JPH0383937A - ジクロロペンタフルオロプロパンの製法 - Google Patents
ジクロロペンタフルオロプロパンの製法Info
- Publication number
- JPH0383937A JPH0383937A JP21755389A JP21755389A JPH0383937A JP H0383937 A JPH0383937 A JP H0383937A JP 21755389 A JP21755389 A JP 21755389A JP 21755389 A JP21755389 A JP 21755389A JP H0383937 A JPH0383937 A JP H0383937A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- tetrafluoroethylene
- dichloropentafluoropropane
- catalyst
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- WWNLOOSSVHRIFJ-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-trichloro-1,1,2,2-tetrafluoropropane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)C(Cl)Cl WWNLOOSSVHRIFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 abstract description 4
- IQJADVFBZGJGSI-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3-tetrachloro-2,2,3,3-tetrafluoropropane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl IQJADVFBZGJGSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 abstract description 3
- UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)C(F)(F)Cl UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 abstract 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 64
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 25
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 8
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229910001055 inconels 600 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co] Chemical compound [Cr].[Co] WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- -1 heptane Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- OPLWDQVQIWKMSG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-fluoropropane Chemical class CCC(F)Cl OPLWDQVQIWKMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJFUEPJVIFJOOU-UHFFFAOYSA-N 2-perfluorobutyltetrahydrofuran Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1CCCO1 CJFUEPJVIFJOOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- MMZNUCVCUUYOPO-UHFFFAOYSA-N Dammar-24-ene-3,20,26-triol-(3beta,20S)-form Natural products C12OC2C2(O)CC=CC(=O)C2(C)C(CCC23C)C1C3CCC12OC(C)(C(C)(O)C(O)O2)CC2C1C MMZNUCVCUUYOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019804 NbCl5 Inorganic materials 0.000 description 1
