JPS61294620A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61294620A JPS61294620A JP13556385A JP13556385A JPS61294620A JP S61294620 A JPS61294620 A JP S61294620A JP 13556385 A JP13556385 A JP 13556385A JP 13556385 A JP13556385 A JP 13556385A JP S61294620 A JPS61294620 A JP S61294620A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- protective film
- head chip
- medium
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、磁気記録又は再生装置の磁気ヘッドに関す
る。
る。
従来の技術
従来の代表的な磁気ヘッドとして、ヘッドギャップが形
成されたヘッドチップに磁気コイルを巻回したものがあ
る。
成されたヘッドチップに磁気コイルを巻回したものがあ
る。
発明が解決しようとする問題点
ヘッドチップは記録媒体の磁気記録層にこすられるため
摩耗する。記録媒体の磁気記録層も摩擦により劣化する
。特に、Ｃｏ−Ｃｒ等の硬磁性材による磁気記録層が形
成された記録媒体に接触するヘッドチップは摩耗が激し
い問題がある。
摩耗する。記録媒体の磁気記録層も摩擦により劣化する
。特に、Ｃｏ−Ｃｒ等の硬磁性材による磁気記録層が形
成された記録媒体に接触するヘッドチップは摩耗が激し
い問題がある。
この発明はこのような点に鑑み′なされたもので、ヘッ
ドチップ及び記録媒体の寿命を延長しうる磁気ヘッドを
うろことを目的とする。
ドチップ及び記録媒体の寿命を延長しうる磁気ヘッドを
うろことを目的とする。
問題点を解決するための手段
この発明は、第１図に代表するように、ヘッドチップ１
の媒体対接面７にＳｉ３Ｎ４を主成分とする保護膜８を
形成する。
の媒体対接面７にＳｉ３Ｎ４を主成分とする保護膜８を
形成する。
作用
保護膜、８は摩擦係数が低く耐摩耗性に優れ、したがっ
て、ヘッドチップ１のみならず記録媒体９の摩耗を防止
する。
て、ヘッドチップ１のみならず記録媒体９の摩耗を防止
する。
実施例
この発明の第一の実施例を第１図及び第２図に基づいて
説明する。１はヘッドチップである。これはＭ ｎ −
Ｚ ｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、パーマロイ
、センダスト、アモルファス等の軟磁性体２，３を接合
して記録又は再生用のヘッドギャップ４を形成し、軟磁
性体２に磁気コイル５を巻回し、軟磁性体２，３の両側
面に非磁性材により形成したスライダ６を接合したもの
である。
説明する。１はヘッドチップである。これはＭ ｎ −
Ｚ ｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、パーマロイ
、センダスト、アモルファス等の軟磁性体２，３を接合
して記録又は再生用のヘッドギャップ４を形成し、軟磁
性体２に磁気コイル５を巻回し、軟磁性体２，３の両側
面に非磁性材により形成したスライダ６を接合したもの
である。
このヘッドチップ１の媒体対接面７にはＳｉ、Ｎ４を主
成分とする保護膜８がＦＲスパッタリング法。
成分とする保護膜８がＦＲスパッタリング法。
ＣＶＤ法、電子ビーム蒸着法等の薄膜技術により０．５
μ以下の厚さで形成されている。この保護膜８は、５１
３Ｎ４の他に０〜３０％のＹ、０３を含み、さらに、０
〜５％のＳｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｓ。
μ以下の厚さで形成されている。この保護膜８は、５１
３Ｎ４の他に０〜３０％のＹ、０３を含み、さらに、０
〜５％のＳｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｓ。
Ｂ＋ Ｎ、Ｏ，Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｙ、Ｇａ、Ａｓ。
Ｐを含んでいるものである。
このような構成において、ポリエステルフィルム等の長
尺状の基材に磁気記録層を形成してなる記録媒体９をヘ
