JPH0395712A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0395712A JPH0395712A JP23358589A JP23358589A JPH0395712A JP H0395712 A JPH0395712 A JP H0395712A JP 23358589 A JP23358589 A JP 23358589A JP 23358589 A JP23358589 A JP 23358589A JP H0395712 A JPH0395712 A JP H0395712A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- ferrite
- gap
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 72
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 23
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 8
- 229910017082 Fe-Si Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910017133 Fe—Si Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 238000010406 interfacial reaction Methods 0.000 description 6
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 229910018523 Al—S Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000001613 Gambling Diseases 0.000 description 1
- 241000124015 Salix viminalis Species 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
本発明は、フエライトからなる磁気コアの磁気ギャップ
を形或する衝き合わせ面に、ＦｅＡｌ−Ｓｉ合金膜を設
けた磁気へ冫ドに関するものである。この磁気ヘノドは
、高保磁力の磁気記録媒体に対する記録・再生に適して
いる。
を形或する衝き合わせ面に、ＦｅＡｌ−Ｓｉ合金膜を設
けた磁気へ冫ドに関するものである。この磁気ヘノドは
、高保磁力の磁気記録媒体に対する記録・再生に適して
いる。
［従来の技術］
フエライト磁気コアの磁気ギャンプを形或ずる衝き合わ
せ面に飽和磁束密度が大きい強磁性金属膜を介在させた
磁気ヘッドはＭＩＧ （メタル・イン・ギャンブ）ヘッ
ドと呼ばれ、既に実用化されている。
せ面に飽和磁束密度が大きい強磁性金属膜を介在させた
磁気ヘッドはＭＩＧ （メタル・イン・ギャンブ）ヘッ
ドと呼ばれ、既に実用化されている。
従来のＭＴＧヘッドの一例と、その磁気ギャップ近傍の
拡大図を第４図及び第５図に示す。
拡大図を第４図及び第５図に示す。
磁気ヘッドは、フエライトからなる２個の磁気コア１０
．１２の磁気ギャップを形成する衝き合わせ面の少なく
とも一方にＦｅＡｌ−Ｓｉ合金（一般にセンダストと呼
ばれる）膜１４をスパッタリングあるいは蒸着等により
形成し、高融点のギャンプガラス１６により所定の磁気
ギャップとなるように組み合わせ、低融点のボンディン
グガラス１８により接合した構造をなしている。ここで
符号Ｓで示す面が磁気記録媒体との対向面となる。
．１２の磁気ギャップを形成する衝き合わせ面の少なく
とも一方にＦｅＡｌ−Ｓｉ合金（一般にセンダストと呼
ばれる）膜１４をスパッタリングあるいは蒸着等により
形成し、高融点のギャンプガラス１６により所定の磁気
ギャップとなるように組み合わせ、低融点のボンディン
グガラス１８により接合した構造をなしている。ここで
符号Ｓで示す面が磁気記録媒体との対向面となる。
このようなＭＩＧヘッドは、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜の
飽和磁束密度が大きいため磁気ギャンプ部に磁束が集中
し、記録磁界が大きく且つ急峻となる。このため高保磁
力の磁気記録媒体に対する記録・再生に適しており、高
密度記録が可能となる利点がある． ［発明が解決しようとする課題］ ところが第５図に示すような従来のギャップ構造の磁気
ヘッドでは、得られる孤立再生波形は第６図に示すよう
なものとなる。つまり本来の信号（符号ａで示す）の他
に、かなり大きな余分の出力（符号ｂで示す）が発生す
る。
飽和磁束密度が大きいため磁気ギャンプ部に磁束が集中
し、記録磁界が大きく且つ急峻となる。このため高保磁
力の磁気記録媒体に対する記録・再生に適しており、高
密度記録が可能となる利点がある． ［発明が解決しようとする課題］ ところが第５図に示すような従来のギャップ構造の磁気
ヘッドでは、得られる孤立再生波形は第６図に示すよう
なものとなる。つまり本来の信号（符号ａで示す）の他
に、かなり大きな余分の出力（符号ｂで示す）が発生す
