JPH039582A - 横方向放電励起パルスレーザー発振装置 - Google Patents
横方向放電励起パルスレーザー発振装置Info
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- JPH039582A JPH039582A JP14604189A JP14604189A JPH039582A JP H039582 A JPH039582 A JP H039582A JP 14604189 A JP14604189 A JP 14604189A JP 14604189 A JP14604189 A JP 14604189A JP H039582 A JPH039582 A JP H039582A
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- NMFHJNAPXOMSRX-PUPDPRJKSA-N [(1r)-3-(3,4-dimethoxyphenyl)-1-[3-(2-morpholin-4-ylethoxy)phenyl]propyl] (2s)-1-[(2s)-2-(3,4,5-trimethoxyphenyl)butanoyl]piperidine-2-carboxylate Chemical compound C([C@@H](OC(=O)[C@@H]1CCCCN1C(=O)[C@@H](CC)C=1C=C(OC)C(OC)=C(OC)C=1)C=1C=C(OCCN2CCOCC2)C=CC=1)CC1=CC=C(OC)C(OC)=C1 NMFHJNAPXOMSRX-PUPDPRJKSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は横方向放電励起パルスレーザ−装置、例えば
Ｆ２等電子付着性ガスを含むエキシマレーザ−に関する
ものである。
Ｆ２等電子付着性ガスを含むエキシマレーザ−に関する
ものである。
第３図は例えば文献Ｊ、 Ａｐｐｌ、 ＰｈｙＳ、 ５
６ （１１）。
６ （１１）。
ＩＤａｃθｍｂｅｒ １９８４に示された従来の放電励
起レーザー発振装置を示す断面図であり、図において、
ｆｌ）、 ＋２）は元軸方向に平行に配置され向かい合
った一対の主電極でその間で玉数電翰を行なう。（３）
は前記主電極間に玉数ａを発生させるためｆこ必要な予
備ＩＥ離を行なうための予備電離発生部で、（４）は中
空のＲ電体パイプ、（５）は誘電体パイプ（４）の中窒
部に挿入された補助電極、（８）は誘電体パイプ（４）
の表面１ことつつけられた主電極（２）と同電位の導体
線であり、誘電体パイプ（４）と補助ａ極（５）と１体
線（８）により予備電離発生部（３）が構成されている
。この従来例においては、予備電離発生部（３）は王ａ
極（１）。
起レーザー発振装置を示す断面図であり、図において、
ｆｌ）、 ＋２）は元軸方向に平行に配置され向かい合
った一対の主電極でその間で玉数電翰を行なう。（３）
は前記主電極間に玉数ａを発生させるためｆこ必要な予
備ＩＥ離を行なうための予備電離発生部で、（４）は中
空のＲ電体パイプ、（５）は誘電体パイプ（４）の中窒
部に挿入された補助電極、（８）は誘電体パイプ（４）
の表面１ことつつけられた主電極（２）と同電位の導体
線であり、誘電体パイプ（４）と補助ａ極（５）と１体
線（８）により予備電離発生部（３）が構成されている
。この従来例においては、予備電離発生部（３）は王ａ
極（１）。
（２）の両側に設けられでいる。
第４図は同じく文献Ｊ、Ａｐρ１． Ｐｈ）’ｓ、 ５
６ （１１１゜Ｉ Ｄｅｃｅｍｂｅｒ １９８４に示さ
れた従来の放電励起レーザー発振装置を示す断面図であ
り、第３図と異なり、予備！離発生部（３）を主電極（
２）のごく近傍に置くこと（こより、第３図の１体線（
８）を省略している。
６ （１１１゜Ｉ Ｄｅｃｅｍｂｅｒ １９８４に示さ
れた従来の放電励起レーザー発振装置を示す断面図であ
り、第３図と異なり、予備！離発生部（３）を主電極（
２）のごく近傍に置くこと（こより、第３図の１体線（
８）を省略している。
第５図は例えば文献［三菱電機技報・Ｖｏｌ、６１・Ｎ
ｏ、９・１９ｇ７ Ｊの第４６頁〜第４９頁に示された
従来の放電励起レーザー発振装置を示す断面図であり、
図において、（１１，＜２１は向かい合った一対の王を
極、（３）は主電極（１）、 ＋２）関ｌこ主放電を発
生させるために必要な予備電離を行なうための予備電離
発生部で、（９ａ）、 （９ｂ）は光軸方向に沿って等
