JPH0387638A - ハードディスクの検査装置 - Google Patents
ハードディスクの検査装置Info
- Publication number
- JPH0387638A JPH0387638A JP22328989A JP22328989A JPH0387638A JP H0387638 A JPH0387638 A JP H0387638A JP 22328989 A JP22328989 A JP 22328989A JP 22328989 A JP22328989 A JP 22328989A JP H0387638 A JPH0387638 A JP H0387638A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hard disk
- inspection device
- cassette
- air
- dust
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- Pending
Links
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- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 6
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、ハードディスクの検査装置に関する。
(従来の技術)
従来から、清浄度が要求される部品の表面に付いている
塵埃を取り除くために、部品の表面にイオン化された清
浄空気を吹きつけて、イオン化された塵埃を中和して部
品の表面からの離脱を容易にして取り除いているものが
ある。
塵埃を取り除くために、部品の表面にイオン化された清
浄空気を吹きつけて、イオン化された塵埃を中和して部
品の表面からの離脱を容易にして取り除いているものが
ある。
例えば第3図において、ワーク7の上方には、高圧電源
3と圧縮空気源4に接続された除塵器5が設けられ、こ
の除塵器5の下面に設けられたノズル5bの噴出口内に
は、高圧電源3に接続された放電針5aとこの放電針5
aに対向して図示しない接地電位の電極が設けられてい
る。
3と圧縮空気源4に接続された除塵器5が設けられ、こ
の除塵器5の下面に設けられたノズル5bの噴出口内に
は、高圧電源3に接続された放電針5aとこの放電針5
aに対向して図示しない接地電位の電極が設けられてい
る。
このような除塵器5で下方に置かれたワーク7の表面に
付着した正に帯電した塵埃を取り除くときには、圧縮空
気g4から供給された空気を放電針5aと図示しない電
極間の放電でイオン化してワーク7に吹きつけることで
、塵埃の電荷を除いてワーク7からの離脱を容易にして
吹き飛ばしている。
付着した正に帯電した塵埃を取り除くときには、圧縮空
気g4から供給された空気を放電針5aと図示しない電
極間の放電でイオン化してワーク7に吹きつけることで
、塵埃の電荷を除いてワーク7からの離脱を容易にして
吹き飛ばしている。
一方、ハードディスクの表面の微小なきずなどの欠陥を
検査するハードディスクの検査装置のなかには、従来か
らレーザ光をハードディスクの表面に照射して、その反
射光のパターンを空間フィルタで分類して欠陥形態を映
像で検査する方法が採られている。
検査するハードディスクの検査装置のなかには、従来か
らレーザ光をハードディスクの表面に照射して、その反
射光のパターンを空間フィルタで分類して欠陥形態を映
像で検査する方法が採られている。
(発明が解決しようとする課題)
ところが、このような従来のハードディスクの検査装置
では、ハードディスクの表面に、もし、微小な塵埃がわ
ずかにでも付着していると、それを欠陥と誤認するおそ
れがある。
では、ハードディスクの表面に、もし、微小な塵埃がわ
ずかにでも付着していると、それを欠陥と誤認するおそ
れがある。
そのため、従来からハードディスクの表面は清浄にされ
、検査装置への搬入機や検査室内の空気も清浄に維持す
るよう考慮されているが、それでも取扱い中に発生する
塵埃がハードディスクの表面に付着するのを防ぐことは
むつかしい。
、検査装置への搬入機や検査室内の空気も清浄に維持す
るよう考慮されているが、それでも取扱い中に発生する
塵埃がハードディスクの表面に付着するのを防ぐことは
むつかしい。
その結果、従来のハードディスクの検査装置では、良品
を不良品と誤認して、ハードディスクの歩留り率を落と
す。
を不良品と誤認して、ハードディスクの歩留り率を落と
す。
そこで本発明の目的は、検査機の誤認によるハードディ