る。
このような余分の出力が発生する理由は、フエライト磁
気コアとＦ ｅ − Ａ Ｉ − Ｓ ｉ合金膜との界
面近傍において、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金中のＡｌやＳｉ
がフエライト側に移動し、フエライト中のＯ（酸素）が
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金側に移動して酸化反応をおこし、
それによってかなり厚い磁気劣化層２０（第５図参照）
が形成され、それが擬似ギャップになるためと考えられ
る． ところでフエライト基板上に単にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
膜をスパッタリング法あるいは蒸着法により形或しただ
けでは、このような磁気劣化層の発生は殆ど見られない
。しかし磁気ヘッドを構戒する場合、前述のように２個
の磁気コア１０．１２をポンディングガラスｌ８により
接合する工程が必要である．ボンディングガラスの作業
温度は５００〜８００℃程度である。
気コアとＦ ｅ − Ａ Ｉ − Ｓ ｉ合金膜との界
面近傍において、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金中のＡｌやＳｉ
がフエライト側に移動し、フエライト中のＯ（酸素）が
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金側に移動して酸化反応をおこし、
それによってかなり厚い磁気劣化層２０（第５図参照）
が形成され、それが擬似ギャップになるためと考えられ
る． ところでフエライト基板上に単にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
膜をスパッタリング法あるいは蒸着法により形或しただ
けでは、このような磁気劣化層の発生は殆ど見られない
。しかし磁気ヘッドを構戒する場合、前述のように２個
の磁気コア１０．１２をポンディングガラスｌ８により
接合する工程が必要である．ボンディングガラスの作業
温度は５００〜８００℃程度である。
このガラスボンディング作業によって、前記のようなフ
エライトとＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金との界面反応が発生し
て磁気劣化層２０ができ、それが擬似ギャップとなって
余分な出力（擬似ギャップ出力〉 ｂの発生をもたらす
のである。オ一ジエ分析によると、その磁気劣化層２０
の厚さは約５００人程度になることが分かった。ガラス
ボンディングの作業温度を下げ、且つ作業時間を短縮す
ることによって界面反応を低減することができるが、磁
気コア同士を強固に接合するためには、それらの条件に
も自ずから限度がある。
エライトとＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金との界面反応が発生し
て磁気劣化層２０ができ、それが擬似ギャップとなって
余分な出力（擬似ギャップ出力〉 ｂの発生をもたらす
のである。オ一ジエ分析によると、その磁気劣化層２０
の厚さは約５００人程度になることが分かった。ガラス
ボンディングの作業温度を下げ、且つ作業時間を短縮す
ることによって界面反応を低減することができるが、磁
気コア同士を強固に接合するためには、それらの条件に
も自ずから限度がある。
このようなことから、従来のＭＩＧヘッドにおいて擬似
ギャップ出力の発生を防止することは困難であった。
ギャップ出力の発生を防止することは困難であった。
本発明の目的は、上記のような従来技術の欠点を解消し
、擬似ギャップの発生を防止して擬似ギャップ出力が殆
どない！１９５ Ｈな孤立再生波形を得ることができる
ＭＩＧ構造の磁気ヘッドを提供することにある。
、擬似ギャップの発生を防止して擬似ギャップ出力が殆
どない！１９５ Ｈな孤立再生波形を得ることができる
ＭＩＧ構造の磁気ヘッドを提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記のような技術的課題を解決できる本発明は、フエラ
イトからなる磁気コアの磁気ギャノブを形成する衝き合
わせ面に、特定の材料からなる下地層を形成し、その上
にＦｅ−ＡｌＳｉ合金膜を設けた磁気ヘフドである。
イトからなる磁気コアの磁気ギャノブを形成する衝き合
わせ面に、特定の材料からなる下地層を形成し、その上
にＦｅ−ＡｌＳｉ合金膜を設けた磁気ヘフドである。
下地層の一例としてはＣ（炭素）の単層膜がある。更に
好ましい構成は、Ｃ膜とＦｅの二層膜またはＣ膜とＦｅ
−Ｓｉ膜の二層膜を用いることである。
好ましい構成は、Ｃ膜とＦｅの二層膜またはＣ膜とＦｅ
−Ｓｉ膜の二層膜を用いることである。
ここでＣ膜は５０人程度、Ｆｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜は
５００ 〜１０００人程度、Ｆｅ一Ａｌ−Ｓｉ合金膜は
１〜４μｍ程度の膜厚とする。ＣＩｌ！、Ｆｅ膜、Ｆｅ
−Ｓｉ膜はスパッタリング等により形成する． ［作用〕 フエライト界面に形成したＣ膜は酸化反応を防止する機
