JPH0410988A - 凹版オフセット印刷用印刷版 - Google Patents
凹版オフセット印刷用印刷版Info
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- JPH0410988A JPH0410988A JP11269390A JP11269390A JPH0410988A JP H0410988 A JPH0410988 A JP H0410988A JP 11269390 A JP11269390 A JP 11269390A JP 11269390 A JP11269390 A JP 11269390A JP H0410988 A JPH0410988 A JP H0410988A
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、精細パターン印刷、例えば液晶カラーフィル
タを得る精細パターン印刷を行う際の凹版オフセット印
刷用印刷版に関するものである。
タを得る精細パターン印刷を行う際の凹版オフセット印
刷用印刷版に関するものである。
従来から精細パターンを印刷するに際しては、凹版オフ
セット印刷による手法が採用されていて、液晶用の高精
度が要求されるカラーフィルタを製造する場合にもこの
凹版オフセット印刷により行われている。 そしてこの凹版オフセット印刷は、第1−1図に示すよ
うに、凹版オフセット印刷用の印刷版1、この印刷版1
からインキを受けるブランケット胴2、前記ブランケッ
ト胴2からインキを受ける基板(ガラスなど)3の構成
からなり、前記印刷版1において所定のパターンで構成
された版面にインキを供給し、スキージング、ドクタリ
ングを経て前記ブランケット胴2の印刷版1への接触に
よってインキが版面からブランケット胴2のブランケッ
ト4に移り(転移)、こののちブランケット胴2を基板
3に接触させブランケット4からインキを基板3に移す
(転写)ことによって、前記基板3に所定のパターンが
印刷によって形成されるものである。
セット印刷による手法が採用されていて、液晶用の高精
度が要求されるカラーフィルタを製造する場合にもこの
凹版オフセット印刷により行われている。 そしてこの凹版オフセット印刷は、第1−1図に示すよ
うに、凹版オフセット印刷用の印刷版1、この印刷版1
からインキを受けるブランケット胴2、前記ブランケッ
ト胴2からインキを受ける基板(ガラスなど)3の構成
からなり、前記印刷版1において所定のパターンで構成
された版面にインキを供給し、スキージング、ドクタリ
ングを経て前記ブランケット胴2の印刷版1への接触に
よってインキが版面からブランケット胴2のブランケッ
ト4に移り(転移)、こののちブランケット胴2を基板
3に接触させブランケット4からインキを基板3に移す
(転写)ことによって、前記基板3に所定のパターンが
印刷によって形成されるものである。
ところで、上記凹版オフセット印刷におけるドクタリン
グは、第12図に示すように印刷版1の版面上のインキ
aをドクター5によってかき取り、インキセルθ内にの
みインキaを残すようにしているが、ドクターSの端面
5aとインキaとの間での吸着力によって移動するドク
ター5がインキaを引き、前記インキセル6それぞれに
おいてのインキaの表面状態は、第12図の如くインキ
セル6の一方のエッヂ6a側(ドクターの移動方向A側
)でインキaが盛り上がり、他方のエッヂ6b側で版面
より下がった状態となっている。 このため通常の印刷では、インキセル6の落ち込んだ部
分のインキもブランケット4に移るよう、ブランケット
胴2で印刷版1に成る程度の印圧をかけてブランケット
4がインキセルθ内に押し込み、基板3に転写した画線
に白抜けや画線辺部の波打ちなどの不良発生を無くすよ
うにしている。 しかしながら、精細パターンの印刷では、インキ転移の
印圧を小さくしブランケットの変形を極力小さくするこ
とも、精細パターンを得る上での極めて重要なポイント
であり、上記した現状からカラーフィルタなどの高精度
が要求される精細パターンの印刷が確実に行いにくいと
いう問題があった。 そこで本発明は、精細パターンを小さな印圧下で行うと
ともに、ブランケットへのインキ転移性を良好にするこ
とを課題とし、凹版オフセット印刷によってより高精度