間隔に配置されたスパークビンｖＩＬ極である。
ｏ、９・１９ｇ７ Ｊの第４６頁〜第４９頁に示された
従来の放電励起レーザー発振装置を示す断面図であり、
図において、（１１，＜２１は向かい合った一対の王を
極、（３）は主電極（１）、 ＋２）関ｌこ主放電を発
生させるために必要な予備電離を行なうための予備電離
発生部で、（９ａ）、 （９ｂ）は光軸方向に沿って等
間隔に配置されたスパークビンｖＩＬ極である。
次に動作について説明する。第３図において補助ｔ ｆ
ｆｉ ＋５）と導体線（８）との間ｌこ電圧を印加する
ことにより、誘電体パイプ（４）の表面に３いて導体線
（８）との接触部でコロナ放電α〃を起こす。それによ
つＣ圧電層（１）、（２）の関Ｉこ紫外光を照射し、予
備電離電子を生成する。次に圧電［（１）、 １２）間
で絶縁破壊を起こし玉数ＩＥ（ｌＩを開始する。
ｆｉ ＋５）と導体線（８）との間ｌこ電圧を印加する
ことにより、誘電体パイプ（４）の表面に３いて導体線
（８）との接触部でコロナ放電α〃を起こす。それによ
つＣ圧電層（１）、（２）の関Ｉこ紫外光を照射し、予
備電離電子を生成する。次に圧電［（１）、 １２）間
で絶縁破壊を起こし玉数ＩＥ（ｌＩを開始する。
第４図では補助電極（５）と圧電層（２）との間に電圧
を印加することにより、誘電体パイプ（４）の表面にお
いて主電極（２）との接触部でコロナ７＆ｔＯυを起こ
し、紫外線の発生源となる０この紫外線によって王を極
ｆｌ＋、 ＋２）の間を照射し、予備電離電子を生成す
る。次に王＠：ＦＭ（１）、 （２１間で絶縁破壊を起
こし主放電（１０を開始する。
を印加することにより、誘電体パイプ（４）の表面にお
いて主電極（２）との接触部でコロナ７＆ｔＯυを起こ
し、紫外線の発生源となる０この紫外線によって王を極
ｆｌ＋、 ＋２）の間を照射し、予備電離電子を生成す
る。次に王＠：ＦＭ（１）、 （２１間で絶縁破壊を起
こし主放電（１０を開始する。
第５図ではスパークビ／電極（９ａ）、 （９ｂ）間Ｉ
こ電圧を印加することｔこよりアーク放電＠が発生する
０それによって王ｔｌｉ（１）、 ＋２）の間に紫外光
を照射し、予備電離電子を生成する。次に主電極（１）
。（２）間で絶縁破壊を起こし主放電αＱ８開始する。
こ電圧を印加することｔこよりアーク放電＠が発生する
０それによって王ｔｌｉ（１）、 ＋２）の間に紫外光
を照射し、予備電離電子を生成する。次に主電極（１）
。（２）間で絶縁破壊を起こし主放電αＱ８開始する。
〔発明が解決しようとする１１題〕
従来の放電励起Ｖ−ザー発撮装置では以上のように構成
されているので、以下の様な問題点があった０ 第３図の装置では、王として寄与するコロナ放！（ロ）
が誘電体パイプ（４）の表面において導体線（８）との
接触部で発生するため紫外線の発生量が少なく、また透
体Ｒ（８）とは電位の異なる王を極（１）との絶縁を保
つ程度に予備電離発生部（３）を主放電（１１の部分か
ら離す必要があるので、紫外線の主放電（１１部分への
到達量が少なくなる０特ｒこ電子付着性のガス、例えば
Ｆ２ガス等を含有するＫｒＦ 、 ＡｒＦエキシマレー
ザ−の場合には、電界集中によりアーク放電が発生しや
すいので、１体編（８）を主電極（１）から充分（こ離
す必要があり、そのため紫外縁が玉数１１７ＱＩの領域
ｔこ到達する量が少なくなり、充分かつ均一な予備電離
電子Ｖ！５度を達成できない。
されているので、以下の様な問題点があった０ 第３図の装置では、王として寄与するコロナ放！（ロ）
が誘電体パイプ（４）の表面において導体線（８）との
接触部で発生するため紫外線の発生量が少なく、また透
体Ｒ（８）とは電位の異なる王を極（１）との絶縁を保
つ程度に予備電離発生部（３）を主放電（１１の部分か
ら離す必要があるので、紫外線の主放電（１１部分への
到達量が少なくなる０特ｒこ電子付着性のガス、例えば
Ｆ２ガス等を含有するＫｒＦ 、 ＡｒＦエキシマレー
ザ−の場合には、電界集中によりアーク放電が発生しや
すいので、１体編（８）を主電極（１）から充分（こ離
す必要があり、そのため紫外縁が玉数１１７ＱＩの領域
ｔこ到達する量が少なくなり、充分かつ均一な予備電離
電子Ｖ！５度を達成できない。
第４図の装置では、王として寄与するコロナ放ＫＱυが
主電極（２）と誘電体パイプ（４）との接触部のみで発
生ずるため、全般的に紫外線の照射量が少なく、また照
射方向が王に主電極（１）の方向に限定されるため王［
ｆｆｌ ｔ２１近傍の主放電空間では紫外級量が足りず
