JPH0393197A - Ｘ線照射装置 - Google Patents

Ｘ線照射装置

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JPH0393197A
JPH0393197A JP2222323A JP22232390A JPH0393197A JP H0393197 A JPH0393197 A JP H0393197A JP 2222323 A JP2222323 A JP 2222323A JP 22232390 A JP22232390 A JP 22232390A JP H0393197 A JPH0393197 A JP H0393197A
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JP
Japan
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diaphragm
ray irradiation
slit
ray
primary
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JP2222323A
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English (en)
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Norbert Conrads
ノーバート　コンラッズ
Walter Hillen
ヴァルター　ヒレン
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Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G21K1/025—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/08—Auxiliary means for directing the radiation beam to a particular spot, e.g. using light beams
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B42/00—Obtaining records using waves other than optical waves; Visualisation of such records by using optical means
    • G03B42/02—Obtaining records using waves other than optical waves; Visualisation of such records by using optical means using X-rays

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、Ｘ線源と放射線検出器とからなり、ＸＩａ源
の放射線は、検査されるべき対象に投射される扇形ビー
ムを形成するよう少なくとも１つの１次ダイヤフラムの
スリット形開口を貫通し、それに亘って直線的に案内さ
れるＸ線照射装置に係る。
放射線写真では検査さるべき領域、即ち検査さるべき対
象が照射の前に検査Ｘ線に照射される領域をマークする
ことが通常望ましい。検査領域はＸ線源の焦点と静止ダ
イヤフラム間を光線で結合することにより通常区画され
、その光線は、検査の面において検査領域を特徴とする
ようダイヤフラムにより制限される。
しかし、スリット放射線写真照射技術に対し、１次ダイ
ヤフラムは、検査さるべき対象に亘って扇形ビームでの
Ｘ線を線状又は面積状に案内するのに役立つ非常に細い
スリットだけからなるので、これは容易に可能ではない
。
スリット放射線写真照射技術用に光を印加する他の可能
性は、光が１次ダイヤフラム及び検査さるべき対象間を
ミラーにより結合されることからなる。しかし、この種
の装置は、全体の装置が非常に容量が大きくならない場
合、Ｘ線源の焦点と１次ダイヤプラム間の距離が必然的
に減少する欠点を有する。しかし、焦点と１次ダイヤフ
ラム間の距離は、検査面において放射線ビームの半影領
域を最小にするよう出来るだけ大きくすべきである。こ
れは散乱放射線状の抑圧及び１次ビーム伝送を鑑みて望
ましいことである。更に、検査面と！次スリット間の光
の結合は、検査面に位置する対象用の範囲を減少させる
。
本発明の目的は場の結合が記載の欠点を避けるのに可能
であるよう上記種類のＸ線照射装置を構成することであ
る。
この目的は、１次ダイヤフラムは、その通常の位置にス
リット形開口を形成し、検査領域を画戒するよう夫々選
択自在な制限位置に、垂直にスリット方向に動かされつ
る少なくとも２つのダイヤフラム素子からなり、検査さ
れるべき対象上への光のその投映は、それらの制限位置
でのダイヤフラム素子により制限され、検査領域をマー
クする光源が設けられ、検査さるべき対象のＸ線照射は
、そのダイヤフラム素子がそれらの各制限位置を占める