スクの歩留り低下を防ぐことのできるハードディスクの
検査装置を得ることである。
スクの歩留り低下を防ぐことのできるハードディスクの
検査装置を得ることである。
(課題を解決するための手段および作用)本発明は、カ
セット内に縦に収納されたハードディスクを光走査表面
検査器に供給して表面欠陥を検査するハードディスクの
検査装置において、カセット内に収納されたハードディ
スクに上からイオン化空気を吹きつけるトンネルと、こ
のトンネルの下流側に設けられた光走査表面検査器に縦
に装着されたハードディスクの光走査部に光走査と同時
にイオン化空気を吹付ける除塵器を設けることで、光走
査表面検査器に取付られたハードディスクの光走査部に
残存する塵埃を吹き飛ばして、光走査表面検査器の誤認
を防いで歩留り率を上げたハードディスクの検査装置で
ある。
セット内に縦に収納されたハードディスクを光走査表面
検査器に供給して表面欠陥を検査するハードディスクの
検査装置において、カセット内に収納されたハードディ
スクに上からイオン化空気を吹きつけるトンネルと、こ
のトンネルの下流側に設けられた光走査表面検査器に縦
に装着されたハードディスクの光走査部に光走査と同時
にイオン化空気を吹付ける除塵器を設けることで、光走
査表面検査器に取付られたハードディスクの光走査部に
残存する塵埃を吹き飛ばして、光走査表面検査器の誤認
を防いで歩留り率を上げたハードディスクの検査装置で
ある。
(実施例)
以下、本発明のハードディスクの検査装置の一実施例を
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
第工図は本発明のハードディスクの正面図、第2図は第
1図の要部を示す詳細図である。
1図の要部を示す詳細図である。
第工図において、左端の未検査供給部2の右側の下流側
の予備室15内には予備室コンベア11が設けられ、こ
の予備室コンベア11の下流端の上方には箱状のトンネ
ル9が予備室コンベア11の下流端を覆うように設けら
れ、このトンネル9の天井部にはノズル8aがトンネル
9の内部に突き出た除塵器8が縦に4組取付られ、この
除塵器8の上端の図示しない空圧継手に接続された空圧
ホース4aは別置の圧縮空気源4に接続され、ノズル8
a内の図示しない放電針は別置の高圧電源3に接続され
ている。
の予備室15内には予備室コンベア11が設けられ、こ
の予備室コンベア11の下流端の上方には箱状のトンネ
ル9が予備室コンベア11の下流端を覆うように設けら
れ、このトンネル9の天井部にはノズル8aがトンネル
9の内部に突き出た除塵器8が縦に4組取付られ、この
除塵器8の上端の図示しない空圧継手に接続された空圧
ホース4aは別置の圧縮空気源4に接続され、ノズル8
a内の図示しない放電針は別置の高圧電源3に接続され
ている。
又、予備室15の下流側には5図示しない仕切扉が取付
らけた隔壁12の下流側に検査室24が設けられ、この
検査室24内には上流端が予備室コンベア11の下流端
と接続された検査室コンベア13が設けられ、第2図で
示す表面検査器16と除塵機構20が収納されている。
らけた隔壁12の下流側に検査室24が設けられ、この
検査室24内には上流端が予備室コンベア11の下流端
と接続された検査室コンベア13が設けられ、第2図で
示す表面検査器16と除塵機構20が収納されている。
更に、第1図の要部詳細を示す第2図(a)とその右側
面図を示す同図(b)において1表面検査器16の手前
側には柱14が立設され、この柱14の上端には軸受枠
17が設けられ、この軸受枠17にはアーム18が設け
られ、このアーム18の右端には軸19aを軸として除
塵器19がノズル19cを右側にして取付られ、この除
塵器19のノズル19cの先端の図示しない放電針は別
置の高圧電源3の二次側に、除塵器I9の空圧継手は空
圧ホースで同じく別置の圧縮空気g4にそれぞれ接続さ
れている。
面図を示す同図(b)において1表面検査器16の手前
側には柱14が立設され、この柱14の上端には軸受枠
17が設けられ、この軸受枠17にはアーム18が設け
られ、このアーム18の右端には軸19aを軸として除
塵器19がノズル19cを右側にして取付られ、この除
塵器19のノズル19cの先端の図示しない放電針は別
置の高圧電源3の二次側に、除塵器I9の空圧継手は空
圧ホースで同じく別置の圧縮空気g4にそれぞれ接続さ
れている。
次に、このように構成されたハードディスクの検査装置
の作用を説明する。
の作用を説明する。
まず、第1図において、左端の未検査品供給部2内の図
示しないカセット内に収納された図示しないハードディ
