JPS61294630A - 垂直磁気記録装置の記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録装置の記録媒体Info
- Publication number
- JPS61294630A JPS61294630A JP13556485A JP13556485A JPS61294630A JP S61294630 A JPS61294630 A JP S61294630A JP 13556485 A JP13556485 A JP 13556485A JP 13556485 A JP13556485 A JP 13556485A JP S61294630 A JPS61294630 A JP S61294630A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- magnetic head
- high permeability
- film
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、垂直磁気記録装置の記録媒体に関する。
従来の技術
垂直磁気記録装置の磁気ヘッドのへラドチップの表面は
、一般に、Ｇｏ−Ｃｒ、Ｇｏ−Ｖ等の六方晶型合金の金
属膜が薄膜技術により形成されている。
、一般に、Ｇｏ−Ｃｒ、Ｇｏ−Ｖ等の六方晶型合金の金
属膜が薄膜技術により形成されている。
発明が解決しようとする問題点
このため、記録媒体も磁気ヘッドも摩耗が激しい。記録
媒体と磁気ヘッドとの対接面に油を成分とする潤滑膜を
塗布する考えがあるが、記録媒体の信頼性が欠け、手に
も油が付着して扱い難゛い問題がある。
媒体と磁気ヘッドとの対接面に油を成分とする潤滑膜を
塗布する考えがあるが、記録媒体の信頼性が欠け、手に
も油が付着して扱い難゛い問題がある。
この発明は上述のような点に鑑み為されたもので、耐摩
耗性に富み、しかも磁気ヘッドの摩耗をも防止しつる垂
直磁気記録装置の記録媒体をうることを目的とする。
耗性に富み、しかも磁気ヘッドの摩耗をも防止しつる垂
直磁気記録装置の記録媒体をうることを目的とする。
問題点を解決するための手段
この発明は、磁気記録層５が形成された記録媒体３の磁
気ヘッド対接面にＳｉ３Ｎ、を主成分とする保護膜６を
薄膜技術により形成する。
気ヘッド対接面にＳｉ３Ｎ、を主成分とする保護膜６を
薄膜技術により形成する。
作用
保護膜６は摩擦係数が低く耐摩耗性が高いため、記録媒
体１，２のみならず磁気ヘッドの表面の摩耗を防止する
。
体１，２のみならず磁気ヘッドの表面の摩耗を防止する
。
実施例
この発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図に示す記録媒体１は、長尺状の基材３の両面に下
地層４を形成し、その上に磁気記録層５を形成したもの
で、磁気ヘッド対接面となる表面にはＳｉ３Ｎ、を主成
分とする保護膜６が形成されている。
地層４を形成し、その上に磁気記録層５を形成したもの
で、磁気ヘッド対接面となる表面にはＳｉ３Ｎ、を主成
分とする保護膜６が形成されている。
第２図に示す記録媒体２は、下地層４を省略し。
基材３の両面に直接磁気記録層５を形成したもので、そ
の表面には保護膜６が形成されている。
の表面には保護膜６が形成されている。
基材３は、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム
、面粗度を０．０５μに仕上たアルミ板等を用いる。
、面粗度を０．０５μに仕上たアルミ板等を用いる。
下地層４は、Ｆ ｅ Ｎ ｉ＊パーマロイ、センダス
ト、Ｇｏ−Ｐｔ等の軟磁性材を、ＣＶＤ法、電子ビーム
蒸着法、スパッタリング法等の薄膜技術により０．１〜
１μの厚さに形成したものである。
ト、Ｇｏ−Ｐｔ等の軟磁性材を、ＣＶＤ法、電子ビーム
蒸着法、スパッタリング法等の薄膜技術により０．１〜
１μの厚さに形成したものである。
磁気記録層５は、Ｃｏ−Ｃｒ 、 Ｇ ｏ−Ｖ、 Ｃ。
−０等の硬磁性材を、下地層４と同様の薄膜技術により
０．１〜１μの厚さに形成したものである。
０．１〜１μの厚さに形成したものである。
保護膜６はＲＦスパッタリング法、ＣＶＤ法等の薄膜技
術により０．３μ以下の厚さに形成したものである。ま
た、保護ｆｌ！６は、Ｓｉ３Ｎ４の他に０〜３０％のｙ
、ｏ、を含み、さらに、０〜５％のＳｉ、Ｔａ、Ａｌ、
Ｓ、Ｃ２Ｂ３Ｎ、Ｏ，Ｍｏ。
術により０．３μ以下の厚さに形成したものである。ま
た、保護ｆｌ！６は、Ｓｉ３Ｎ４の他に０〜３０％のｙ
、ｏ、を含み、さらに、０〜５％のＳｉ、Ｔａ、Ａｌ、
Ｓ、Ｃ２Ｂ３Ｎ、Ｏ，Ｍｏ。
Ｗ、Ｔｉ、Ｙ、Ｇａ、Ａｓ、Ｐを含んでいるものである
。
。
つぎに、上述した記録媒体１，２を用いてデータの記録
又は再生を行う磁気ヘッドの代表例を第３図ないし第７
図に示す。
又は再生を行う磁気ヘッドの代表例を第３図ないし第７
図に示す。
第３図に示したものは、非磁性体により形成したスライ
ダ７によって主磁極となる高透磁率磁性膜８を挟持し、
磁気コイル９が巻回されて補助磁極となる高透磁率磁性
体１ｏを高透磁率磁性膜８に対向させたものである。
ダ７によって主磁極となる高透磁率磁性膜８を挟持し、
磁気コイル９が巻回されて補助磁極となる高透磁率磁性
体１ｏを高透磁率磁性膜８に対向させたものである。
第４図に示したものは、高透磁率磁性体１１とスライダ
７とにより高透磁率磁性膜８を挟持し、高透磁率磁性体
１１の媒体対接面を非磁性体により形成したスライダ１
２で覆い、スライダ７に形成した凹部１３に磁気コイル
９を巻回したものである。
７とにより高透磁率磁性膜８を挟持し、高透磁率磁性体
１１の媒体対接面を非磁性体により形成したスライダ１
２で覆い、スライダ７に形成した凹部１３に磁気コイル
９を巻回したものである。
第５図に示したものは、高透磁率磁性膜８を高透磁率磁
性体１１により挟持し、これらの高透磁率磁性体１１の
媒体対接面をスライダ１２により覆い、高透磁率磁性体
１１に凹部１４を形成し、高透磁率磁性膜８を囲む磁気