１次ダイヤフラムの２つの位置の間でのみ生じる本発明
により達成される。
この装置では、１次ダイヤフラムは、いつもの通り２つ
のダイヤフラム素子がスリット形開口を形成するよう互
いに接近するよう動くその通常の位置において検査さる
べき対象へのスリット放射線写真照射に役立つ。
しかし、検査動作の前に、２つのダイヤフラム素子は、
それにより形成されたスリット形開口と垂直な方向に離
されて動きつる。１次ダイヤフラム素子上に光源が配置
され、その光ビームが検査さるべき対象に投射する２つ
のダイヤプラム素子により制限される。ダイヤフラム素
子は、所望の検査領域が入射光によりマークされるよう
離間して動かされる。ダイヤフラム素子は各制限位置を
占める。
検査領域が画成した後、ダイヤフラム素子は再びそれら
の通常位置に動かされ、これによりそれらは再びスリッ
ト形開口を形成する。検査さるべき対象へのＸ線照射中
、１次ダイヤフラムは、検査きるべき対象がＸ線に線状
に照射されるよう動かされる。しかし、検査さるべき対
象のそのような照射は、そのダイヤフラム素子がそれら
の各制限位置を占める１次ダイヤフラムの２つの位置間
でのみ実行される。従って、Ｘ線のこの照射は、！次ダ
イヤフラム素子がその制限位置に達する時に始められる
。続いて、１次ダイヤフラムは、２次ダイヤフラム素子
がその制限位置になるまで更に動かされる。次にＸ線照
射は終了する。
本装置において、検査領域に関して制限はない。
その理由は１次ダイヤフラムと検査領域間の動作の範囲
が無制限のままであるからである。しかし、スリット放
射線写真ＸＪＩＩ照射装置では検査領域が画成され２つ
のダイヤフラム素子の制限位置の選択だけによって光学
的に従われるので、磁界の結合は、依然として可能であ
る。
本発明による他の望ましい実施例では、これは手又はモ
ーターで２つのダイヤフラム素子をそれらの各制限位置
に動かすことにより実現されつる。
本発明による他の実施例は、１次ダイヤフラムのダイヤ
フラム素子がそれらの各制限位置間に位置する期間中の
みの照射中Ｘ線源を活性化する制御論理装置を有する。
制御論理装置は、選択された制限位置に従い、検査さる
べき対象が限定された検査領域にのみ照射されることを
確実にする。Ｘ線照射装置の構造により、いずれにせよ
、最大検査領域が１次スリットの対応する変位によりカ
バーされることを確実にしつる。しかし、その場合は、
Ｘ線源は１次ダイヤフラムのダイヤフラム素子がそれら
の各制限位置間に配置される時間中のみスイッチオンさ
れる。
以下図面を参照して本発明による一実施例を詳細に説明
する。
第１図の参照符号ｌはＸ線源、例えばＸ線管を示す；第
１図中、Ｘ線が出射される焦点だけが示される。Ｘ線源
ｌのビーム路において、該源ｌにより出射されたＸ線に
対し透過であり、横方向に配置された光源３からビーム
路への光を投映することのできるミラー２が配置される
。
ビーム路では、第１図において各制限位置を占める２つ
のダイヤフラム素子４及び４′からなる１次ダイヤプラ
ムが配置され、該制限位置は図中矢印Ａ．Ｂにより示さ
れる。ダイヤフラム素子は、図中、それらの懸架装置又
はモーター駆動を省いて概略的にのみ示される。
ビーム路では、次に検査きるべき対象５が（概略的に）
示され；対象の下に２つのダイヤフラム素子６及び６′
からなる２次ダイヤフラムが、配置される。２次ダイヤ
フラムのダイヤフラム素子６及び６′は、線形，スリッ
ト形開口を形成し、それを介してＸ線は、図中、概略的
にのみ示され、例えばＸ線フィルム又は光伝導体である
Ｘ線映像検出器７上に入射される。
１次ダイヤフラムの２つのダイヤフラム素子４及び４′
は（図には示されてない方法で）モーターにより変位さ
れ、制御は、Ｘ線源ｌを動作させるＸ線発生器８を制御
する制御論理装置７により実現される。
第１図用に選ばれた表示では、検査領域を画威する２つ
のダイヤフラム素子４及び４′は各制限位置を占める。
検査領域を画成する為、Ｘ線源ｌはスイッチオフされ、
光源３はスイッチオンされる。光源３により出射された
光は、ミラー２によりビーム路に投射され、２つのダイ
ヤフラム素子４及び４′により横方向に制限されて検査
さるべき対象５又は２つの２次ダイヤフラム素子６及び
６′により形成された検査面に入射する。検査さるべき
対象５又は検査面への入射光は検査領域をマークする。
検査領域のレベルで、１次スリットダイヤフラム素子４
及び４′の制限位置Ａ及びＢに対応する横の境界Ａ′及
びＢ′が形成される。
２つの１次スリットダイヤフラム素子４及び４′は、手
かモーターで第１図に示す制限位置に可動自在である。
第１図の照射装置を示す第２図の表示では、ｌ次スリッ
トダイヤフラムの２つのダイヤフラム素子４及び４′は
、それらの通常位置、即ちそれらが検査さるべき対象の
Ｘ線照射用の線形、スリット形開口を形成する位置で示
される。
ＸＪ１１照射中、１次スリットダイヤフラムの２つのダ
イヤフラム素子４及び４′と２次スリットダイヤフラム
の２つのダイヤフラム素子６及び６′は、互いに同期し
て動かされ、これによりそれらは、Ｘ線源゛の焦点ｌと
共に一つの面に配列されたままになる。