スク1は、未検査品供給部2内に設けられた詳細省略し
た供給機@2aで予備室コンベア11の左端にカセット
10に収納された状態で送り出され、予備室コンベア1
1の駆動で右端のトンネル9内の所定の位置に搬入され
る。すると、図示しないリミットスイッチの信号で高圧
電源3の電圧がノズル8a内の図示しない放電針と電極
間に印加され、除塵器8に設けられた図示しない空圧弁
が開かれて圧縮空気源4から清浄な空気が供給される。
示しないカセット内に収納された図示しないハードディ
スク1は、未検査品供給部2内に設けられた詳細省略し
た供給機@2aで予備室コンベア11の左端にカセット
10に収納された状態で送り出され、予備室コンベア1
1の駆動で右端のトンネル9内の所定の位置に搬入され
る。すると、図示しないリミットスイッチの信号で高圧
電源3の電圧がノズル8a内の図示しない放電針と電極
間に印加され、除塵器8に設けられた図示しない空圧弁
が開かれて圧縮空気源4から清浄な空気が供給される。
するとこの空気は、前述の放電針と電極間に印加された
電圧による放電でイオン化されて、ノズル8aからカセ
ット10内のハードディスク1に吹き付けられる。そし
てその結果、ハードディスクエに付着していた塵埃は約
90%取り除かれる。
電圧による放電でイオン化されて、ノズル8aからカセ
ット10内のハードディスク1に吹き付けられる。そし
てその結果、ハードディスクエに付着していた塵埃は約
90%取り除かれる。
次に、この除塵されたハードディスクtは、カセット1
0とともに予備室コンベア11で検査室14内の検査室
コンベア13に移送されて所定の位置に停められ、図示
しない供給機構のアームでカセット10の片側から順に
抜かれて、表面検査器16のレーザ照射位置に縦に保持
されるとともに、図示しない回転機構で回転されながら
レーザ光を照射され、このレーザ光の照射と同時に走査
部にイオン化空気がレーザ照射部に斜めに吹き付けられ
ることで、表面に残存していたハードディスク1の塵埃
は完全に吹き飛ばされる。
0とともに予備室コンベア11で検査室14内の検査室
コンベア13に移送されて所定の位置に停められ、図示
しない供給機構のアームでカセット10の片側から順に
抜かれて、表面検査器16のレーザ照射位置に縦に保持
されるとともに、図示しない回転機構で回転されながら
レーザ光を照射され、このレーザ光の照射と同時に走査
部にイオン化空気がレーザ照射部に斜めに吹き付けられ
ることで、表面に残存していたハードディスク1の塵埃
は完全に吹き飛ばされる。
この結果、発明者の一試運転結果では、第2図の除塵器
19を使わないときに比べて、同一ロットのハードディ
スク1の歩留り率を約20%向上させることができた。
19を使わないときに比べて、同一ロットのハードディ
スク1の歩留り率を約20%向上させることができた。
これは、第1図のトンネル9内での除塵で残っていた塵
埃が、第2図の除塵器19での部分的イオン化空気の吹
付けで、少なくともレーザ走査中の照射部からはほぼ完
全に吹き飛ばされた結果と考える。
埃が、第2図の除塵器19での部分的イオン化空気の吹
付けで、少なくともレーザ走査中の照射部からはほぼ完
全に吹き飛ばされた結果と考える。
以上、本発明によれば、カセット内に縦に収納されたハ
ードディスクを光走査表面検査器に供給して表面欠陥を
検査するハードディスクの検査装置において、カセット
内に収納されたハードディスクに上からイオン化空気を
吹き付けるトンネルと、このトンネルの下流側に設けら
れた光走査表面検査器に縦に装着されたハードディスク
の光走査部にイオン化空気を吹付ける除塵器を設けるこ
とで、光走査表面検査器に取付られたハードディスクの
光走査部に残っていた塵埃を吹き飛ばして光走査表面検
査器の誤認を防いだので、ハードディスクの歩留り率を
上げることのできるハードディスクの検査装置を得るこ
とができる。
ードディスクを光走査表面検査器に供給して表面欠陥を
検査するハードディスクの検査装置において、カセット
内に収納されたハードディスクに上からイオン化空気を
吹き付けるトンネルと、このトンネルの下流側に設けら
れた光走査表面検査器に縦に装着されたハードディスク
の光走査部にイオン化空気を吹付ける除塵器を設けるこ
とで、光走査表面検査器に取付られたハードディスクの
光走査部に残っていた塵埃を吹き飛ばして光走査表面検
査器の誤認を防いだので、ハードディスクの歩留り率を
上げることのできるハードディスクの検査装置を得るこ
とができる。
第1図は本発明のハードディスクの検査装置の一実施例
を示す図、第2図(a)は第1図の要部詳細図、第2図
