JPH04102315A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH04102315A JPH04102315A JP22028390A JP22028390A JPH04102315A JP H04102315 A JPH04102315 A JP H04102315A JP 22028390 A JP22028390 A JP 22028390A JP 22028390 A JP22028390 A JP 22028390A JP H04102315 A JPH04102315 A JP H04102315A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- center
- furnace core
- thermocouple
- rear side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置に間し、特に横型炉芯管の上部
および下部の温度を別々にコントロールできる電気ヒー
ターをもつ半導体製造装置に関する。
および下部の温度を別々にコントロールできる電気ヒー
ターをもつ半導体製造装置に関する。
従来、この種の半導体製造装置は、第3図の斜視図に示
すように、炉芯管1のまわりにSiC製の均熱管2を介
して渦巻き状の電気ヒーター3を有している。電気ヒー
ター3は、炉芯管のフロント側、センター、リヤ側の3
ゾーンに分けられ、それぞれ別々に出力電源へ接続され
ている。又、炉内温度は、フロント側、センター、リヤ
側の3ゾーンをそれぞれフロント側およびリヤ側温度コ
ントロール用熱電対8とセンター温度コントロール用熱
電対9によりコントロールし、炉芯管1の内部では、上
層の高温域と下層の低温域の2つの温度域が存在してい
る。
すように、炉芯管1のまわりにSiC製の均熱管2を介
して渦巻き状の電気ヒーター3を有している。電気ヒー
ター3は、炉芯管のフロント側、センター、リヤ側の3
ゾーンに分けられ、それぞれ別々に出力電源へ接続され
ている。又、炉内温度は、フロント側、センター、リヤ
側の3ゾーンをそれぞれフロント側およびリヤ側温度コ
ントロール用熱電対8とセンター温度コントロール用熱
電対9によりコントロールし、炉芯管1の内部では、上
層の高温域と下層の低温域の2つの温度域が存在してい
る。
上述した従来の半導体製造装置は5炉芯管を渦巻き状に
巻いた電気ヒーターを有しているので、炉芯管内部の上
層域と下層域とで温度分布が均一とならない。この様な
事がら、炉芯管内におけるウェハー面内での熱処理にば
らつきが発生するという欠点がある。
巻いた電気ヒーターを有しているので、炉芯管内部の上
層域と下層域とで温度分布が均一とならない。この様な
事がら、炉芯管内におけるウェハー面内での熱処理にば
らつきが発生するという欠点がある。
本発明の半導体製造装置は、炉芯管のフロント側、セン
ター側、リヤ側のそれぞれの上部及び下部の温度をコン
トロールする熱電対と、前記炉芯管の各部を炉芯管の長
手方向に沿って往復して走り、かつそれぞれが前記熱電
対によって出力を可変する電気ヒーターとを備えている
。
ター側、リヤ側のそれぞれの上部及び下部の温度をコン
トロールする熱電対と、前記炉芯管の各部を炉芯管の長
手方向に沿って往復して走り、かつそれぞれが前記熱電
対によって出力を可変する電気ヒーターとを備えている
。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の斜視図である。第2図は本
発明の一実施例の部分拡大断面図である。
発明の一実施例の部分拡大断面図である。
この実施例の半導体製造装置は、炉芯管1内の温度をコ
ントロールする際、第1図に示すように、フロント側上
部、フロント側下部、センター上部、センター下部、リ
ヤ側上部、リヤ側下部の6個所に分離された各電気ヒー
ター3の異なった出力で、炉内の温度をコントロールす
る。各電気ヒーター3は、6個所に分離された各領域内
を、炉芯管1の長手方向に沿って往復させて走らせ、ま
た個々に出力電源に接続されている。
ントロールする際、第1図に示すように、フロント側上
部、フロント側下部、センター上部、センター下部、リ
ヤ側上部、リヤ側下部の6個所に分離された各電気ヒー
ター3の異なった出力で、炉内の温度をコントロールす
る。各電気ヒーター3は、6個所に分離された各領域内
を、炉芯管1の長手方向に沿って往復させて走らせ、ま
た個々に出力電源に接続されている。
炉内温度分布を感知する熱電対は、上記の様に分離され
た電気ヒーターの各位置に設置されている。その構造は