能を果たす。つまりフエライト磁気コ７トＦ ｅ−Ａ
Ｉ−Ｓ ｉ合金膜との間にＣ膜があると、ガラスポンデ
ィングによる熱処理工程において、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合
金中のＡｌのフエライト側への移動、フエライト中のＯ
（酸素）のＦａ−Ａｌ−Ｓｉ合金側への移動を阻止する
．このため界面での酸化反応が抑制され磁気劣化層の形
成を防止できる． 特にＦｅ膜とＣ膜またはＦ ｅ−Ｓ ｉ ＩＩａとＣ膜
を用いると更に顕著な効果が生じ、ｙＪ似ギャ，プ出力
はほとんど無くなる。この時Ｆｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜
は、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜の配同性向上に寄与する。
５００ 〜１０００人程度、Ｆｅ一Ａｌ−Ｓｉ合金膜は
１〜４μｍ程度の膜厚とする。ＣＩｌ！、Ｆｅ膜、Ｆｅ
−Ｓｉ膜はスパッタリング等により形成する． ［作用〕 フエライト界面に形成したＣ膜は酸化反応を防止する機
能を果たす。つまりフエライト磁気コ７トＦ ｅ−Ａ
Ｉ−Ｓ ｉ合金膜との間にＣ膜があると、ガラスポンデ
ィングによる熱処理工程において、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合
金中のＡｌのフエライト側への移動、フエライト中のＯ
（酸素）のＦａ−Ａｌ−Ｓｉ合金側への移動を阻止する
．このため界面での酸化反応が抑制され磁気劣化層の形
成を防止できる． 特にＦｅ膜とＣ膜またはＦ ｅ−Ｓ ｉ ＩＩａとＣ膜
を用いると更に顕著な効果が生じ、ｙＪ似ギャ，プ出力
はほとんど無くなる。この時Ｆｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜
は、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜の配同性向上に寄与する。
［実施例］
第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例のギャップ
部近傍の拡大説明図である．この磁気ヘッドも、基本的
には第４図に示した従来技術と同様、フエライトからな
る磁気コア１０．１２の磁気ギャップを形成する衝き合
わせ面にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金ＩＩ！１４を設けた構戒
である。磁気コアｌＯとＦｅ−Ａｌ−Ｓ＋合金膜ｌ４と
のギャップ部分には高融点のギャンブガラスｌ６が位置
してギャップ長を規定し、低融点のボンディングガラス
１８により二個の磁気コア１０．１２が接合される。
部近傍の拡大説明図である．この磁気ヘッドも、基本的
には第４図に示した従来技術と同様、フエライトからな
る磁気コア１０．１２の磁気ギャップを形成する衝き合
わせ面にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金ＩＩ！１４を設けた構戒
である。磁気コアｌＯとＦｅ−Ａｌ−Ｓ＋合金膜ｌ４と
のギャップ部分には高融点のギャンブガラスｌ６が位置
してギャップ長を規定し、低融点のボンディングガラス
１８により二個の磁気コア１０．１２が接合される。
さて本発明が従来技術と顕著に相違する点は、フエライ
ト磁気コア１２とＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜ｌ４との間に
特定の材料からなる下地層を形成した点である。この実
施例ではＣ膜２２を下地層として用いている。Ｃ膜２２
はフエライト磁気コアｌ２の上に５０人程度の厚さでス
パッタリング法により形成する。そして、その上にＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ合金膜１４を１〜４μｍ程度の厚さとなる
ように、同じくスパッタリング法により形成する．勿論
、スパッタリング法に代えて蒸着法を用いてもよい． 第２図は本発明の他の実施例を示している．ここでは下
地層として、Ｃ膜２２の他にＦｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜
２４を重ねて用いている。
ト磁気コア１２とＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜ｌ４との間に
特定の材料からなる下地層を形成した点である。この実
施例ではＣ膜２２を下地層として用いている。Ｃ膜２２
はフエライト磁気コアｌ２の上に５０人程度の厚さでス
パッタリング法により形成する。そして、その上にＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ合金膜１４を１〜４μｍ程度の厚さとなる
ように、同じくスパッタリング法により形成する．勿論
、スパッタリング法に代えて蒸着法を用いてもよい． 第２図は本発明の他の実施例を示している．ここでは下
地層として、Ｃ膜２２の他にＦｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜
２４を重ねて用いている。
この場合、Ｃ膜２２がフエライト側、Ｆｅ膜またはＦｅ
−Ｓｉ膜２４がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜１４側になるよ
うにする。Ｃ膜２２の膜厚は前記実施例と同じ＜５０人
程度とし、Ｆｅ膜又はＦｅ−Ｓ＋膜２４の膜厚は５００
〜１０００人程度とする．これらはスパッタリング法に
まり形成できる． 試作した試料の下地層の構戒並びに膜の軟磁気特性、磁
気へンドの特性とオージェ分析による界面反応層の測定
結果を第１表に示す．第１表 第１表において、ヘッド特性を測定した時の各試料のＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金の膜厚は２μｍである。ＥＡは容易
軸方向の保磁力を表し、ＨＡは困難軸方向の保磁力を表
している。下地層としてＣ膜を用いることにより擬似ギ
ャップ出力が非常に小さくなることが分かる。特にＣ膜
とＦｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜を併用すると擬似ギャップ
出力は著しく低下し、且つ実効透磁率が高くなり特性が
向上する． また第１表においてオージェ分析による界面反応層を測
定したときの各試料のＦｅ−ＡｌＳ＋合金膜の膜厚は１
０００人である。この値はオージェ分析を行うことがで
きるような膜厚とするために設定されたものである。こ
の結果からも、Ｃ膜を設けると界面反応層が薄くなり、
特にＦｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜を併用すると界面反応層
はより一層薄くなることが分かる。このことは擬似ギャ
ップ出力が極めて小さくなることに対応している． このように下地層としてＣ膜を用いるとＦｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ合金の酸化を防止でき、擬似ギャップ出力が低減する
。本発明の磁気ヘッドにより得られる孤立再生波形を第
３図に示す。前記第１表からも判るように、従来技術で
生していた余分な出力（擬似ギャップ出力）は極めて小
さくなり、Ｃ膜とＦｅ膜あるいはＣ膜とＦｅ−ＳＬ膜を
組み合わせた場合には、下地層を用いない場合の１／１
０以下に低減する．また比較例として示したように、下
地層としてＦｅ膜を単独で用いた場合、あるいはＦｅ−
Ｓｉ膜を単独で用いた場合にも若干擬似出力は下がるが
、Ｃ膜を用いた本発明とは大きく異なる．それは下地層
としてＮｉ−Ｆｅｎを用いた場合と比べても同様である
。
−Ｓｉ膜２４がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜１４側になるよ
うにする。Ｃ膜２２の膜厚は前記実施例と同じ＜５０人
程度とし、Ｆｅ膜又はＦｅ−Ｓ＋膜２４の膜厚は５００
〜１０００人程度とする．これらはスパッタリング法に
まり形成できる． 試作した試料の下地層の構戒並びに膜の軟磁気特性、磁
気へンドの特性とオージェ分析による界面反応層の測定
結果を第１表に示す．第１表 第１表において、ヘッド特性を測定した時の各試料のＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金の膜厚は２μｍである。ＥＡは容易
軸方向の保磁力を表し、ＨＡは困難軸方向の保磁力を表
している。下地層としてＣ膜を用いることにより擬似ギ
ャップ出力が非常に小さくなることが分かる。特にＣ膜
とＦｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜を併用すると擬似ギャップ
出力は著しく低下し、且つ実効透磁率が高くなり特性が
向上する． また第１表においてオージェ分析による界面反応層を測
定したときの各試料のＦｅ−ＡｌＳ＋合金膜の膜厚は１
０００人である。この値はオージェ分析を行うことがで
きるような膜厚とするために設定されたものである。こ
の結果からも、Ｃ膜を設けると界面反応層が薄くなり、
特にＦｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ膜を併用すると界面反応層
はより一層薄くなることが分かる。このことは擬似ギャ
ップ出力が極めて小さくなることに対応している． このように下地層としてＣ膜を用いるとＦｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ合金の酸化を防止でき、擬似ギャップ出力が低減する
。本発明の磁気ヘッドにより得られる孤立再生波形を第
３図に示す。前記第１表からも判るように、従来技術で
生していた余分な出力（擬似ギャップ出力）は極めて小
さくなり、Ｃ膜とＦｅ膜あるいはＣ膜とＦｅ−ＳＬ膜を
組み合わせた場合には、下地層を用いない場合の１／１
０以下に低減する．また比較例として示したように、下
地層としてＦｅ膜を単独で用いた場合、あるいはＦｅ−
Ｓｉ膜を単独で用いた場合にも若干擬似出力は下がるが
、Ｃ膜を用いた本発明とは大きく異なる．それは下地層
としてＮｉ−Ｆｅｎを用いた場合と比べても同様である
。
以上、本発明の好ましい実施例について詳述したが、本