- UGNWWWXQCONFKB-UHFFFAOYSA-N Nic 11 Natural products CC1C2CC(COC13CCC4C5C6OC6C7(O)CC=CC(=O)C7(C)C5CCC34C)C(C)(O)C(O)O2 UGNWWWXQCONFKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGFWCZMBHASRBJ-UHFFFAOYSA-N Nic-11 Natural products C1CC2OC(C(C)(C)O)CCC2(C)C(C2O)C1(C)OC1=C2C(=O)C=C(C(C)C(OC(C)=O)C(C)=CC)C1=O CGFWCZMBHASRBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007932 ZrCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N butyl alcohol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N dichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)Cl UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940099364 dichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YVBBRRALBYAZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、3.3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペ
ンタフルオロプロパン(R225ca) 、1.3−ジ
クロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン
(R225cb)等のジクロロペンタフルオロプロパン
(R225)の製法に関するものである。含水素クロロ
フルオロプロパン類は従来から用いられてきたフロン類
と同様に発泡剤、冷媒、洗浄剤等の用途が期待される。
ンタフルオロプロパン(R225ca) 、1.3−ジ
クロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン
(R225cb)等のジクロロペンタフルオロプロパン
(R225)の製法に関するものである。含水素クロロ
フルオロプロパン類は従来から用いられてきたフロン類
と同様に発泡剤、冷媒、洗浄剤等の用途が期待される。
[従来の技術及び問題点]
ジクロロペンタフルオロプロパン(R225)の製法と
しては、従来塩化アルミニウムの存在下にテトラフルオ
ロエチレンにジクロロフルオロメタンを付加させて合成
する方法が知られている。しかし、この方法は目的生成
物と同時に目的生成物と沸点が近く蒸留等通常の方法で
は分離困難な反応副生物を生成するため純度の高い製品
を得るには多段の精製工程が必要であるという欠点を有
している。
しては、従来塩化アルミニウムの存在下にテトラフルオ
ロエチレンにジクロロフルオロメタンを付加させて合成
する方法が知られている。しかし、この方法は目的生成
物と同時に目的生成物と沸点が近く蒸留等通常の方法で
は分離困難な反応副生物を生成するため純度の高い製品
を得るには多段の精製工程が必要であるという欠点を有
している。
[問題点を解決するための手段]
本発明者は ジクロロペンタフルオロプロパン(R22
5)の効率的製造法について鋭意検討を行なった結果、
テトラフルオロエチレンに四塩化炭素(R10)を付加
せしめて1. l、 1.3−テトラクロロテトラフル
オロプロパン(R214cb)を生成せしめた後、これ
を還元して1,3.3−トリクロロ−1,1,2,2−
テトラフルオロブロバン(R224ca)を生成せしめ
、次いでこれをフッ素化することにより、高収率でジク
ロロペンタフルオロプロパン(R225)が得られるこ
とを見いだし本発明を提供するに至ったものである。
5)の効率的製造法について鋭意検討を行なった結果、
テトラフルオロエチレンに四塩化炭素(R10)を付加
せしめて1. l、 1.3−テトラクロロテトラフル
オロプロパン(R214cb)を生成せしめた後、これ
を還元して1,3.3−トリクロロ−1,1,2,2−
テトラフルオロブロバン(R224ca)を生成せしめ