検査さるべき対象５のＸ線照射中、制御論理装置７はＸ
線発生器８及びＸ線源ｌを制御し、これにより、検査さ
るべき対象は、１次スリットダイヤフラムのダイヤフラ
ム素子４及び４′の制限位置Ａ及びＢに対応する位置Ａ
′及びＢ′間でだけ照射される。
ｌ次スリットダイヤフラム及び２次スリットダイヤフラ
ムの機械的変位は、最大の検査領域、例えば２次スリッ
トダイヤフラムの面での位置Ｃ′及びＤ′間で実現され
うる。その場合には例えば２次スリット面における位置
Ｃ′で始まり、もし初めにＸ線源がスイッチオフされる
なら、２次スリットと同様１次スリットは同期して動か
される。
Ｘ線源ｌがスイッチオンされるのは、１次スリットダイ
ヤフラムのダイヤフラム素子４がその制限位置Ａに達し
た後だけである。その場合には、Ｘ線は、２次スリット
面において矢印Ａ′の領域での放射線検出器７上に入射
する。続いて、１次スリットダイヤフラムのダイヤフラ
ム素子４及び４′及びダイヤフラム素子６及び６′は、
ダイヤフラム素子４′がその制限位置Ｂに達するまで更
に同期して動く。そう成るや否や、Ｘ線発生器８は、更
にＸ線が放射線源１により出射されないよう、制御論理
装置７によりスイッチオフされる１次スリットダイヤフ
ラムのダイヤフラム素子４及び４′及び２次スリットダ
イヤフラムのダイヤフラム素子６及び６′は必要なら更
に極限位置Ｄ′に動かされうる。
２つのダイヤフラムのダイヤフラム素子が、機械的に所
望の検査領域においてのみ又は極限位置（例えば、第２
図による位置Ｃ′及びＤ’）に動くかどうかにかかわら
ず、いずれにしても、検査さるべき対象は、１次スリッ
トダイヤフラム素子４及び４′の制限位置により画成さ
れた検査領域でのみ照射され、即ちＸ線源は、Ｘ線がこ
の領域内で検査さるべき対象に入射される時のみ活性化
されることは重要である。
１次スリットダイヤフラム素子４及び４′の動きは、図
面に示す如く必ずしも線形である必要はないことに注意
すべきであり、１次スリットダイヤプラム素子は、１次
ダイヤフラム及び２次ダイヤフラムのスリット及びＸ線
源の焦点１が整列されるようｘｍ源１の焦点の周りに回
動されてもよい。
【図面の簡単な説明】
第１図は１次ダイヤフラムのダイヤフラム素子はそれら
の制限位置で示されるＸ線照射装置の本質的部品の概略
的系統図、 第２図はＸ線照射中の第１図の装置を示す図である。 ■・・・Ｘ線源、２・・・ミラー　３・・・光源、４，
４′６．６′・・・ダイヤフラム素子、５・・・対象、
７・・・Ｘ線映像検出器、８・・・Ｘ線発生器。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）Ｘ線源（１）と放射線検出器（７）とからなり、
    Ｘ線源の放射線は、検査されるべき対象（５）に投射さ
    れる扇形ビームを形成するよう少なくとも１つの１次ダ
    イヤフラムのスリット形開口を貫通し、それを横切って
    直線的に案内されるＸ線照射装置であって、１次ダイヤ
    フラムは、その通常の位置にスリット形開口を形成し、
    検査領域を画成するよう夫々選択自在な制限位置に垂直
    にスリット方向に動かされうる少なくとも２つのダイヤ
    フラム素子（４、４′）からなり、検査されるべき対象
    （５）上への光のその投映は、それらの制限位置でのダ
    イヤフラム素子（４、４′）により制限され、検査領域
    をマークする光源（３）が設けられ、検査さるべき対象
    （５）のＸ線照射は、そのダイヤフラム素子（４、４′
    ）がそれらの各制限位置を占める１次ダイヤフラムの２
    つの位置の間でのみ生じることを特徴とするＸ線照射装
    置。
  2. （２）光源（３）の光はＸ線源（１）及び１次ダイヤフ
    ラム間に配置された偏向ミラー（２）により結合される
    ことを特徴とする請求項１記載のＸ線照射装置。
  3. （３）２つのダイヤフラム素子（４、４′）は手動でそ
    れらの各制限位置に調整されうることを特徴とする請求
    項２記載のＸ線照射装置。
  4. （４）２つのダイヤフラム素子（４、４′）はモーター
    によりそれらの各制限位置に調整されうることを特徴と
    する請求項１又は２記載のＸ線照射装置。
  5. （５）制限位置を蓄積し、Ｘ線照射の期間１次ダイヤフ
    ラムのダイヤフラム素子（４、４′）がそれらの各制限
    位置間に存在する期間に対してだけＸ線源（１）を活性
    化させる制限論理装置（７）を設けたことを特徴とする
    請求項３又は４記載のＸ線照射装置。
JP2222323A 1989-08-26 1990-08-23 Ｘ線照射装置 Pending JPH0393197A (ja)

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DE3928282A DE3928282A1 (de) 1989-08-26 1989-08-26 Roentgenaufnahmevorrichtung
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