発明はこのような構或のみに限定されるものではない．
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓ＋合金膜を磁気コアＩＯ側に形或する場
合には、その間に下地層を形成する．勿論、磁気コア１
０側及び磁気コア１２側の両方に下地層及びＦｅ−Ａｌ
Ｓ＋合金膜を形成してもよい． ［発明の効果］ 本発明は上記のように、フエライト磁気コアとＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金膜との間にＣ膜からなる下地層を形成した
磁気へッドであるから、これによってＦ ｅ − Ａ
Ｉ − Ｓ ｉ合金中のＡｌのフエライト側への移動及
びフエライト中の酸素のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金側への移
動を阻止でき、Ａ１やＳｉの酸化を防止できる．従って
従来技術のような厚い磁気劣化層は形成されず、擬似ギ
ャップによる余分な出力の発生を低減できる。
発明はこのような構或のみに限定されるものではない．
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓ＋合金膜を磁気コアＩＯ側に形或する場
合には、その間に下地層を形成する．勿論、磁気コア１
０側及び磁気コア１２側の両方に下地層及びＦｅ−Ａｌ
Ｓ＋合金膜を形成してもよい． ［発明の効果］ 本発明は上記のように、フエライト磁気コアとＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金膜との間にＣ膜からなる下地層を形成した
磁気へッドであるから、これによってＦ ｅ − Ａ
Ｉ − Ｓ ｉ合金中のＡｌのフエライト側への移動及
びフエライト中の酸素のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金側への移
動を阻止でき、Ａ１やＳｉの酸化を防止できる．従って
従来技術のような厚い磁気劣化層は形成されず、擬似ギ
ャップによる余分な出力の発生を低減できる。
特にＣＭに加えてＦｅ膜またはＦ ｅ − Ｓ ｉ ｒ
Ｐｊ！を設けると、擬似ギャップ出力が更に低減し殆ど
無くすることができるばかりでなく、実効透磁率などヘ
ッド特性も向上する。
Ｐｊ！を設けると、擬似ギャップ出力が更に低減し殆ど
無くすることができるばかりでなく、実効透磁率などヘ
ッド特性も向上する。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例のギャップ
部分の拡大説明図、第２図は本発明の他の実施例のギャ
ンブ部分の拡大説明図、第３図は本発明により得られる
孤立再生波形図である．第４図はＭＩＧヘッドの全体構
或図、第５図は従来の磁気ヘッドのヘッドギャ，プ部分
の拡大説明図、第６図はそれにより得られる孤立再生波
形図である。 １０．１２−・・磁気コア、１ ４ − Ｆ ｅ −
Ａ ＩＳｉ合金膜、１６・・・ギャップガラス、１８・
・・ボンディングガラス、２ｏ・・・磁気劣化層、２２
・・・Ｃ膜、２ ４ ・＝ Ｆ ｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ
膜。 第１図 第２図 ２７４ 第４図 第３図 第６図 ！ＩＳ 間 ＃Ｐ 問
部分の拡大説明図、第２図は本発明の他の実施例のギャ
ンブ部分の拡大説明図、第３図は本発明により得られる
孤立再生波形図である．第４図はＭＩＧヘッドの全体構
或図、第５図は従来の磁気ヘッドのヘッドギャ，プ部分
の拡大説明図、第６図はそれにより得られる孤立再生波
形図である。 １０．１２−・・磁気コア、１ ４ − Ｆ ｅ −
Ａ ＩＳｉ合金膜、１６・・・ギャップガラス、１８・
・・ボンディングガラス、２ｏ・・・磁気劣化層、２２
・・・Ｃ膜、２ ４ ・＝ Ｆ ｅ膜またはＦｅ−Ｓｉ
膜。 第１図 第２図 ２７４ 第４図 第３図 第６図 ！ＩＳ 間 ＃Ｐ 問
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、フェライトからなる磁気コアの磁気ギャップを形成
する衝き合わせ面にＦｅ−Ａｌ− Ｓｉ合金膜を設けた磁気ヘッドにおいて、 Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜の下地層としてＣ膜を形成した
ことを特徴とする磁気ヘッド。 ２、フェライトからなる磁気コアの磁気ギャップを形成
する衝き合わせ面にＦｅ−Ａｌ− Ｓｉ合金膜を設けた磁気ヘッドにおいて、 Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜の下地層として、Ｃ膜とＦｅ膜
との二重膜を形成したことを特徴とする磁気ヘッド。 ３、フェライトからなる磁気コアの磁気ギャップを形成
する衝き合わせ面にＦｅ−Ａｌ− Ｓｉ合金膜を設けた磁気ヘッドにおいて、 Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜の下地層として、Ｃ膜とＦｅ−