、を極対方向において一様均一な予備電離が達成できな
い。
主電極（２）と誘電体パイプ（４）との接触部のみで発
生ずるため、全般的に紫外線の照射量が少なく、また照
射方向が王に主電極（１）の方向に限定されるため王［
ｆｆｌ ｔ２１近傍の主放電空間では紫外級量が足りず
、を極対方向において一様均一な予備電離が達成できな
い。
第５図の装置テｔｔ、スパークビンｗＬ極（９ａ） 、
（９ｂ）間でアーク放電０３を起すため、コロナ放電
を用いた予備電離方式に比べＶ−ザーガスを汚すという
問題点があった。さらにスパークビンは一定間隔ごとに
距離をおいて配置されているため、レーザーの光軸方向
に関して紫外線照射量が均一でなくなり、従って予備電
離が均一でないなどの問題点があった。
（９ｂ）間でアーク放電０３を起すため、コロナ放電
を用いた予備電離方式に比べＶ−ザーガスを汚すという
問題点があった。さらにスパークビンは一定間隔ごとに
距離をおいて配置されているため、レーザーの光軸方向
に関して紫外線照射量が均一でなくなり、従って予備電
離が均一でないなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、紫外縁の照射ｔを増して均−ｔこし、充分で
均一な予備！＃電子密度を得ることにより、−層均一な
放電を達成できる横方向７＆電励起Ｖ−ザー発振装置を
得ることを目的とする。
たもので、紫外縁の照射ｔを増して均−ｔこし、充分で
均一な予備！＃電子密度を得ることにより、−層均一な
放電を達成できる横方向７＆電励起Ｖ−ザー発振装置を
得ることを目的とする。
この発明に係わる横方向放電励起パルスレーザー発掘装
置は、片側の主電極（２）の横方向近傍ｆｃ誘電体パイ
プ（４）を配置し、第３図１体線（８）に換えてシール
ド状ＩＥ極（６）を、対向する王ｔＷ（１）に対して王
７電極（１）、 ＋２）のギャップ間よりも距離をとる
ように配置し、主電極（１）に対して電界を緩和する形
状にした緩和部（力を形成しさらに誘電体パイプ（４）
と主電極（２）との接触または近接端部が主電極（１）
の凸部頂上部分を見通せる配ａｔこあり、誘電体パイプ
（４）とシールド状電極（６）との接触または近接端部
が王ｔ ｌ’Ｍ １２１の凸部頂上部分を見通せる配置
Ｃζある構成で投置するものである。以上の配Ｉｔはす
べて光軸方向平行である。
置は、片側の主電極（２）の横方向近傍ｆｃ誘電体パイ
プ（４）を配置し、第３図１体線（８）に換えてシール
ド状ＩＥ極（６）を、対向する王ｔＷ（１）に対して王
７電極（１）、 ＋２）のギャップ間よりも距離をとる
ように配置し、主電極（１）に対して電界を緩和する形
状にした緩和部（力を形成しさらに誘電体パイプ（４）
と主電極（２）との接触または近接端部が主電極（１）
の凸部頂上部分を見通せる配ａｔこあり、誘電体パイプ
（４）とシールド状電極（６）との接触または近接端部
が王ｔ ｌ’Ｍ １２１の凸部頂上部分を見通せる配置
Ｃζある構成で投置するものである。以上の配Ｉｔはす
べて光軸方向平行である。
この発明における横方向放電励起パルスレーザ−発振装
置は、誘電体パイプ（４）及びシールド状電Ｆ１（６）
の配置により、誘電体パイプ（４）とシールド状［ｆｆ
ｌ ＋６）との間でコロナ放電（１１ａ）が発生するほ
か、誘電体バイブ（４）と圧電厘（２）との間でもコロ
ナ放電（ｌ１ｆｉ）が発生する。このため紫外線を発生
するコロナ放電部は２カ所となり紫外線の照射量が増え
る。
置は、誘電体パイプ（４）及びシールド状電Ｆ１（６）
の配置により、誘電体パイプ（４）とシールド状［ｆｆ
ｌ ＋６）との間でコロナ放電（１１ａ）が発生するほ
か、誘電体バイブ（４）と圧電厘（２）との間でもコロ
ナ放電（ｌ１ｆｉ）が発生する。このため紫外線を発生
するコロナ放電部は２カ所となり紫外線の照射量が増え
る。
また、従来例第４図では、電極の影になって紫外縁の照
射されなり）つた主電極（２）の凸部頂上付近をコロナ
放電（ｌｌａ）により照射するようにしたので、玉数ｔ
（ＩＧの９間の全体ｔこ紫外縁を照射する事ができる。
射されなり）つた主電極（２）の凸部頂上付近をコロナ
放電（ｌｌａ）により照射するようにしたので、玉数ｔ
（ＩＧの９間の全体ｔこ紫外縁を照射する事ができる。
またシールド状ｉｔ極（６）は゛（界を緩和する緩和部
（力が形成されているため、予備電離発生部（３）は玉
数ｔα１の空間のごく近傍に配置でき、放電空間への紫
外線照射量が増え、予備電離ｔをより増すことができる
。
