剤層で更にコートして、凹凸を形成する。ここで素子
の表面に凹凸を設けると、フライングヘッドが素子に貼
り付くことを防止できる。

しかしながらこの技術では、基板のプレグルーブの影響
を利用し、表面に凹凸を形成する。このため、紫外線硬
化樹脂等の表面保護層を薄くしなければならない。表面
保護層を厚くすると、プレグルーブの影響は失われ、表
面が平滑になってしまうからである。１０００〜３００
０人のプレグルーブの凹凸の影響で表面に凹凸を形成す
るには、通常に用いられる数μｍの表面保護層は厚すぎ
る。

このためこの技術では、表面保護層を薄くしなければな
らない。このことは磁性層の保護を不完全にする。

プレグル−ブの深さを７００〜９００人とするのは、ト
ラッキングに関する特性、特にプッシュプル特性やクロ
ストラック特性を考慮したものである。またプレグルー
ブを深くすると、ランド幅が減少し、Ｃ／Ｎ比の低下に
つながる。これらのため、プレグルーブを深くすること
は好ましいことではない。

［発明の課題］ この発明の課題は、表面保護層の表面に多数のひび割れ
を形成し、フライングヘッドの貼り付きを防止すること
にある。またこの発明の他の課題は、表面保護層へのひ
び割れの形成方法を提供することにある。

［発明の構成］ この発明の光磁気記録素子は、基板上に少なくとも膜面
に垂直な方向に磁化容易軸を有する非晶質磁性層と表面
保護層とを形成した光磁気記録素子において、前記表面
保護層が紫外線硬化樹脂からなるとともに、該保護層の
表面に多数のひび割れを設けたことを特徴とする。

この発明の光磁気記録素子は、例えば次のように製造す
る。基板上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する非
晶質磁性層を形成し、該非晶質磁性層上に溶媒を加えた
紫外線硬化樹脂を塗布し、乾燥後に紫外線照射により硬
化させて、表面に多数のひび割れを有する表面保護層を
形成する。

このようにすれば、表面保護層自体の性質を用いて、多
数のひび割れを形成することができる。

この結果、プレグルーブを深くする必要はなく、また表
面保護層を薄くする必要もなくなる。

［実施例］ ７００〜９００人程度のプレグルーブを形成したポリカ
ーボネート基板を用い、第３図の光磁気記録素子を製造
した。図において２は基板で、スパッタリング法で非晶
質イツトリウムサイアロン（ＹＳｉＡＩＯＮ）の誘電体
層４（厚さ１ＯＯＯＡ）。

非晶質ＧｄＤｙＦｅ磁性層６（厚さ２００人）、同じ〈
非晶質イツトリウムサイアロン誘電体層８（厚さ４００
人）、Ａ１金属反射層１０（厚さ５００人）を積層した
。非晶質ＧｄＤｙＦｅ磁性層６は、膜面に垂直な磁化容
易軸を持つ。イツトリウムサイアロン誘電体層４から金
属反射層１０までを総称し、記録層１２と呼ぶ。

アクリレート系紫外線硬化樹脂とセロソルブ（エチレン
グリコール・モノエチルエーテル、Ｓ点ｔ３５°Ｃ）の
重量比で２＝１の混合物を用意し、記録層１２上にデス
ペンサーで滴下し、スピンナーコートと紫外線硬化で膜
厚３．５μｍの表面保護Ｆ１１４を形成した。スピンナ
ーコートと紫外線硬化の過程で、セロソルブ溶媒は蒸発
し、樹脂表面には多数のひび割れが網目状に生じた。

第１図に、表面粗さ計で測定しＩ；、保護層１４の表面
の凹凸を示す。横軸は保護層１４の表面方向を、縦軸は
表面の凹凸を示す。表面のひび割れは網目状をしており
、樹脂の膜厚３．５μｍに対し、平均値でひび割れの深
さは０．２μｍ１ひび割れの幅は約２．５μｍ１ひび割
れとひび割れとの輻は２５〜Ｉ００／７ｍ程度であった
。

第２図に、セロソルブ溶媒を加えず、アクリレート樹脂
を単味で塗布した際の、表面粗さを示す。

図での凹凸は表面粗さ計の精度以下で、保護層１４の表
面は平滑である。

第４図のように、フライングヘッド１６を用いたドライ
ブに光磁気記録素子をセットし、２４０Ｑｒｐｍで回転
させて、始動時の摩擦音と保護層１４表面への傷の付き
方とから、フライングヘッド１６の貼り付き具合を調べ
た。セロソルブを用いないものでは、フライングヘッド
１６の貼り付きが見られたが、セロソルブを加えたもの
では貼り付きは見られなかった。

