JPH0410456B2 - - Google Patents

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JPH0410456B2
JPH0410456B2 JP58177017A JP17701783A JPH0410456B2 JP H0410456 B2 JPH0410456 B2 JP H0410456B2 JP 58177017 A JP58177017 A JP 58177017A JP 17701783 A JP17701783 A JP 17701783A JP H0410456 B2 JPH0410456 B2 JP H0410456B2
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hfip
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/132Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は1、1、1、3、3、3−ヘキサフル
オロプロパン−2−オール(HFIP)の新規かつ
改良された製造方法に関するものである。さらに
詳しくは、ヘキサフルオロアセトン水和物
(HFAW)を原料に用いて触媒の存在下液相にて
水素化分解せしめHFIPを製造する方法に関す
る。 HFIPはそれ自体特異な溶解力を有する溶媒と
して有用であるとともに麻酔剤の中間体をはじめ
医農薬の中間体および化学製品の中間体としても
価値がある。 HFIPの公知の製造方法には、ヘキサフルオ
ロアセトン(HFA)の水酸化ホウ素ナトリウム
(ソ連特許第138604号)あるいは水素化アルミニ
ウムリチウム(米国特許第3227674号)を用いた
液相還元、米国特許第3607952号に代表される
HFAを液相で貴金属触媒の存在下水素化する方
法、独国特許第1956629号に代表されるHFAを
気相で水素と共に触媒層を通すことによる(接触
水素化)方法がある。 これらはいずれも原料としてHFAを使用する
ものであるが、HFAは常温では気体(bp.−28
℃)である有毒物質であり、その取扱い、貯蔵、
運搬等には重大な注意を要するものである。 上記のうちは工業的な製造方法として適して
いるとはいえず、またではHFAがそれ自身液
化ガスであるため可及的に(反応温度を低下する
努力をしても)反応温度でHFAが液相であるた
めには大きな反応圧力が必要であり、反応容器と
しては特殊なもの(例えば耐圧能力50Kg/cm2)が
要求される。では常圧下連続的に水素化せしめ
ることが可能ではあるが、水素化反応が発熱を伴
うため触媒層に熱点を作るなど反応温度の制御は
非常に困難である。また充填触媒は活性が経時的
に低下することは避けられず、製品の経時的な確
認および反応条件の適正化操作といつた煩雑さを
免がれない。またHFAの十分なる転化を期すた
め過剰量の水素を用いることが一般的であるが、
過剰水素の損失は製造コストの上昇を招き、回収
のためには特に装置が必要となる。 HFAは液化ガスでありまた毒性を有するため
取り扱いが難しいが、かかるHFAを用いる不利
を克服する方法として、HFAの水和物い
(HFAW)を用い、気相でニツケル系触媒およ
び/またはパラジウム系触媒存在下水素化分解す
ることによるHFIPの製造法が特開昭57−81424
号にみられる。しかし、本法もHFAを用いる
の方法における欠点がそのまま適用される。 本発明者等は、上記のような欠点のないHFIP
の製造法を鋭意検討した結果、HFAの水和物
(HFAW)を触媒および水酸化アルミ、ホウ酸、
シリカ、アルミナ、珪酸ソーダ/ホウ酸、アルカ
リ物質のうちから選ばれる少なくとも1種の添加
剤の存在下、液相で比較的低圧力下水素化分解す
ることにより好収率でHFIPを製造しうることを
見い出し本発明に到つたものである。 ここでいうHFA水和物はHFAを水に吸収せし
めることにより容易に得られ、製造方法によつて
はHFAを取り扱うことなく直接製造することも
出来る。HFAは水一分子と速かに反応して一水
和物を生成し、このgem−ジオール型の化合物は
常温では固体である(mp46℃)。このものは過剰
の水に容易に溶解し、HFAと水のモル比が約3
のものは106℃の定沸点組成物を形成する。本発
明に用いるHAW水和物(HFAW)は と表わすことが出来る(n≧0)。HFAWはn>
0.5で貯蔵、輸送が容易な安定な液体であり、そ
れ自身溶媒としても特異な性能を有する。上の式
からもHFAWはHFAとは全く異なる構造および