コイル９を凹部１４に収納したものである。
性体１１により挟持し、これらの高透磁率磁性体１１の
媒体対接面をスライダ１２により覆い、高透磁率磁性体
１１に凹部１４を形成し、高透磁率磁性膜８を囲む磁気
コイル９を凹部１４に収納したものである。
第６図に示したものは、高透磁率磁性体１１と非磁性体
１５とにより高透磁率磁性膜８を接近させて対向させる
状態で挟持し、高透磁率磁性体１１の媒体対接面をスラ
イダ１２により覆い、高透磁率磁性体１１の内面に形成
した凹部１６に磁気コイル９を巻回し、高透磁率磁性体
１１の周囲に磁気コイル１７を巻回したものである。
１５とにより高透磁率磁性膜８を接近させて対向させる
状態で挟持し、高透磁率磁性体１１の媒体対接面をスラ
イダ１２により覆い、高透磁率磁性体１１の内面に形成
した凹部１６に磁気コイル９を巻回し、高透磁率磁性体
１１の周囲に磁気コイル１７を巻回したものである。
第７図に示したものは、薄い高透磁率磁性体１１により
高透磁率磁性膜８を挟持し、これらの高透磁率磁性体１
１の媒体対接面をスライダ１２により覆い、高透磁率磁
性体１１の周囲に磁気コイル９を巻回したものである。
高透磁率磁性膜８を挟持し、これらの高透磁率磁性体１
１の媒体対接面をスライダ１２により覆い、高透磁率磁
性体１１の周囲に磁気コイル９を巻回したものである。
これは高透磁率磁性体１１が薄いので、高透磁率磁性体
１１に凹部を形成しなくても磁気コイル９を高透磁率磁
性膜８に近づけることになる。
１１に凹部を形成しなくても磁気コイル９を高透磁率磁
性膜８に近づけることになる。
このような構成において、第３図ないし第７図に示した
ものは、何れも高透磁率磁性膜８を透る磁束が記録媒体
１又は２の厚さ方向に流れることによりデータの記録又
は再生が行われる。記録媒体１，２は磁気ヘッドに接触
して走行するが、保護膜６は摩擦係数が低く、かつ耐摩
耗性に優れ、したがって、記録媒体１，２はもとより第
３図ないし第７図に示した各磁気ヘッドの摩耗を防止し
、耐久性を高めることができる。
ものは、何れも高透磁率磁性膜８を透る磁束が記録媒体
１又は２の厚さ方向に流れることによりデータの記録又
は再生が行われる。記録媒体１，２は磁気ヘッドに接触
して走行するが、保護膜６は摩擦係数が低く、かつ耐摩
耗性に優れ、したがって、記録媒体１，２はもとより第
３図ないし第７図に示した各磁気ヘッドの摩耗を防止し
、耐久性を高めることができる。
発明の効果
この発明は上述のように、磁気記録層が形成された記録
媒体の表面にＳｉ３Ｎ４を主成分とする保護膜を形成し
たことにより、磁気記録層の摩耗を防止し、しかも磁気
ヘッドの摩耗をも防止することができる等の効果を有す
る。
媒体の表面にＳｉ３Ｎ４を主成分とする保護膜を形成し
たことにより、磁気記録層の摩耗を防止し、しかも磁気
ヘッドの摩耗をも防止することができる等の効果を有す
る。
図面はこの発明の一実施例を示すもので、第１図及び第
２図は記録媒体を拡大して厚さ方向より見た側面図、第
３図ないし第７図は各種の磁気ヘッドの構造を示す説明
図である。
２図は記録媒体を拡大して厚さ方向より見た側面図、第
３図ないし第７図は各種の磁気ヘッドの構造を示す説明
図である。
Claims (1)
- 磁気記録層が形成された記録媒体の磁気ヘッド対接面に
Ｓｉ＿３Ｎ＿４を主成分とする保護膜を薄膜技術により
形成したことを特徴とする垂直磁気記録装置の記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13556485A JPS61294630A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 垂直磁気記録装置の記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13556485A JPS61294630A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 垂直磁気記録装置の記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294630A true JPS61294630A (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15154758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13556485A Pending JPS61294630A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 垂直磁気記録装置の記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294630A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004134078A (ja) * | 2002-10-14 | 2004-04-30 | Korea Advanced Inst Of Science & Technol | 均一な局所領域の保磁力分布と微細な結晶粒及び均一な結晶粒径分布を持った高密度磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP13556485A patent/JPS61294630A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004134078A (ja) * | 2002-10-14 | 2004-04-30 | Korea Advanced Inst Of Science & Technol | 均一な局所領域の保磁力分布と微細な結晶粒及び均一な結晶粒径分布を持った高密度磁気記録媒体及びその製造方法 |
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