ッドチップ１に接触させて走行させ、この過程でデータ
の記録又は再生が行われる。
尺状の基材に磁気記録層を形成してなる記録媒体９をヘ
ッドチップ１に接触させて走行させ、この過程でデータ
の記録又は再生が行われる。
このとき、保護膜８は摩擦係数が低く耐摩耗性が優れて
いるため、媒体対接面７が摩耗することばない、記録媒
体９の摩耗も防止しうる。
いるため、媒体対接面７が摩耗することばない、記録媒
体９の摩耗も防止しうる。
ついで、この発明の第二、第三、第四の実施例を説明す
るが前記実施例と同一部分は同一符号を用い説明も省略
する。
るが前記実施例と同一部分は同一符号を用い説明も省略
する。
第二の実施例を第３図及び第４図に示す。本実施例のへ
ラドチップ１０は、非磁性材により形成したスペーサ１
１を境に左方において軟磁性体２゜３を対向させて記録
又は再生用のへラドギャップ４を形成し、右方において
軟磁性体２，３を対向させてイレーズ用のヘッドギャッ
プ１２を形成し。
ラドチップ１０は、非磁性材により形成したスペーサ１
１を境に左方において軟磁性体２゜３を対向させて記録
又は再生用のへラドギャップ４を形成し、右方において
軟磁性体２，３を対向させてイレーズ用のヘッドギャッ
プ１２を形成し。
軟磁性体２，３の両側面にスライダ６を接合し、軟磁性
体２に磁気コイル５を巻回したもので、媒体対接面７に
は保護膜８が形成されている。
体２に磁気コイル５を巻回したもので、媒体対接面７に
は保護膜８が形成されている。
第三の実施例を第５図ないし第７図に示す。本実施例の
へラドチップ１３は、左右一対のセラミック１４の間に
、記録又は再生用の主磁極を形成すべくパーマロイ、セ
ンダスト、Ｇｏ−Ｚｒ−Ｎｂ、Ｆｅ−３ｉ等の軟磁性薄
膜１５と軟磁性体３とを挟み、軟磁性体３とセラミック
１４との両面にスライダ６を接合し、軟磁性体３と軟磁
性薄膜１５とに磁気コイル５を巻回したもので、媒体対
接面７には保護膜８が形成されている。また、記録媒体
１６は、第７図に示すように、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルム等の基材１７の両面に、パーマロイ
等の軟磁性材による下地層１８を電子ビーム蒸着法、そ
の他の蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の薄膜技
術により０．１〜１μの厚さで形成し、その上にＧ ｏ
−Ｃｒ等の硬磁性材による磁気記録層１９を下地層１
８と同様に薄膜技術により形成し、その上にＳｉ３Ｎ４
を主成分とする保護膜２０をＦＲスパッタリング法。
へラドチップ１３は、左右一対のセラミック１４の間に
、記録又は再生用の主磁極を形成すべくパーマロイ、セ
ンダスト、Ｇｏ−Ｚｒ−Ｎｂ、Ｆｅ−３ｉ等の軟磁性薄
膜１５と軟磁性体３とを挟み、軟磁性体３とセラミック
１４との両面にスライダ６を接合し、軟磁性体３と軟磁
性薄膜１５とに磁気コイル５を巻回したもので、媒体対
接面７には保護膜８が形成されている。また、記録媒体
１６は、第７図に示すように、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルム等の基材１７の両面に、パーマロイ
等の軟磁性材による下地層１８を電子ビーム蒸着法、そ
の他の蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の薄膜技
術により０．１〜１μの厚さで形成し、その上にＧ ｏ
−Ｃｒ等の硬磁性材による磁気記録層１９を下地層１
８と同様に薄膜技術により形成し、その上にＳｉ３Ｎ４
を主成分とする保護膜２０をＦＲスパッタリング法。
ＣＶＤ法等の薄膜技術により０．５μ以下の厚さで形成
したものである。なお、保護膜８，２０の成分は同じで
ある。
したものである。なお、保護膜８，２０の成分は同じで
ある。
したがって、軟磁性薄膜１５を透る磁束が記録媒体１６
の厚さ方向に流れ、磁気記録層１９へのデータの記録又
は再生が行われる。磁気記録層１９は硬磁性材により形
成されているが、ヘッドチップ１３の媒体対接面７に形
成した保護膜８と、記録媒体１６に形成した保護膜２０
とは、摩擦係数が低く耐摩耗性に優れ、したがって、媒
体対接面７及び磁気記録層１９の摩耗をより一層有効に
防止しうる。
の厚さ方向に流れ、磁気記録層１９へのデータの記録又
は再生が行われる。磁気記録層１９は硬磁性材により形
成されているが、ヘッドチップ１３の媒体対接面７に形