(b)は第2図(a)の右側面図、第3図は従来のハー
ドディスクの検査装置を示す図である。 1・・・ハードディスク 9・・・トンネル10・
・・カセット 16・・・光走査検出器19
・・・除塵器 (8733) 代理人 弁理士 猪 股 祥 晃(ほ
か1名)辛 憫 3“)等2 図 (谷〕
を示す図、第2図(a)は第1図の要部詳細図、第2図
(b)は第2図(a)の右側面図、第3図は従来のハー
ドディスクの検査装置を示す図である。 1・・・ハードディスク 9・・・トンネル10・
・・カセット 16・・・光走査検出器19
・・・除塵器 (8733) 代理人 弁理士 猪 股 祥 晃(ほ
か1名)辛 憫 3“)等2 図 (谷〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 カセット内に縦に収納されたハードディスクを光走査表
面検査器に供給して表面欠陥を検査するハードディスク
の検査装置において、 前記カセット内に収納されたハードディスクに上からイ
オン化空気を吹きつけるトンネルと、このトンネルの下
流側に設けられた前記光走査表面検査器に縦に装着され
た前記カセットの光走査部に前記光走査表面検査器の光
走査と同時にイオン化空気を吹付ける除塵器を設けたこ
とを特徴とするハードディスクの検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22328989A JPH0387638A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | ハードディスクの検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22328989A JPH0387638A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | ハードディスクの検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0387638A true JPH0387638A (ja) | 1991-04-12 |
Family
ID=16795805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22328989A Pending JPH0387638A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | ハードディスクの検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0387638A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0537186A (ja) * | 1991-07-25 | 1993-02-12 | Nippon Chemicon Corp | 異物除去装置 |
CN102539440A (zh) * | 2011-12-29 | 2012-07-04 | 王锦峰 | 一种邦定检测设备 |
US8310667B2 (en) | 2005-08-11 | 2012-11-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Wafer surface inspection apparatus and wafer surface inspection method |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP22328989A patent/JPH0387638A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0537186A (ja) * | 1991-07-25 | 1993-02-12 | Nippon Chemicon Corp | 異物除去装置 |
US8310667B2 (en) | 2005-08-11 | 2012-11-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Wafer surface inspection apparatus and wafer surface inspection method |
CN102539440A (zh) * | 2011-12-29 | 2012-07-04 | 王锦峰 | 一种邦定检测设备 |
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