（力が形成されているため、予備電離発生部（３）は玉
数ｔα１の空間のごく近傍に配置でき、放電空間への紫
外線照射量が増え、予備電離ｔをより増すことができる
。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（４）は片側の王を極（２）の両横近傍に
配置された誘電体パイプで、この実施例ではアルイナセ
ラミックスより成る。（６ンは誘電体パイプ（４）と一
部接触するように配置されたシールド１電極で、対向す
る主ｆｉ 極（１）と相対したシールド電画の緩和部（
７）は王を極（１）との間で１＆電が発生しないように
電界強度を緩和する形状と八っている。
図において、（４）は片側の王を極（２）の両横近傍に
配置された誘電体パイプで、この実施例ではアルイナセ
ラミックスより成る。（６ンは誘電体パイプ（４）と一
部接触するように配置されたシールド１電極で、対向す
る主ｆｉ 極（１）と相対したシールド電画の緩和部（
７）は王を極（１）との間で１＆電が発生しないように
電界強度を緩和する形状と八っている。
例えば、エキシマレーザ−の場合、主ｔｔｉ（１）、
１２）の最小ギャップ長をｄｆｉとすると、シールド電
画（６）の緩和部（７）の曲率半径Ｒ＞ ２ ｍの場合
、主電極（１）とシールドｔ ｆｆｌ （６）との間の
最小ギャップ長を（ｔ、１５Ｘｄ）ｗまで短くなるよう
にシールド電極（６）を主を極（２）に近づけて配置で
きる。（ｌｌａ）はシールド電極（６）と誘電体バイブ
（４）の間で発生するコロナ７＆電、（■ｂ）は誘電体
バイブ（４）と主室ｆｆｌ ＋２３との間で発生するコ
ロナ放電である。この実施例では、シールドを極（６）
の誘電体パイプ（４）と接する部分は、図示するようＧ
こ王を極（２）よりも主電極（１）の対向方向に距離り
だけ主室ｆｆｌ （１）と近づけることにより。
１２）の最小ギャップ長をｄｆｉとすると、シールド電
画（６）の緩和部（７）の曲率半径Ｒ＞ ２ ｍの場合
、主電極（１）とシールドｔ ｆｆｌ （６）との間の
最小ギャップ長を（ｔ、１５Ｘｄ）ｗまで短くなるよう
にシールド電極（６）を主を極（２）に近づけて配置で
きる。（ｌｌａ）はシールド電極（６）と誘電体バイブ
（４）の間で発生するコロナ７＆電、（■ｂ）は誘電体
バイブ（４）と主室ｆｆｌ ＋２３との間で発生するコ
ロナ放電である。この実施例では、シールドを極（６）
の誘電体パイプ（４）と接する部分は、図示するようＧ
こ王を極（２）よりも主電極（１）の対向方向に距離り
だけ主室ｆｆｌ （１）と近づけることにより。
主電極（２）の凸部頂上部分を見通せる位置へ、また主
１ｔ％（２）の誘電体パイプ（４）と接する部分は、主
電極（Ｌ）の凸部頂上部分を見通せる位置への配置を実
現している。
１ｔ％（２）の誘電体パイプ（４）と接する部分は、主
電極（Ｌ）の凸部頂上部分を見通せる位置への配置を実
現している。
例えば主［極（１）と補助ｖＬ極（５）とを同電位とし
、主電極（２）とシールド電極（６）とを接地電位とし
、主電画（１）と王を極（２）の間に電圧を印加すると
、誘電体パイプ（４）とシールドｔ ｆｆｉ （６）、
主を極（２）の接触部端の２個所でコロナ放ｔ （Ｉｌ
ａ）、 （ｌｌｂ＞を発生する０印加電圧によっては、
前記２個所のコロナ放電部（ｌｌａ）、 ｍｂ）にはさ
まれたａｔ体バパイ（４）の外周部領域条こまで広がっ
てコロナ放電を発生する。誘電体パイプ（４）とシール
ド電極（６）との間で発生するコロナ７＆電（ｌｌａ）
は、主に主電極（２）側に紫外光を照射し、誘電体バイ
ブ（４）と主１Ｍ、ｉ １２）との間のコロナ放ｚ （
ｔｘｂ）は、王に主電画（１）側に紫外光を照射する０
７一ルドｗＬ極（６）の誘電体バイブ（４）と接する部
分は主電極（２）より対向方向に距離ｈ（例えばｈ＝０
．５〜２■）だけ主を榔（１１（ＩＩに位置し、主室Ｆ
ｉｉ１２１の凸部頂上部分を見通せる配置となっている
ので、コロナ７＆［（Ｉｌａ）より発する紫外光は主を
極（２）の凸部頂上近傍も照射することができる。
、主電極（２）とシールド電極（６）とを接地電位とし
、主電画（１）と王を極（２）の間に電圧を印加すると
、誘電体パイプ（４）とシールドｔ ｆｆｉ （６）、
主を極（２）の接触部端の２個所でコロナ放ｔ （Ｉｌ
ａ）、 （ｌｌｂ＞を発生する０印加電圧によっては、
前記２個所のコロナ放電部（ｌｌａ）、 ｍｂ）にはさ
まれたａｔ体バパイ（４）の外周部領域条こまで広がっ
てコロナ放電を発生する。誘電体パイプ（４）とシール
ド電極（６）との間で発生するコロナ７＆電（ｌｌａ）