成した保護膜８と、記録媒体１６に形成した保護膜２０
とは、摩擦係数が低く耐摩耗性に優れ、したがって、媒
体対接面７及び磁気記録層１９の摩耗をより一層有効に
防止しうる。
最後に、第四の実施例を第８図及び第９図に示す０本実
施例のヘッドチップ２１は、左右一対のスライダ２２と
中央のスライダ２３との間に軟磁性膜２４．２５を挟み
、スライダ２２．２３の両面にスライダ６を接合したも
のである。一方の軟磁性膜２４は記録又は再生用の主磁
極であり、他方の軟磁性膜２５はイレーズ用の主磁極で
ある。
施例のヘッドチップ２１は、左右一対のスライダ２２と
中央のスライダ２３との間に軟磁性膜２４．２５を挟み
、スライダ２２．２３の両面にスライダ６を接合したも
のである。一方の軟磁性膜２４は記録又は再生用の主磁
極であり、他方の軟磁性膜２５はイレーズ用の主磁極で
ある。
このヘッドチップ２１の媒体対接面７には保護膜８が形
成され、スライダ２２には磁気コイル５が巻回されてい
る。
成され、スライダ２２には磁気コイル５が巻回されてい
る。
なお、図示しないが、ＶＴＲ用のへラドチップの媒体対
接面に保護膜を形成してもよい。
接面に保護膜を形成してもよい。
発明の効果
、ノ
この発明は上述のように構成したので、摩擦係数が低く
体摩耗性の優れた保護膜により、ヘッドチップの媒体対
接面のみならず記録媒体の磁気記録層の摩耗を防止する
ことができる効果を有する。
体摩耗性の優れた保護膜により、ヘッドチップの媒体対
接面のみならず記録媒体の磁気記録層の摩耗を防止する
ことができる効果を有する。
第１図はこの発明の第一の実施例を示す斜視図、第２図
はその側面図、第３図はこの発明の第二の実施例を示す
斜視図、第４図はその側面図、第５図はこの発明の第三
の実施例を示す斜視図、第６図はその側面図、第７図は
その記録媒体を拡大して示す側面図、第８図はこの発明
の第四の実施例を示す斜視図、第９図はその側面図であ
る。 ・１・・・ヘッドチップ、７・・・媒体対接面、
８・・・保護膜、９・・・記録媒体、１０・・・ヘッド
チップ、１３・・・ヘッドチップ、１６・・・記録媒体
、２ｏ・・・保護膜、２１・・・ヘッドチップ
はその側面図、第３図はこの発明の第二の実施例を示す
斜視図、第４図はその側面図、第５図はこの発明の第三
の実施例を示す斜視図、第６図はその側面図、第７図は
その記録媒体を拡大して示す側面図、第８図はこの発明
の第四の実施例を示す斜視図、第９図はその側面図であ
る。 ・１・・・ヘッドチップ、７・・・媒体対接面、
８・・・保護膜、９・・・記録媒体、１０・・・ヘッド
チップ、１３・・・ヘッドチップ、１６・・・記録媒体
、２ｏ・・・保護膜、２１・・・ヘッドチップ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁気媒体に接触するヘッドチップの媒体対接面にＳ
ｉ＿３Ｎ＿４を主成分とする保護膜を形成したことを特
徴とする磁気ヘッド。 ２、Ｓｉ＿３Ｎ＿４を主成分とする保護膜が表面に形成
された磁気媒体に接触するヘッドチップの媒体対接面に
Ｓｉ＿３Ｎ＿４を主成分とする保護膜を形成したことを
特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13556385A JPS61294620A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13556385A JPS61294620A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294620A true JPS61294620A (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15154734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13556385A Pending JPS61294620A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294620A (ja) |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP13556385A patent/JPS61294620A/ja active Pending
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