、次いでこれをフッ素化することにより、高収率でジク
ロロペンタフルオロプロパン(R225)が得られるこ
とを見いだし本発明を提供するに至ったものである。
以下本発明の詳細について実施例とともに説明する。
すなわちルイス酸触媒の存在下、不活性な溶媒中もしく
は無溶媒でテトラフルオロエチレンに四塩化炭素(RI
O)を付加反応させると、下式に示すように1.1,1
.3−テトラクロロテトラフルオロプロパン(R214
cb) CFa =CF2 + CCl4ルイス酸触媒 −CCIF、 CF、 CCI。
は無溶媒でテトラフルオロエチレンに四塩化炭素(RI
O)を付加反応させると、下式に示すように1.1,1
.3−テトラクロロテトラフルオロプロパン(R214
cb) CFa =CF2 + CCl4ルイス酸触媒 −CCIF、 CF、 CCI。
が高収率で得られる。本反応に用いるルイス酸触媒とし
ては、B 、 AI、 Ga、 In、 Fe、 Ni
、 Go。
ては、B 、 AI、 Ga、 In、 Fe、 Ni
、 Go。
Sb、 Nb、 Sn、 Ti、 Zr、 WおよびT
aからなる群から選ばれる少なくとも1個の元素を含む
ハロゲン化物、例えばBFs、 AlCIn 、 Ga
C15。
aからなる群から選ばれる少なくとも1個の元素を含む
ハロゲン化物、例えばBFs、 AlCIn 、 Ga
C15。
InC15、FeC15、NiC11、CoC1a
、 5bF1NbC1s 、5nC1*TiCl4
、 ZrCl4 、WCla 、TaC1g等が
使用可能である。また反応はパーフルオロオクタンやパ
ーフルオロブチルテトラヒドロフランなどの不活性な溶
媒が好適であるが、精製を容易にするために通常は無溶
媒で行なうのが特に好ましい。
、 5bF1NbC1s 、5nC1*TiCl4
、 ZrCl4 、WCla 、TaC1g等が
使用可能である。また反応はパーフルオロオクタンやパ
ーフルオロブチルテトラヒドロフランなどの不活性な溶
媒が好適であるが、精製を容易にするために通常は無溶
媒で行なうのが特に好ましい。
触媒量は原料に対して通常0.01〜50重量%、好ま
しくは0.1〜10重量%用いる。反応温度は通常−4
0〜200℃、好ましくは20〜100℃の温度範囲で
行なわれ、反応圧は0〜20kg7cm”が適当であり
、特には0〜10kg7cm”が好ましい。
しくは0.1〜10重量%用いる。反応温度は通常−4
0〜200℃、好ましくは20〜100℃の温度範囲で
行なわれ、反応圧は0〜20kg7cm”が適当であり
、特には0〜10kg7cm”が好ましい。
本反応によって得られた1、 1. l、 3−テトラ
クロロテトラフルオロプロパン(R214cb)の還元
は光照射下に行う方法、亜鉛を用いて行う方法、触媒の
存在下水素を用いて行う方法など種々の還元方法を用い
て行うことができる。
クロロテトラフルオロプロパン(R214cb)の還元
は光照射下に行う方法、亜鉛を用いて行う方法、触媒の
存在下水素を用いて行う方法など種々の還元方法を用い
て行うことができる。
還元を光照射下に行なう場合においてプロトン源として
用いる化合物としては、水素原子が結合した有機化合物
であれば特に限定されないが、例えばメタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、5eC−ブチルアル
コールなどのアルコール類、ヘキサン、ヘプタンなどの
アルカン類、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物が
好ましく、なかでもイソプロピルアルコールなどの二級
アルコールが特に好ましい。
用いる化合物としては、水素原子が結合した有機化合物
であれば特に限定されないが、例えばメタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、5eC−ブチルアル
コールなどのアルコール類、ヘキサン、ヘプタンなどの
アルカン類、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物が
好ましく、なかでもイソプロピルアルコールなどの二級
アルコールが特に好ましい。
またこれ等の混合溶媒も使用可能である。
本発明で用いる光源としては400nm以下の波長の光
を発生するものであれば特に限定されないが、例えば、
高圧水銀灯、中圧水銀灯、低圧水銀灯等が好ましい。
反応は通常 −80〜100℃、好ましくは0〜40℃
の温度範囲で行われる。また圧力も特に限定されないが
通常O〜10kg/cm”、好ましくはO〜20kg/
cm” Gの圧力範囲で行うのが良い。
を発生するものであれば特に限定されないが、例えば、
高圧水銀灯、中圧水銀灯、低圧水銀灯等が好ましい。
反応は通常 −80〜100℃、好ましくは0〜40℃