Ｓｉ膜との二重膜を形成したことを特徴とする磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1233585A JP2818447B2 (ja) | 1989-09-07 | 1989-09-07 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1233585A JP2818447B2 (ja) | 1989-09-07 | 1989-09-07 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0395712A true JPH0395712A (ja) | 1991-04-22 |
| JP2818447B2 JP2818447B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=16957378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1233585A Expired - Lifetime JP2818447B2 (ja) | 1989-09-07 | 1989-09-07 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2818447B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03209608A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| KR20160002008U (ko) * | 2014-12-03 | 2016-06-13 | 배종찬 | 선반의 가격표 부착기구 |
-
1989
- 1989-09-07 JP JP1233585A patent/JP2818447B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03209608A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| KR20160002008U (ko) * | 2014-12-03 | 2016-06-13 | 배종찬 | 선반의 가격표 부착기구 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2818447B2 (ja) | 1998-10-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0291806A (ja) | 垂直磁化薄膜ヘッド | |
| JPS6332709A (ja) | 磁気変換ヘッド | |
| JPH0395712A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH01285022A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| KR100245035B1 (ko) | 미그형 자기 유도 헤드 제조방법 | |
| JPH0668414A (ja) | Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS6381617A (ja) | 垂直記録用単磁極型磁気ヘツド | |
| JP2553494B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH04285723A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| KR100225345B1 (ko) | 미그(m.i.g)형 자기 헤드 | |
| JPS6174109A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH01223606A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH07118055B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6059516A (ja) | 垂直磁気記録再生用複合ヘッド | |
| JPH035906A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH02302911A (ja) | 磁気記録再生装置の磁気ヘッド装置 | |
| JPH01116906A (ja) | 浮動形磁気ヘッド | |
| JPH087213A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0481803B2 (ja) | ||
| JPH02108207A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH04126308U (ja) | 複合磁気ヘツド | |
| JPH0447365B2 (ja) | ||
| JPH01122003A (ja) | 磁気ヘツド装置 | |
| JPS6122437A (ja) | 磁気転写記録方式 | |
| JPS6139907A (ja) | 磁気ヘツド |