化学的、物理的特性を有することが明らかであ
る。尚、この水和物を例えば熱濃硫酸で脱水すれ
ばHFAが得られる。 以下詳細に本発明を説明する。 本発明におけるHFIPの製造に関する化合物の
変化は次式に示される。 即ち、本発明は、液体であり取り扱いの容易な
HFAWに触媒を添加し、比較的低圧の水素の存
在下、70〜100℃の温度で撹拌することにより
HFIPを短時間のうちに高収率で与えるという製
造の全工程が全て液相においておこなわれる容易
なHFIPの製造方法を提供するものである。 本発明において用い得る水素化分解触媒として
は、パラジウム系触媒が特に有効であり、就中パ
ラジウム−炭素が最適である。このほかニツケル
系触媒も相当の活性を示し、白金、ロジウム、ル
テニウム系触媒等も採用し得るものである。これ
ら触媒はHFAW中にスラリーとして存在するが、
その濃度は0.1ないし1.0重量パーセントである。
0.1重量%より小さくなると反応速度は急激に小
さくなり、1.0重量%より大きくすることは反応
速度的には好ましいものの経済的には好ましくな
い。活性炭に担持されたパラジウムの濃度は汎用
されている2ないし5重量パーセントのもので好
適な結果を与える。 本発明において使用する水素の圧は2ないし10
Kg/cm2である。水素圧が2Kg/cm2より低くなると
反応が進行するに従つて生成したHFIP(沸点58
℃)が反応温度においてかなりの蒸気圧を有すた
め相対的に水素圧が減少するためか反応速度が小
さくなり反応を完遂するのに長時間を要するよう
になる。一方水素圧を大きくすることは、反応速
度を高めるが通常は5〜6Kg/cm2の圧で十分反応
は速進行し、10Kg/cm2以上の圧は反応容器の面か
らみれば特殊な圧力を必要とすることもあるた
め、必ずしも要しない。 反応温度が60℃以下の場合反応温度が小さく実
際的でなく、100℃以上の場合反応速度的には好
ましいが、生成したHFIPの蒸気圧が大きくな
り一定圧力下での水素の分圧が相対的に低下す
る、70°〜100℃で十分な反応速度がある、
100℃以上に加熱することは経済的でないという
理由で必ずしも要求されるものではない。 本発明では、水素は反応圧力を一定に保つこと
により消費された水素の分だけボンベより供給さ
れる。ために水素の損失はほとんどない。 本発明は気液反応であり、撹拌は反応速度に大
きな影響を及ぼす。効果的な撹拌は反応速度の向
上に著しい好結果をもたらす。 HFAWの十分な転化率が達成された時点にお
いて加熱および撹拌を停止し、触媒が底部に沈降
した後反応器の底部に触媒および生成物の一部を
残し、上澄を生成物として回収する。反応器内に
は上記一部生成物及び触媒と水素が残存するが、
その上にポンプにて所定量の原料HFAWを投入
すれば触媒、水素は損失なしに再使用出来るし、
改めて反応容器を水素で置換する操作も省ける。 触媒の一部は回収した生成物に同伴される。ま
た反応を繰返すことにより漸次活性が低下してく
るので通常は毎回当初使用触媒量の1/10程度補充
することにより、毎回好ましい反応速度および反
応生成物を与える。 本発明においては、装置材料の腐食、劣化を防
ぐため、および触媒寿命の延長のため各種の無機
物質を添加剤として反応混合物に加えるものであ
る。反応時微量ではあるがHFAWが過水素化分
解され系中にフツ素イオンが検出されることがあ
り、水酸化アルミAl(OH)3の添加はフツ素イオ
ンの発生を無視出来る程度まで抑える。添加する
水酸化アルミの量は少量で良い(通常HFAWの
0.1ないし0.5重量%)。ほう酸H3B3BO3、シリカ
SiO2、アルミナ粉Al2O3、硅曹/ホウ酸
Na2SiO3/H3BO3などが同様の目的のため用い
られ得るが、水酸化アルミの効果が最も著しい。
フツ素イオンの存在は各種の装置材料に好ましく
ない影響を与え、腐食、劣化等装置材料自体の問
題とともに得られる製品の品質上も好ましくない
が、これら添加剤を用いることによりかかる問題
を回避できるものである。また触媒の再使用が可
能な回数(触媒寿命)は製品のコストに大きく関
係するものである。微量の水酸化ナトリウムの添
加は触媒寿命の延長に有効である。通常は0.05な
いし0.5重量%の水酸化ナトリウムの添加が好適
である。添加量の増加は副反応(過水素化分解)
を招き、HFIPの収率が低下する。水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどの該水溶液がアルカリ性を
呈する物質が同様の目的のために用いられ得る
が、水酸化ナトリウムが最も取扱いやすく効果も