の温度範囲で行われる。また圧力も特に限定されないが
通常O〜10kg/cm”、好ましくはO〜20kg/
cm” Gの圧力範囲で行うのが良い。
亜鉛を用いて還元する際に用いる溶媒としては、特に限
定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピル
アルコールなどのアルコール類、酢酸や蟻酸などの有機
酸、テトラヒドロフランなどのエーテル類や水さらには
これらの混合物を用いることが好ましく、なかでもメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのア
ルコール類を使用するのが好適である。亜鉛としては粉
末、顆粒、削り片等いずれの形状のものでも使用できる
が、亜鉛粉末を用いるのが最も好ましい。また使用前に
特別な活性化処理などを施す必要はない。使用する亜鉛
の量は特に限定されるものではないが通常出発原料に対
して当モル以上用いるのが好ましい。反応は通常、常温
〜150℃、好ましくは50〜80℃の温度範囲で行わ
れる。また圧力も特に限定されないが通常O〜10kg
/Cm”、好ましくはO〜3 kg/cm”Gの圧力範
囲で行うのが良い。
定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピル
アルコールなどのアルコール類、酢酸や蟻酸などの有機
酸、テトラヒドロフランなどのエーテル類や水さらには
これらの混合物を用いることが好ましく、なかでもメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのア
ルコール類を使用するのが好適である。亜鉛としては粉
末、顆粒、削り片等いずれの形状のものでも使用できる
が、亜鉛粉末を用いるのが最も好ましい。また使用前に
特別な活性化処理などを施す必要はない。使用する亜鉛
の量は特に限定されるものではないが通常出発原料に対
して当モル以上用いるのが好ましい。反応は通常、常温
〜150℃、好ましくは50〜80℃の温度範囲で行わ
れる。また圧力も特に限定されないが通常O〜10kg
/Cm”、好ましくはO〜3 kg/cm”Gの圧力範
囲で行うのが良い。
還元を触媒の存在下水素を用いて行う場合、液相、気相
いずれの系も取り得る。還元触媒としては白金、パラジ
ウム、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒、ニッケ
ルなどの非金属触媒いずれも使用可能であるが、なかで
も貴金属触媒を使用するのが特に好ましい。還元触媒の
担体としては、例えば、アルミナ、活性炭等が好適であ
る。担持方法は、従来の貴金属触媒の調製法が適用可能
である。なお、使用に当たってはあらかじめ触媒の還元
処理を施しておくことが安定した特性を得る上で好まし
いが、必ずしも行なう必要はない。かかる金属の化合物
は少なくとも一部還元する。
いずれの系も取り得る。還元触媒としては白金、パラジ
ウム、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒、ニッケ
ルなどの非金属触媒いずれも使用可能であるが、なかで
も貴金属触媒を使用するのが特に好ましい。還元触媒の
担体としては、例えば、アルミナ、活性炭等が好適であ
る。担持方法は、従来の貴金属触媒の調製法が適用可能
である。なお、使用に当たってはあらかじめ触媒の還元
処理を施しておくことが安定した特性を得る上で好まし
いが、必ずしも行なう必要はない。かかる金属の化合物
は少なくとも一部還元する。
水素と原料の割合は大幅に変動させ得る。通常、化学量
論量の水素を使用してハロゲン原子を除去するが、原料
をほぼ完全に反応させるために出発物質の全モル数に対
して化学量論量よりかなり多い量、例えば4倍モルまた
はそれ以上の水素を使用してもよい。
論量の水素を使用してハロゲン原子を除去するが、原料
をほぼ完全に反応させるために出発物質の全モル数に対
して化学量論量よりかなり多い量、例えば4倍モルまた
はそれ以上の水素を使用してもよい。
反応温度は、気相反応においては 100〜350℃が
適当であり特には100〜200℃が好ましい。接触時
間は通常o、i〜300秒、特には2〜60秒が好まし
い、液相で反応を行なう場合において用いる溶媒として
はエタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール
類、酢酸、ピリジン等が上げられるが、無溶媒で行なう
ことも可能である。液相反応での反応温度は常温〜15
0℃が好ましく、また反応圧力は常圧〜10kg/cm
”が好ましい。
適当であり特には100〜200℃が好ましい。接触時
間は通常o、i〜300秒、特には2〜60秒が好まし
い、液相で反応を行なう場合において用いる溶媒として
はエタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール
類、酢酸、ピリジン等が上げられるが、無溶媒で行なう
ことも可能である。液相反応での反応温度は常温〜15
0℃が好ましく、また反応圧力は常圧〜10kg/cm
”が好ましい。
本反応によって得られた1、3.3−トリクロロ1.1
,2.2−テトラフルオロプロパン(R224ca)の
フッ素化は触媒の存在下気相あるいは液相でフッ化水素
を用いることにより行なうことができる。気相系で用い
る触媒としてはAI、 Cr。
,2.2−テトラフルオロプロパン(R224ca)の
フッ素化は触媒の存在下気相あるいは液相でフッ化水素
を用いることにより行なうことができる。気相系で用い
る触媒としてはAI、 Cr。
Mg、 Ca、 Ba、 Sr、 Fe、 Ni、 G
oおよびMnからなる群から選ばれる少なくとも1個の
元素を含むハロゲン化物または酸化物が使用可能である
。
oおよびMnからなる群から選ばれる少なくとも1個の
元素を含むハロゲン化物または酸化物が使用可能である
。
触媒の調製法としては、上記の元素から選ばれる少なく
とも1個の元素を含むハロゲン化物または酸化物を均質
に分散できる方法であればいずれの方法でも採用可能で
ある0例えば、共沈法、混線法が挙げられる。特に好ま
しくは、上記の金属元素の塩の水溶液から水和物を共沈
させる方法、あるいは水酸化物のケーキを、ボールミル
、ホモジナイザーなどで混線、摩砕する方法である。水
酸化物は、硝酸塩、硫酸塩などの無機塩類の水溶液から
アンモニア水、尿素などを用いて沈澱させたもの、有機
塩類の加水分解により調製したものなどいずれも採用で
きる。
とも1個の元素を含むハロゲン化物または酸化物を均質
に分散できる方法であればいずれの方法でも採用可能で
ある0例えば、共沈法、混線法が挙げられる。特に好ま
しくは、上記の金属元素の塩の水溶液から水和物を共沈
させる方法、あるいは水酸化物のケーキを、ボールミル
、ホモジナイザーなどで混線、摩砕する方法である。水
酸化物は、硝酸塩、硫酸塩などの無機塩類の水溶液から
アンモニア水、尿素などを用いて沈澱させたもの、有機
塩類の加水分解により調製したものなどいずれも採用で
きる。
水和物の状態にある触媒は、120〜150℃で乾燥し
た後通常300〜600℃、好ましくは350〜450
℃で焼成するのが好ましい。
た後通常300〜600℃、好ましくは350〜450
℃で焼成するのが好ましい。
本発明においては触媒の活性化を施すのが望ましく、通
常、100〜450℃で、好ましくは200〜350℃
でフッ素化処理を施すことにより目的を達成できる。ま
た、フッ素化反応系内で活性化しても良いし、フッ素化
炭化水素との加熱処理によっても行ない得る。反応は気
相中宮圧もしくは加圧下で、150℃〜550℃、特に
好ましくは、250℃〜450℃の温度範囲で行なうこ
とが適当である。フッ化水素と出発原料の割合は大幅に
変動させ得る。しかしながら、通常、化学量論量のフッ
化水素を使用して塩素原子を置換する。出発物質の全モ
ル数に対して。
常、100〜450℃で、好ましくは200〜350℃
でフッ素化処理を施すことにより目的を達成できる。ま
た、フッ素化反応系内で活性化しても良いし、フッ素化
炭化水素との加熱処理によっても行ない得る。反応は気
相中宮圧もしくは加圧下で、150℃〜550℃、特に
好ましくは、250℃〜450℃の温度範囲で行なうこ
とが適当である。フッ化水素と出発原料の割合は大幅に
変動させ得る。しかしながら、通常、化学量論量のフッ
化水素を使用して塩素原子を置換する。出発物質の全モ
ル数に対して。
化学量論量よりかなり多い量、例えば4倍モルまたはそ
れ以上のフッ化水素を使用し得る。
れ以上のフッ化水素を使用し得る。
接触時間は、通常0.1〜300秒、特に好ましくは5
〜30秒である。
〜30秒である。
液相系で用いる触媒としてはSb 、 Nb、 Ta
。
。
Sn等のハロゲン化物、例えば、5bFs、 5bC1
s 。
s 。
5bChFs r NbCl5 + NbFs+ Ta
F5. TaCl5.5nC14等よりなるフッ素化触
媒が使用可能である。
F5. TaCl5.5nC14等よりなるフッ素化触
媒が使用可能である。
フッ素化反応は液相中宮圧もしくは加圧下で、0〜20
0℃、特に好ましくは常温〜150℃の温度範囲で行な
うことが適当である0本発明において反応は通常無溶媒
で行うが、溶媒を用いてもよく、この場合に用いられる
溶媒は、原料であるプロパン類を溶かし込み、さらに溶
媒自身が原料よりフッ素化されにくいものであれば特に
限定されない。又、反応圧は通常O〜10kg/c+s
’で行うのが適当であり、溶媒を用いる場合は溶媒の種
類等によっても異なる。