、第2図のように、炉芯管上部のフロント側およびリヤ
側温度コントロール用熱電対4と炉芯管上部のセンター
温度コントロール用熱電対5を炉芯管1の上部側に、ま
た炉芯管下部のフロント側およびリヤ側温度コントロー
ル用熱電対6と炉芯管下部のセンター温度コントロール
用熱電対7を炉芯管1の下部側各領域に設置した構造と
なっている。
た電気ヒーターの各位置に設置されている。その構造は
、第2図のように、炉芯管上部のフロント側およびリヤ
側温度コントロール用熱電対4と炉芯管上部のセンター
温度コントロール用熱電対5を炉芯管1の上部側に、ま
た炉芯管下部のフロント側およびリヤ側温度コントロー
ル用熱電対6と炉芯管下部のセンター温度コントロール
用熱電対7を炉芯管1の下部側各領域に設置した構造と
なっている。
以上の様にして、炉芯管内部の上部および下部における
温度分布を均一にコントロールする。
温度分布を均一にコントロールする。
以上説明した様に本発明は、炉芯管の回りにある電気ヒ
ーターを従来の渦巻き状から横方向に往復させて走らせ
、炉芯管の上部および下部の温度を管理することにより
、炉芯管内の上層域と下層域における温度分布が均一に
なり、ウェハー面内の熱処理のばらつきか解消され、半
導体装置の品質向上に効果がある。
ーターを従来の渦巻き状から横方向に往復させて走らせ
、炉芯管の上部および下部の温度を管理することにより
、炉芯管内の上層域と下層域における温度分布が均一に
なり、ウェハー面内の熱処理のばらつきか解消され、半
導体装置の品質向上に効果がある。
第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図は本発明の
一実施例の部分拡大断面図、第3図は従来の拡散炉の斜
視図である。 1・・・炉芯管、2・・・均熱管、3・・・電気ヒータ
ー4・・・炉芯管上部のフロント側およびリヤ側温度コ
ントロール用熱電対、5・・・炉芯管上部のセンター温
度コントロール用熱電対、6・・・炉芯管下部のフロン
ト側およびリヤ側温度コントロール用熱電対、7・・・
炉芯管下部のセンター温度コントロール用熱電対、8・
炉芯管のフロント側およびリヤ側温度コントロール用熱
電対、9・・・炉芯管のセンター温度コントロール用熱
電対。 男1図
一実施例の部分拡大断面図、第3図は従来の拡散炉の斜
視図である。 1・・・炉芯管、2・・・均熱管、3・・・電気ヒータ
ー4・・・炉芯管上部のフロント側およびリヤ側温度コ
ントロール用熱電対、5・・・炉芯管上部のセンター温
度コントロール用熱電対、6・・・炉芯管下部のフロン
ト側およびリヤ側温度コントロール用熱電対、7・・・
炉芯管下部のセンター温度コントロール用熱電対、8・
炉芯管のフロント側およびリヤ側温度コントロール用熱
電対、9・・・炉芯管のセンター温度コントロール用熱
電対。 男1図
Claims (1)
- 炉芯管のまわりに電気ヒーターを有する円筒横型炉芯管
を備えた半導体製造装置において、電気ヒーターを炉芯
管のフロント側上部、フロント側下部、センター上部、
センター下部、リヤ側上部、リヤ側下部の各部に分離し
て設置し、それぞれの電気ヒーターは、前記各部毎に炉
芯管の長手方向に沿って往復して走り、かつ各部毎に温
度コントロール用の熱電対を備えたことを特徴とする半
導体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22028390A JPH04102315A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22028390A JPH04102315A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04102315A true JPH04102315A (ja) | 1992-04-03 |
Family
ID=16748746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22028390A Pending JPH04102315A (ja) | 1990-08-22 | 1990-08-22 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04102315A (ja) |
-
1990
- 1990-08-22 JP JP22028390A patent/JPH04102315A/ja active Pending
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