は、主に主電極（２）側に紫外光を照射し、誘電体バイ
ブ（４）と主１Ｍ、ｉ １２）との間のコロナ放ｚ （
ｔｘｂ）は、王に主電画（１）側に紫外光を照射する０
７一ルドｗＬ極（６）の誘電体バイブ（４）と接する部
分は主電極（２）より対向方向に距離ｈ（例えばｈ＝０
．５〜２■）だけ主を榔（１１（ＩＩに位置し、主室Ｆ
ｉｉ１２１の凸部頂上部分を見通せる配置となっている
ので、コロナ７＆［（Ｉｌａ）より発する紫外光は主を
極（２）の凸部頂上近傍も照射することができる。
その結果、主板を空間全体は均一に予備電離され、その
後、主板１ｉｔ（ＩＩの空間で均一な主放電が開始する
。この時、シールド電極（６）と主ＩＥ ［＋１）との
間の距離を主電画（１１，＋２１の間の距離より大きく
とり且つ、電界強度を緩和する緩和部（７）を設けてい
るため、シールド［極［６）と主［１ｍ ｍとの間の距
離が比較的近いにも拘らず放電は発生しない。
後、主板１ｉｔ（ＩＩの空間で均一な主放電が開始する
。この時、シールド電極（６）と主ＩＥ ［＋１）との
間の距離を主電画（１１，＋２１の間の距離より大きく
とり且つ、電界強度を緩和する緩和部（７）を設けてい
るため、シールド［極［６）と主［１ｍ ｍとの間の距
離が比較的近いにも拘らず放電は発生しない。
第１図の構成でＫｒＦエキシマレーザ−を発振させると
均一なレーザービームを得ることができたつ従来例の第
４図の構成では主電極（２）の近傍ではレーザービーム
強度が弱かったのが、この発明の構成では改善され、レ
ーザー発成効率も向上した。
均一なレーザービームを得ることができたつ従来例の第
４図の構成では主電極（２）の近傍ではレーザービーム
強度が弱かったのが、この発明の構成では改善され、レ
ーザー発成効率も向上した。
な３、上ｇｅ実施例では主を憧（１）と補助電極（５）
を同電位としたが１文献Ｔａ １１ｒｎａｎ、 Ｃ，Ｒ
，、’ Ａ Ｒｔｕｄ）’ｏｆ ｊ＋ｒｘｃｉｍｅｒ
Ｌａ５ｅｒ ｔ’ｒｅｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ ｔｅｃｈ
ｎｉｑｕｅｓ ’Ｔｏｐ Ｍｅｅｔ Ｗｘｃｉｍｅｒ
Ｌａ５ｅｒｓ、 ＷＢ４． ｔ 〜ＷＢ４． ：４゜１
９７９にも示されているように補助電極（５）の電圧の
立ち上がり速度を上げることにより予備電離電子数が多
くなるので、回路上の工夫により主ｉＥ甑ｒｌ）と補助
［ＦＭ（５）を切り離して、補助を層（５）の電圧立ち
上がり速度を速くすると更に予備電離の効果が上がる。
を同電位としたが１文献Ｔａ １１ｒｎａｎ、 Ｃ，Ｒ
，、’ Ａ Ｒｔｕｄ）’ｏｆ ｊ＋ｒｘｃｉｍｅｒ
Ｌａ５ｅｒ ｔ’ｒｅｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ ｔｅｃｈ
ｎｉｑｕｅｓ ’Ｔｏｐ Ｍｅｅｔ Ｗｘｃｉｍｅｒ
Ｌａ５ｅｒｓ、 ＷＢ４． ｔ 〜ＷＢ４． ：４゜１
９７９にも示されているように補助電極（５）の電圧の
立ち上がり速度を上げることにより予備電離電子数が多
くなるので、回路上の工夫により主ｉＥ甑ｒｌ）と補助
［ＦＭ（５）を切り離して、補助を層（５）の電圧立ち
上がり速度を速くすると更に予備電離の効果が上がる。
第２図において方向記号（至）はガス流の進行方向を表
わすが、上記実施例において第２図の様に、シールド電
極（６ａ）をガスダクトを兼ねる形状とする事（こより
、電極部でのガス流れを均一化でき高繰り返しＶ−ザー
発振に適する。
わすが、上記実施例において第２図の様に、シールド電
極（６ａ）をガスダクトを兼ねる形状とする事（こより
、電極部でのガス流れを均一化でき高繰り返しＶ−ザー
発振に適する。
また、上記実施例において主を極（２）、シールドＩＩ
ｆｆｌ ＋６）を接地する必要はない。例えば、逆に
主電極（１）を接地しても同様の効果が得られる。
ｆｆｌ ＋６）を接地する必要はない。例えば、逆に
主電極（１）を接地しても同様の効果が得られる。
また、上記実施例において主電極（２）と誘電体パイプ
（４）との接触部およびシールド電極（６）の誘電体パ
イプ（４）との接触部は必ずしも接触する必要はなく近
接してギヤングを設けることによ′つても同様の効果が
得られる。
（４）との接触部およびシールド電極（６）の誘電体パ
イプ（４）との接触部は必ずしも接触する必要はなく近
接してギヤングを設けることによ′つても同様の効果が
得られる。
「発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば主なコロナ放電部を２個