0℃、特に好ましくは常温〜150℃の温度範囲で行な
うことが適当である0本発明において反応は通常無溶媒
で行うが、溶媒を用いてもよく、この場合に用いられる
溶媒は、原料であるプロパン類を溶かし込み、さらに溶
媒自身が原料よりフッ素化されにくいものであれば特に
限定されない。又、反応圧は通常O〜10kg/c+s
’で行うのが適当であり、溶媒を用いる場合は溶媒の種
類等によっても異なる。
フッ化水素は反応前にあらかじめ仕込んでおいてもかま
わないが、反応時液相へ吹き込む方が好適である。
わないが、反応時液相へ吹き込む方が好適である。
以上の如く、本発明はテトラフルオロエチレンに四塩化
炭素を付加せしめて1,1,1.3−テトラクロロテト
ラフルオロプロパン(R214cb) 全生成せしめた
後、これを還元してl、 3.3−トリクロロ1,1,
2.2−テトラフルオロプロパン(R224Ca)を生
成せしめ、次いでこれをフッ素化することにより、高収
率でジクロロペンタフルオロプロパン(R225)を製
造する方法を提供するものである。
炭素を付加せしめて1,1,1.3−テトラクロロテト
ラフルオロプロパン(R214cb) 全生成せしめた
後、これを還元してl、 3.3−トリクロロ1,1,
2.2−テトラフルオロプロパン(R224Ca)を生
成せしめ、次いでこれをフッ素化することにより、高収
率でジクロロペンタフルオロプロパン(R225)を製
造する方法を提供するものである。
[実施例]
以下、本発明の実施例を示す。
調製例1
1200 gのCr(NOl)、 −9H,0と 10
0gのMg(NOs)16 HiOを2.5リツトルの
水に溶解し、これと28%の水酸化アンモニウムの水溶
液2000 gを撹拌しながら、加熱した4リツトルの
水に添加して水酸化物の沈殿を得た。これを濾別し、純
水による洗浄、および乾燥を行なった後、450℃で5
時間焼成して酸化物の粉末を得た。これを打錠成型機を
用いて直径5mm、高さ5m+aの円筒状に成型した。
0gのMg(NOs)16 HiOを2.5リツトルの
水に溶解し、これと28%の水酸化アンモニウムの水溶
液2000 gを撹拌しながら、加熱した4リツトルの
水に添加して水酸化物の沈殿を得た。これを濾別し、純
水による洗浄、および乾燥を行なった後、450℃で5
時間焼成して酸化物の粉末を得た。これを打錠成型機を
用いて直径5mm、高さ5m+aの円筒状に成型した。
こうして得た触媒を反応前にフッ化水素/窒素の混合ガ
ス気流中、200〜400℃でフッ素化して活性化した
。
ス気流中、200〜400℃でフッ素化して活性化した
。
調製例2
1100gの特級試薬Al (NOx) s・9820
.125 gのCr(NOx)s ・9 HtOと40
gのMg(NOs)z ・6 HiOを2.5リツトル
の水に溶解し、これと28%の水酸化アンモニウムの水
溶液2000 gを撹拌しながら、加熱した4リツトル
の水に添加して水酸化物の沈殿を得た。これを濾別し、
純水による洗浄、および乾燥を行なった後、450℃で
5時間焼成して酸化物の粉末を得た。これを打錠成型機
を用いて直径511Im、高さ5mmの円筒状に成型し
た。こうして得た触媒を反応前にフッ化水素/窒素の混
合ガス気流中、200〜400℃でフッ素化して活性化
した。
.125 gのCr(NOx)s ・9 HtOと40
gのMg(NOs)z ・6 HiOを2.5リツトル
の水に溶解し、これと28%の水酸化アンモニウムの水
溶液2000 gを撹拌しながら、加熱した4リツトル
の水に添加して水酸化物の沈殿を得た。これを濾別し、
純水による洗浄、および乾燥を行なった後、450℃で
5時間焼成して酸化物の粉末を得た。これを打錠成型機
を用いて直径511Im、高さ5mmの円筒状に成型し
た。こうして得た触媒を反応前にフッ化水素/窒素の混
合ガス気流中、200〜400℃でフッ素化して活性化
した。
実施例 1
10I2のハステロイC製オートクレーブに無水塩化ア
ルミニウム、 0.5 kg (3,7mol)を加え
て減圧脱気した後、R10(CC14) 9 kg(5
8,5mol )を加えた。オートクレーブを65℃に
加温した後、反応温度を65〜80℃に保ちながらテト
ラフルオロエチレンを加え続けた。テトラフルオロエチ
レンを4 kg(40mol)加えた後さらに1時間撹
拌を続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製すること
により、R214cb (1,1゜1.3−テトラクロ
ロテトラフルオロプロパン)が6.5kg得られた(収
率85%)。次いで内径2、54cm、長さ100c+
nのインコネル600製U字型反応管に活性炭担持の白
金触媒(担持率0.5%) 100mQを充填して還元
反応器とし、反応器を120℃に保持した。これにガス