な精細パターンを得ることを目的とする。
グは、第12図に示すように印刷版1の版面上のインキ
aをドクター5によってかき取り、インキセルθ内にの
みインキaを残すようにしているが、ドクターSの端面
5aとインキaとの間での吸着力によって移動するドク
ター5がインキaを引き、前記インキセル6それぞれに
おいてのインキaの表面状態は、第12図の如くインキ
セル6の一方のエッヂ6a側(ドクターの移動方向A側
)でインキaが盛り上がり、他方のエッヂ6b側で版面
より下がった状態となっている。 このため通常の印刷では、インキセル6の落ち込んだ部
分のインキもブランケット4に移るよう、ブランケット
胴2で印刷版1に成る程度の印圧をかけてブランケット
4がインキセルθ内に押し込み、基板3に転写した画線
に白抜けや画線辺部の波打ちなどの不良発生を無くすよ
うにしている。 しかしながら、精細パターンの印刷では、インキ転移の
印圧を小さくしブランケットの変形を極力小さくするこ
とも、精細パターンを得る上での極めて重要なポイント
であり、上記した現状からカラーフィルタなどの高精度
が要求される精細パターンの印刷が確実に行いにくいと
いう問題があった。 そこで本発明は、精細パターンを小さな印圧下で行うと
ともに、ブランケットへのインキ転移性を良好にするこ
とを課題とし、凹版オフセット印刷によってより高精度
な精細パターンを得ることを目的とする。
本発明は、上記した課題を考慮してなされたもので、イ
ンキセル以外の版−設面に離型層を設けたことを特徴と
する凹版オフセット印刷用印刷版を提供して、上記課題
を解消するものである。
ンキセル以外の版−設面に離型層を設けたことを特徴と
する凹版オフセット印刷用印刷版を提供して、上記課題
を解消するものである。
本発明においては、インキセル以外の版−設面に離型層
が設けられていることから、ドクターがインキセルにイ
ンキを詰め終わってエッヂにかかったときには前記離型
層がインキをはじき、ドクターがインキセル内のインキ
を引っ張らないようになって、ドクターのインキ切れが
良くなる。
が設けられていることから、ドクターがインキセルにイ
ンキを詰め終わってエッヂにかかったときには前記離型
層がインキをはじき、ドクターがインキセル内のインキ
を引っ張らないようになって、ドクターのインキ切れが
良くなる。
つぎに、本発明を第1図から第9図に示す実施例に基づ
いて詳細に説明する。なお、第11図に示す従来例と構
成が重複する部分は同符号を付してその説明を省略する
。 本発明において印刷版1は、第1図に示すように、イン
キセル6の両エッヂ6a、8bが上方に向けて突設され
ており、その突出量は1〜2μmに設けられている。そ
して前記インキセル6以外の版−設面7は、第1図に示
すようにシリコン材からなる離型層8が設けられていて
、この離型層8はドクターなどとの接触によって移動す
ることのないように分割した状態で配置されている。 そしてこの印刷版1にインキを供給しスキージングした
後は、ドクター5をわずかに浮かせた状態で移動させれ
ばよく、インキセル6の周囲が前記離型層8であること
から、インキセルそれぞれのエッヂ部分でインキが確実
に切れ上面形状が安定した状態(例えば水平状態や盛り
上がった状態)でインキaがインキセル6に入る。これ
によってブランケットにはわずかな印圧下の状況でイン
キが転移し、精細パターンが確実に印刷できるようにt
lる。またインキセルのエッ゛ヂ部分でのインキの切れ
が高いことから、インキングローラによって版面をなぞ
るようにすれば、ドクターを用いずにインキングとドク
タリングとを同時に行うことができるようになる。 上記印刷版1を作成するにあたっては、まず、第2図に
示すように、版材9に対してエッヂ部分を含めた状態の
インキセル配置パターンおよび離型層の分割線部パター
ンでレジスト材10をバターニングする。なお前記離型
層の分割線部パターンは必要に応じて設けられるもので
ある。 つぎに、これをエツチングして離型層を設けるための凹
部11を設ける(第3図)。 離型層8を形成するために、版面全体にシリコン材12
を塗布する(第4図)。 前記版材9の上面を研磨してインキセル配置パターン上
および離型層分割線部パターン上のシリコン材12とレ
