JPH0410632A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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Publication number
JPH0410632A
JPH0410632A JP11466890A JP11466890A JPH0410632A JP H0410632 A JPH0410632 A JP H0410632A JP 11466890 A JP11466890 A JP 11466890A JP 11466890 A JP11466890 A JP 11466890A JP H0410632 A JPH0410632 A JP H0410632A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
gold
aluminum
semiconductor device
pad electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP11466890A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuichi Marumo
丸茂 修一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は半導体装置の製造方法に関する。
[従来の技術] 樹脂封止して組立が行われる半導体装置の基本的製造方
法を第1図を用いて説明する。
工0チップ1をリードフレームの工0チップ搭載部であ
るタブ2にエポキシ系等の接着剤を用いて貼りつげ、し
かる後に金等の金属細線6によりパッド電極4とリード
端子5を結線する。
その後エポキシ系の樹脂6で封止してリード端子5に半
田メツキを施し、リード端子5を切断して任意の形状に
曲げ加工して完成品とする。
[発明が解決しようとする課題] 最近、電子機器の小型化に伴ない、リード端子を第1図
の5の如(曲げ、この先端部を半田付けしてプリント回
路基板に搭載する表面実装型の半導体装置が急激に増加
している。
しかし従来の技術では、プリント回路基板に赤外線リフ
ロー等の方法により半田づけする場合、200℃を越え
る熱が半導体装置に加わるため、この高温下において、
半導体装置を構成する各部材の熱膨張係数の差に起因す
る熱応力が生じ、−部の部材にダメージを与える事が問
題となっている。
特に、封止樹脂から金属細線の一方の端部であるボール
ボンド7とパッド電極4の界面へこれらを剪断するよう
に働(熱応力は著しく、この界面に剥離を生じさせ、電
気的にオープンしてしまう問題が深刻であった。
そこで本発明はこの様な問題点を解決するもので、その
目的とする所は、熱応力に対する耐性の高いボールボン
ドとパッド電極の接合を有する半導体装置を提供すると
ころにある。
[課題を解決するための手段] 本発明の半導体装置の製造方法は、ICチップの電極と
リード端子との結線後、樹脂封止の前に前記ICチップ
を高温保持する事を特徴とする。
[実施例] 本発明は結線された後のICチップを高温保持するもの
であるから、特に図によってその事を示さないが、原理
について、従来の技術を示す第1図を用いて詳細に説明
する。
一般にパッド電極4はアルミニウム(At)を主とする
組成であり、金属細線6は金(Au)を主とした組成で
ある。これら2つの部材は、ワイヤボンダと呼ばれる専
用の装置により結線されるワイヤボンダからは熱と超音
波によるエネルギを同時に与えられ、パッド電極4のA
7と金属細線6の一方の端部であるボールボンド7のA
uは相互に拡散し金属間化合物を形成して接合が行なわ
れる。
ところで、AtとAuの金属間化合物には5種類のタイ
プが存在する事が知られており、その金属学的性質もそ
れぞれ異なっている。
一般にAtとAuの界面に生ずる金属間化合物の種類と
割合は熱履歴と伴に変化する。我々の実験によれば完成
品となった場合、白色の合金が約80%以上の割合でA
t−Atの界面に存在していれば、半導体装置をプリン
ト回路基板に搭載する時、赤外線等の熱応力に対して格
別に高い耐性が得られ極めて高い信頼性が保証できる。
ところが、パッド電極4とボールボンド7の接合後、I
Cチップに加わる熱は、樹脂封止特約165℃−微分、
樹脂封止後の高温保持約175℃−約5時間および製品
名印刷後の高温保持約175℃−約1時間であり、これ
らの熱履歴のみでは、白色の合金を約80%の割合で形
成する事はむずかしい。
そこで補助的手段として、結線後、約200℃−約2時
間ICチップを高温保持してやる事により、完成品とし
て約80%以上の合金を形成してやる事が可能である。
ここで重要なのは、At−Au間の金属間化合物も極端
に(例えば200℃で200時間)加熱すると、逆に脆
化するので条件の最適化をする事である。
ルポンドとパッド電極の接合が得られるという効果を有
する。
更に最近は、UV印刷が適用されはじめ、約175℃−
約1時間という高温保持も適用されな(なり、加えてポ
ストキーアレス樹脂と称するものは封止後の高温保持も
必要無(なる方向にあるので、At−Auの金属間化合
物を白色のものに調整する事がますます困難になって来
ている。この様な状況の中で、結線後の高温保持は極め
て有効な技術として注目すべきものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体装置を示す断面図である[発明の
効果コ 以上述べたように、本発明によれば、工0チップの電極
とリード端子との結線後、樹脂封止の前に前記ICチッ
プを高温保持する事により、半導体装置をプリント回路
基板に搭載する時、赤外線等の熱応力に対して格別に高
い耐性を有するボー・・・・・・・・・ICチップ ・・・・・・・・・タ ブ ・・・・・・・・・金属細線 ・・・・・・・・・パッド電極 ・・・・・・・・・リード端子 ・・・・・・・・・樹 脂 7・・・・・・・・・ボールボン ド 以 上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  ICチップを樹脂封止して組立てを行なう半導体装置
    において、ICチップの電極とリード端子との結線後、
    樹脂封止の前に前記ICチップを高温保持する事を特徴
    とする半導体装置の製造方法
JP11466890A 1990-04-27 1990-04-27 半導体装置の製造方法 Pending JPH0410632A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6784545B2 (en) 2002-04-12 2004-08-31 Nec Compound Semiconductor Devices, Ltd. Semiconductor device having pad electrode connected to wire

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6784545B2 (en) 2002-04-12 2004-08-31 Nec Compound Semiconductor Devices, Ltd. Semiconductor device having pad electrode connected to wire

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