樹脂に加える溶媒は、一般に気化熱が低いものを、ある
程度多量に加えることが好ましい。気化熱が低いもので
は、溶媒蒸発時の樹脂の冷却が小さく、蒸発は急激に進
行する。気化熱の大きな、エタノール、インプロパツー
ル、ブタノール等の溶媒では、蒸発時に樹脂が冷却され
るため、ひび割れ状の凹部の形成は困難である。溶媒を
ある程度多量に加えると、蒸発時に樹脂の収縮が生じる
。

溶媒の蒸発が急激であると、あるいは樹脂と溶媒との相
溶性が低く蒸発時に分離が生じると、収縮は不均一に進
行し、保護層１４の表面に網目状の凹部が生じる。しか
しながら、保護層１４への凹部の生成機構の詳細は不明
である。

好ましい溶媒の添加量は、樹脂１重量部に対し、０．２
〜０，７重量部で、０．１重量部以下ではひび割れが形
成されない、あるいはひび割れの深さが小さすぎ、０．
８重量部以上では表面保護層１４の記録層１２への密着
性が低下し、剥がれ落ち易くなる。また０、８重量部以
上の添加では、非常に細かく多数のひび割れが生じ、網
目は細かくなる。

好ましい溶媒の種類は、セロソルブ化合物では、エチレ
ングリコールのモノエチルエーテル（セロソルブ）の他
に、同族のエチレングリコールのジエチルやモノメチル
あるいはジメチル等のエーテル等がある。これ以外に、
瀦点１００〜２００°Ｃ程度の、エーテル化合物やケト
ンあるいはアルデヒド化合物等も用い得る。用い得る溶
媒の種類は、−殻間には樹脂との親和性が得られる程度
のエーテルやケトン、アルデヒド、アミド、イミド等の
弱い官能基を持つ、低気化熱の溶媒である。また溶媒の
蒸発を赤外線照射等で促進する場合には、沸点が２００
°Ｃ以上の溶媒や、エタノール等の溶媒も使用可能であ
る。

実施例について補足する。この発明の特徴は、表面保護
層１４の表面に多数のひび割れを形成することにある。

保護層１４の厚さは２〜ｌＯμｍ程度が好ましく、これ
以下では記録層１２の保護効果が不十分で、これ以上で
は硬化時の樹脂の収縮のため、基板２の反りが大きくな
る。ひび割れの深さは、溶媒の種類や添加量で変化し１
μｍ程度までのものを得ることができるが、１００Ａ未
満ではフライングヘッド１６の貼り付き防止が不完全で
好ましくない。また表面保護Ｆｊ　ｌ　４には、ＺｒＯ
２とＡｈ０３の混合物や、ＷＯ，とＷＯ，の混合物等の
導電性フィラーを加え、埃の付着等を防止しても良い。

更に、記録層１２の種類や基板２の種類は任意である。

［発明の効果１ この発明では、表面保護層の表面に多数のひび割れを形
成し、フライングヘッドの貼り付きを防止する。ひび割
れは表面保護層の表面に形成するので、プレグルーブを
深くしたり、表面保護層を薄くしたりする必要はない。

この結果、保護層の保護効果を損ねず、トラッキング性
能やＣ／Ｎ比を損ねずに、フライングヘッドの貼り付き
を防止できる。

この発明の製造方法では、溶媒の蒸発と樹脂の収縮を利
用し、表面保護層に多数のひび割れを形成する。このた
め、プレグルーブを深くしたり、表面保護層を薄くした
りする必要なしに、容易にひび割れを形成できる。

断面図、 る。

図において、 ２　基板、 ６　非晶質磁性層、 ｌＯ金属反射層、 １４　表面保護層、 第４図はその使用状態を表す断面図であ誘電体層、 誘電体層、 記録層 フライングヘッド。

【図面の簡単な説明】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に少なくとも膜面に垂直な方向に磁化容易
   軸を有する非晶質磁性層と表面保護層とを形成した光磁
   気記録素子において、 前記表面保護層が紫外線硬化樹脂からなるとともに、該
   保護層の表面に多数のひび割れを設けたことを特徴とす
   る、光磁気記録素子。
2. （２）基板上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する
   非晶質磁性層を形成する工程と、該非晶質磁性層上に溶
   媒を加えた紫外線硬化樹脂を塗布し、乾燥後に紫外線照
   射により硬化させて、表面に多数のひび割れを有する表
   面保護層を形成する工程とを含む、光磁気記録素子の製
   造方法。