化させたR、214 cbを120m12/分、水素ガ
スを180+n(2/分で供給し、反応を進めた。酸分
を除去した後−78℃に冷却したトラップに反応粗液5
.4kgを回収しガスクロ及び”F −N M Rを用
いて分析した。結果を第1表に示す。
ルミニウム、 0.5 kg (3,7mol)を加え
て減圧脱気した後、R10(CC14) 9 kg(5
8,5mol )を加えた。オートクレーブを65℃に
加温した後、反応温度を65〜80℃に保ちながらテト
ラフルオロエチレンを加え続けた。テトラフルオロエチ
レンを4 kg(40mol)加えた後さらに1時間撹
拌を続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製すること
により、R214cb (1,1゜1.3−テトラクロ
ロテトラフルオロプロパン)が6.5kg得られた(収
率85%)。次いで内径2、54cm、長さ100c+
nのインコネル600製U字型反応管に活性炭担持の白
金触媒(担持率0.5%) 100mQを充填して還元
反応器とし、反応器を120℃に保持した。これにガス
化させたR、214 cbを120m12/分、水素ガ
スを180+n(2/分で供給し、反応を進めた。酸分
を除去した後−78℃に冷却したトラップに反応粗液5
.4kgを回収しガスクロ及び”F −N M Rを用
いて分析した。結果を第1表に示す。
第
表
反応粗液を蒸留積ることにより、R224ca(1,3
,3−トリクロロ−1,1,2,2−テトラフルオロプ
ロパン)を4.1kg得た(収率73%)。次に内径2
.54cm s長さ1oOc+nのインコネル600製
U字型反応管をフッ素化反応器とし、調製例1で示した
ように調製したフッ素化触媒を200m(2充填した。
,3−トリクロロ−1,1,2,2−テトラフルオロプ
ロパン)を4.1kg得た(収率73%)。次に内径2
.54cm s長さ1oOc+nのインコネル600製
U字型反応管をフッ素化反応器とし、調製例1で示した
ように調製したフッ素化触媒を200m(2充填した。
反応器を280℃に加熱しガス化させたR224caを
160d/分、フッ化水素を440rnQ/分で供給し
、反応を進めた。反応粗ガスをアルカリ水層に通して粗
液3.7kgを回収しガスクロ及び”F −N M R
を用いて分析した。
160d/分、フッ化水素を440rnQ/分で供給し
、反応を進めた。反応粗ガスをアルカリ水層に通して粗
液3.7kgを回収しガスクロ及び”F −N M R
を用いて分析した。
結果を第2表に示す。
第2表
反応粗液を蒸留精製することにより、R225(ジクロ
ロペンタフルオロプロパン)が2.5kg得られた(収
率67%)。
ロペンタフルオロプロパン)が2.5kg得られた(収
率67%)。
実施例 2
1t[のハステロイC製オートクレーブに無水塩化アル
ミニウム、 0.5 kg (3,7mol )を加え
て減圧脱気した後、R10(CC1,) 9 kg (
58,5mol )を加えた。オートクレーブを65℃
に加温した後、反応温度を65〜80℃に保ちながらテ
トラフルオロエチレンを加え続けた。テトラフルオロエ
チレンを3 kg (30mol)加えた後さらに1時
間撹拌を続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製する
ことにより、R214cb (1,1,1,3−テトラ
クロロテトラフルオロプロパン)が6.5 kg得られ
た(収率85%) 次いで内径2、54CD+、長さ1
00cmのインコネル600製U字型反応管に活性炭担
持の白金触媒(担持率0.5%) 100m12を充填
して還元反応器とし、反応器を 120℃に保持した。
ミニウム、 0.5 kg (3,7mol )を加え
て減圧脱気した後、R10(CC1,) 9 kg (
58,5mol )を加えた。オートクレーブを65℃
に加温した後、反応温度を65〜80℃に保ちながらテ
トラフルオロエチレンを加え続けた。テトラフルオロエ
チレンを3 kg (30mol)加えた後さらに1時
間撹拌を続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製する
ことにより、R214cb (1,1,1,3−テトラ
クロロテトラフルオロプロパン)が6.5 kg得られ
た(収率85%) 次いで内径2、54CD+、長さ1
00cmのインコネル600製U字型反応管に活性炭担
持の白金触媒(担持率0.5%) 100m12を充填
して還元反応器とし、反応器を 120℃に保持した。
これにガス化させたR214cbを120 mQ/分、
水素ガスを180 m91分で供給し、反応を進めた。
水素ガスを180 m91分で供給し、反応を進めた。
酸分を除去した後−78℃に冷却したトラップに反応粗