ジスト材10を除去し、版−設面7に離型層8を形成す
る(第5図)。 こののちインキセル形成のためのレジスト材13を塗布
して(第6図)、所定のフォトリングラフィ手法および
エツチング手法を用い、前記レジスト材を除去してイン
キセル6を宵した印刷版1を得る(第7図)。 また印刷版1の作成に際して、版面全体にシリコン材1
2を塗布した後に研磨を行わずに、第8図に示すように
、レジスト材10の高さで不要なシリコン材をかき取る
ようにすることによって離型層8を設けるようにしもよ
く、こののち前記レジスト材10を溶融除去しく第9図
)、表出したインキ配置パターンの部分にフォトリソグ
ラフィ手法およびエツチング手法を用いてインキセル6
を形成するようにしても良い(第10図)。これによっ
て前記離型層はエッヂより高い位置にあり、インキ切れ
がさらに向上するようになる。
いて詳細に説明する。なお、第11図に示す従来例と構
成が重複する部分は同符号を付してその説明を省略する
。 本発明において印刷版1は、第1図に示すように、イン
キセル6の両エッヂ6a、8bが上方に向けて突設され
ており、その突出量は1〜2μmに設けられている。そ
して前記インキセル6以外の版−設面7は、第1図に示
すようにシリコン材からなる離型層8が設けられていて
、この離型層8はドクターなどとの接触によって移動す
ることのないように分割した状態で配置されている。 そしてこの印刷版1にインキを供給しスキージングした
後は、ドクター5をわずかに浮かせた状態で移動させれ
ばよく、インキセル6の周囲が前記離型層8であること
から、インキセルそれぞれのエッヂ部分でインキが確実
に切れ上面形状が安定した状態(例えば水平状態や盛り
上がった状態)でインキaがインキセル6に入る。これ
によってブランケットにはわずかな印圧下の状況でイン
キが転移し、精細パターンが確実に印刷できるようにt
lる。またインキセルのエッ゛ヂ部分でのインキの切れ
が高いことから、インキングローラによって版面をなぞ
るようにすれば、ドクターを用いずにインキングとドク
タリングとを同時に行うことができるようになる。 上記印刷版1を作成するにあたっては、まず、第2図に
示すように、版材9に対してエッヂ部分を含めた状態の
インキセル配置パターンおよび離型層の分割線部パター
ンでレジスト材10をバターニングする。なお前記離型
層の分割線部パターンは必要に応じて設けられるもので
ある。 つぎに、これをエツチングして離型層を設けるための凹
部11を設ける(第3図)。 離型層8を形成するために、版面全体にシリコン材12
を塗布する(第4図)。 前記版材9の上面を研磨してインキセル配置パターン上
および離型層分割線部パターン上のシリコン材12とレ
ジスト材10を除去し、版−設面7に離型層8を形成す
る(第5図)。 こののちインキセル形成のためのレジスト材13を塗布
して(第6図)、所定のフォトリングラフィ手法および
エツチング手法を用い、前記レジスト材を除去してイン
キセル6を宵した印刷版1を得る(第7図)。 また印刷版1の作成に際して、版面全体にシリコン材1
2を塗布した後に研磨を行わずに、第8図に示すように
、レジスト材10の高さで不要なシリコン材をかき取る
ようにすることによって離型層8を設けるようにしもよ
く、こののち前記レジスト材10を溶融除去しく第9図
)、表出したインキ配置パターンの部分にフォトリソグ
ラフィ手法およびエツチング手法を用いてインキセル6
を形成するようにしても良い(第10図)。これによっ
て前記離型層はエッヂより高い位置にあり、インキ切れ
がさらに向上するようになる。
以上説明したように、本発明によれば、印刷用版は、イ
ンキセル以外の版−設面に離型層を設けたので、インキ
セルのエッヂ部分でのインキ切れが頗る向上して、イン
キ供給後のインキセルでのインキ上面形状が水平および
盛り上がったものとなり、ブランケットへのインキ転移
性が向上する。このため、IJsさな印圧状態でブラン
ケットを接触させてもインキ転移性が良好であり、カラ
ーフィルタなどの精細パターンを確実に印刷できるよう
になるなど、実用性にすぐれた効果を奏するものである
。
ンキセル以外の版−設面に離型層を設けたので、インキ
セルのエッヂ部分でのインキ切れが頗る向上して、イン
キ供給後のインキセルでのインキ上面形状が水平および