著しい。 これら各々独立した目的を持つ添加剤は単独で
用いても良いが、併用することによつてもそれぞ
れの効果は互いに影響を受けることなく各々の効
果を現わす。 本発明により製造されたHFIPは水および場合
によつては未反応HFAW、またある場合には副
生成物との混合物であるが、この粗HFIPは通常
の常圧蒸留により収率よく分別精製される。蒸留
により精製されたHFIPは実質的には純粋(純度
99.99%以上)なものである。 本発明において、反応に関る容器等の材質は特
に限定されず、硝子、ガラスライニング、テフロ
ンライニング、ステンレス鋼などが好適なものと
して挙げられる。 以下実施例を挙げ更に詳細に本発明を説明する
が、これらは本発明を限定するものではない。 比較例 1 撹拌装置を備えた1SUS−304製オートクレ
ーブに800g(3.63モル)の
【式】を入れ、5%パ ラジウム−炭素触媒(含水品)を1.0重量%(乾
燥ベース)添加した。容器内を水素で置換し、油
浴にて100℃に昇温した。水素圧を4.5Kg/cm2に保
ち撹拌を始めると急激な水素の吸収が始まつた。
4.5時間後に加熱撹拌を止め一夜放置した。
HFAWの反応率は98%HFIPの選択率は100%で
あつた。反応器底部に触媒および200gの反応物
を残し、600gの反応物を上澄で得た。反応物に
は150ppmのFイオンが検出された。この反応器
に新たに800g(3.63モル)のHFAWと0.1重量パ
ーセントの触媒を添加し、再び同様に水素化分解
をおこなつたところ6.0時間にHFAWの反応率97
%、HFIPの選択率100%となり触媒の再使用が
可能であることが分かつた。 実施例 1 0.5重量パーセントの水酸化アルミを添加した
他は比較例と同様に反応した。6時間後に
HFAWの反応率99.3%に達した。HFIPの選択率
は100%でFイオン濃度は10ppmであつた。 実施例 2 0.3重量パーセントの水酸化ナトリウムを添加
した他は比較例と同様に反応した。4.5時間後に
HFAWの反応率は98%に達した。HFIPの選択率
は99.2%で、0.8%の副生成物(bp76℃)があつ
た。実施例1と同様にして触媒の連続再使用をお
こなつたところ5回目の反応時でも触媒は充分な
活性を示した(8時間後にHFAWの反応率96%
の選択率99.5%)。いずれの場合もFイオン濃度
は500〜2000ppmであつた。ここで得られた粗
HFIPを蒸留することにより、99.99.%以上の精
製されたHFIPが得られた。 実施例 3 100のsus−316製反応器にHFAW〔(CF3CO
H OH・2H2O、d≒1.59〕99Kg(0.45モル)、水酸
化ナトリウム126g(0.13重量パーセント)、水酸
化アルミニウム495g(0.5重量パーセント)の混
合物を入れ、5パーセントパラジウム炭素含水品
906g(乾燥ベース495g0.5重量パーセント)を
添加した後、反応器内を水素で置換した。温度を
70℃にした後、撹拌を開始した水素を導入した
(水素圧は当初2.0Kg/cm2G)。反応は非常に速や
かに進行し、反応温度は80℃まで自己発熱により
昇温した。4時間経過した時点でHFAWの反応
率は80%となり、水素の時間当りの消費量が低下
して来た時点で水素圧を4.5Kg/cm2Gに上げた。
6時間経過した時点で撹拌および水素の供給を止
め、一夜放置した。HFAWの反応率99.1%、
HFIPの選択率99.7%、Fイオン濃度は10ppmで
あつた。水素の有効使用率は99%であつた。 実施例 4 触媒をラネーニツケル(含水)190gに代え、
また添加剤として0.5重量%の水酸化アルミを加
えた以外は比較例と全く同様の条件下反応をおこ
なつた。9時間後HFAWの反応率は68.5%で選
択率は100%であつた。また、Fイオン濃度は
10ppmであつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ヘキサフルオロアセトン水和物を触媒および
    水酸化アルミ、水酸化ナトリウムのうちから選ば
    れる少なくとも1種の添加剤の存在下、液相にて
    水素化分解せしめることを特徴とする1、1、
    1、3、3、3−ヘキサフルオロプロパン−2−
    オールの製造法。
JP58177017A 1983-09-27 1983-09-27 1.1.1.3.3.3−ヘキサフルオロプロパン−2−オ−ルの製造法 Granted JPS6069047A (ja)

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