所となるよう構成し、予備電離を増やせる構成としたの
で、安定な王７＆電が得られレーザ発振効率を高く「る
ことができる。
所となるよう構成し、予備電離を増やせる構成としたの
で、安定な王７＆電が得られレーザ発振効率を高く「る
ことができる。
第１図はこの発明の一実施例Ｉこよる横方向放電励起パ
ルスレーザ−装置を示す断面図、第２図はこの発明の他
の実施例を示す断面図、第３図、第４図及び第５図は従
来の横方向放電励起パルスレーザ−を示す断面図である
。 図に８いて、（１１，（２）は主電極、（４）は中空の
誘電体パイプ、（５）は補助を顆、（６）はシールド電
極である。 なお、図中、同一符号は同一、才たは相当部分を示す。
ルスレーザ−装置を示す断面図、第２図はこの発明の他
の実施例を示す断面図、第３図、第４図及び第５図は従
来の横方向放電励起パルスレーザ−を示す断面図である
。 図に８いて、（１１，（２）は主電極、（４）は中空の
誘電体パイプ、（５）は補助を顆、（６）はシールド電
極である。 なお、図中、同一符号は同一、才たは相当部分を示す。
Claims (1)
- （１）光軸方向に凸部が所定の長さ対向するように配置
された第１及び第２の主電極、この第１の電極の両端に
上記第２の電極の凸部頂上部を見通す位置に上記光軸と
平行に上記第１の電極と接触または近接した第１の対向
部を形成するように配置された中空状の一対の誘電体パ
イプ、この各誘電体パイプの内部に配置された一対の補
助電極、上記第１の電極の凸部頂上部を見通す位置に上
記誘電体パイプと接触または近接した第２の対向部が上
記光軸と平行に所定の長さ形成されるように配置された
一対のシールド電極を備えた横方向放電励起パルスレー
ザー発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14604189A JP2794792B2 (ja) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | 横方向放電励起パルスレーザー発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14604189A JP2794792B2 (ja) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | 横方向放電励起パルスレーザー発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH039582A true JPH039582A (ja) | 1991-01-17 |
| JP2794792B2 JP2794792B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=15398769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14604189A Expired - Lifetime JP2794792B2 (ja) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | 横方向放電励起パルスレーザー発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2794792B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994009536A1 (en) * | 1992-10-09 | 1994-04-28 | Cymer Laser Technologies | Pre-ionizer for a laser |
| US6456643B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-09-24 | Lambda Physik Ag | Surface preionization for gas lasers |
| US6546036B1 (en) | 1999-06-08 | 2003-04-08 | Lambda Physik Ag | Roof configuration for laser discharge electrodes |
| US6570901B2 (en) | 2000-02-24 | 2003-05-27 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes |
| US6618422B2 (en) | 1999-02-10 | 2003-09-09 | Lambda Physik Ag | Preionization arrangement for a gas laser |
| US6671302B2 (en) | 2000-08-11 | 2003-12-30 | Lambda Physik Ag | Device for self-initiated UV pre-ionization of a repetitively pulsed gas laser |
| US6757315B1 (en) | 1999-02-10 | 2004-06-29 | Lambda Physik Ag | Corona preionization assembly for a gas laser |
| US6785316B1 (en) | 1999-08-17 | 2004-08-31 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular laser with optimized spectral purity |
| US6834066B2 (en) | 2000-04-18 | 2004-12-21 | Lambda Physik Ag | Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3399517B2 (ja) | 1999-12-08 | 2003-04-21 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線を放出するガスレーザ装置 |
-
1989
- 1989-06-07 JP JP14604189A patent/JP2794792B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994009536A1 (en) * | 1992-10-09 | 1994-04-28 | Cymer Laser Technologies | Pre-ionizer for a laser |
| US6618422B2 (en) | 1999-02-10 | 2003-09-09 | Lambda Physik Ag | Preionization arrangement for a gas laser |
| US6650679B1 (en) * | 1999-02-10 | 2003-11-18 | Lambda Physik Ag | Preionization arrangement for gas laser |
| US6757315B1 (en) | 1999-02-10 | 2004-06-29 | Lambda Physik Ag | Corona preionization assembly for a gas laser |
| US6456643B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-09-24 | Lambda Physik Ag | Surface preionization for gas lasers |
| US6546036B1 (en) | 1999-06-08 | 2003-04-08 | Lambda Physik Ag | Roof configuration for laser discharge electrodes |
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| US6671302B2 (en) | 2000-08-11 | 2003-12-30 | Lambda Physik Ag | Device for self-initiated UV pre-ionization of a repetitively pulsed gas laser |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2794792B2 (ja) | 1998-09-10 |
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Legal Events
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