盛り上がったものとなり、ブランケットへのインキ転移
性が向上する。このため、IJsさな印圧状態でブラン
ケットを接触させてもインキ転移性が良好であり、カラ
ーフィルタなどの精細パターンを確実に印刷できるよう
になるなど、実用性にすぐれた効果を奏するものである
。
第1図は本発明に係る凹版オフセット印刷用印刷版の一
実施例のインキング状態を示す説明図、第2図から第7
図は印刷版の作成を示すもので、第2図はレジスト材の
パターニングを示す説明図、第3図はエツチングを示す
説明図、第4図は離型材形成のためのシリコン材塗布を
示す説明図、第5図は研磨後の状態を示す説明図、第6
図はレジスト材塗布を示す説明図、第7図は印刷版を示
す説明図、第8図は他の印刷版作成工程においてレジス
ト材の高さでシリコン材をかき取った状態を示す説明図
、第9図は同じくレジスト材を除去した状態を示す説明
図、第10図は同じく他の印刷版作成により得られた印
刷版を示す説明図、第11図は凹版オフセット印刷機を
示す説明図、第12図は従来の印刷版におけるドクタリ
ングを示す説明図である。 1・・・・・・印刷版 2・・・・・・ブランケット胴 4・・・・・・ブランケット 5・・・・・・ドクター 6・・・・・・インキセル フ・・・・・・版−設面 8・・・・・・離型層 10.13・・・・・・レジスト材 12・・・・・・シリコン材
実施例のインキング状態を示す説明図、第2図から第7
図は印刷版の作成を示すもので、第2図はレジスト材の
パターニングを示す説明図、第3図はエツチングを示す
説明図、第4図は離型材形成のためのシリコン材塗布を
示す説明図、第5図は研磨後の状態を示す説明図、第6
図はレジスト材塗布を示す説明図、第7図は印刷版を示
す説明図、第8図は他の印刷版作成工程においてレジス
ト材の高さでシリコン材をかき取った状態を示す説明図
、第9図は同じくレジスト材を除去した状態を示す説明
図、第10図は同じく他の印刷版作成により得られた印
刷版を示す説明図、第11図は凹版オフセット印刷機を
示す説明図、第12図は従来の印刷版におけるドクタリ
ングを示す説明図である。 1・・・・・・印刷版 2・・・・・・ブランケット胴 4・・・・・・ブランケット 5・・・・・・ドクター 6・・・・・・インキセル フ・・・・・・版−設面 8・・・・・・離型層 10.13・・・・・・レジスト材 12・・・・・・シリコン材
Claims (1)
- インキセル以外の版一般面に離型層を設けたことを特徴
とする凹版オフセット印刷用印刷版。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11269390A JPH0410988A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 凹版オフセット印刷用印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11269390A JPH0410988A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 凹版オフセット印刷用印刷版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0410988A true JPH0410988A (ja) | 1992-01-16 |
Family
ID=14593125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11269390A Pending JPH0410988A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 凹版オフセット印刷用印刷版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0410988A (ja) |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11269390A patent/JPH0410988A/ja active Pending
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