液5.5kgを回収しガスクロ及び”F−NMRを用い
て分析した。結果を第3表に示す。
液5.5kgを回収しガスクロ及び”F−NMRを用い
て分析した。結果を第3表に示す。
第
表
反応粗液を蒸留精製することにより、R224ca(1
,3,3−トリクロロ−1,1,2,2−テトラフルオ
ロプロパン)を4.1kg得た(収率73%)。
,3,3−トリクロロ−1,1,2,2−テトラフルオ
ロプロパン)を4.1kg得た(収率73%)。
次に内径2.54cm、長さ100cmのインコネル6
00製U字型反応管をフッ素化反応器とし、調製例2で
示したように調製したフッ素化触媒を200m(2充填
した。反応器を320℃に加熱しガス化させたR224
caを160 rnQ/分、フッ化水素を440m(2
/分で供給し、反応を進めた。反応粗ガスをアルカリ水
層に通して粗液3.8kgを回収しガスクロ及び”F
−N M Rを用いて分析した。
00製U字型反応管をフッ素化反応器とし、調製例2で
示したように調製したフッ素化触媒を200m(2充填
した。反応器を320℃に加熱しガス化させたR224
caを160 rnQ/分、フッ化水素を440m(2
/分で供給し、反応を進めた。反応粗ガスをアルカリ水
層に通して粗液3.8kgを回収しガスクロ及び”F
−N M Rを用いて分析した。
結果を第4表に示す。
第4表
反応粗液を蒸留精製することにより、R225(ジクロ
ロペンタフルオロプロパン)が2.1kg得られた(収
率57%)。
ロペンタフルオロプロパン)が2.1kg得られた(収
率57%)。
実施例 3
LoIlのハステロイC製オートクレーブに無水塩化ア
ルミニウム、 0.5 kg (3,7anal )を
加えて減圧脱気した後、R10(CCL) 9 kg
(58,5mol )を加えた。オートクレーブを65
℃に加温した後、反応温度を65〜80℃に保ちながら
テトラフルオロエチレンを加え続けた。テトラフルオロ
エチレンを3 kg (30mat)加えた後さらに1
時間撹拌を続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製す
ることにより、R214cb (1,1,1,3−テト
ラクロロテトラフルオロプロパン)が6.5kg得られ
た(収率85%)0次いで100100Oのガラス製三
つ口丸底フラスコにメタ ノール200g (6mol )亜鉛末300g (4
,6mol)を加え、0℃で撹拌しながらR214cb
を1000g (3,9mol )滴下した0滴下終了
後O℃でさらに8時間撹拌を続け、反応液を2N塩酸水
で水洗した。有機層900 gを回収しガスクロ及び”
F −N M Rを用いて分析した。結果を第5表に示
す。
ルミニウム、 0.5 kg (3,7anal )を
加えて減圧脱気した後、R10(CCL) 9 kg
(58,5mol )を加えた。オートクレーブを65
℃に加温した後、反応温度を65〜80℃に保ちながら
テトラフルオロエチレンを加え続けた。テトラフルオロ
エチレンを3 kg (30mat)加えた後さらに1
時間撹拌を続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製す
ることにより、R214cb (1,1,1,3−テト
ラクロロテトラフルオロプロパン)が6.5kg得られ
た(収率85%)0次いで100100Oのガラス製三
つ口丸底フラスコにメタ ノール200g (6mol )亜鉛末300g (4
,6mol)を加え、0℃で撹拌しながらR214cb
を1000g (3,9mol )滴下した0滴下終了
後O℃でさらに8時間撹拌を続け、反応液を2N塩酸水
で水洗した。有機層900 gを回収しガスクロ及び”
F −N M Rを用いて分析した。結果を第5表に示
す。
第
表
反応粗液を蒸留精製することにより、R224ca (
1,3,3−)リクロロ−1,1,2,2−テトラフル
オロプロパン)を190g得た。次に内径2.5cm、
長さ100cmのインコネル600製U字型反応管をフ
ッ素化反応器とし、調製例1で示したように調製したフ
ッ素化触媒を200m12充填した。反応器を280℃
に加熱しガス化させたR224caを160 tsQ1
分、フッ化水素を440mQ1分で供給し、反応を進め
た。 R224caを1kg供給したところで反応を止
め、反応粗ガスをアルカリ水層に通して粗液0.9kg
を回収しガスクロ及び”F−NMRを用いて分析した。
1,3,3−)リクロロ−1,1,2,2−テトラフル
オロプロパン)を190g得た。次に内径2.5cm、
長さ100cmのインコネル600製U字型反応管をフ
ッ素化反応器とし、調製例1で示したように調製したフ
ッ素化触媒を200m12充填した。反応器を280℃
に加熱しガス化させたR224caを160 tsQ1
分、フッ化水素を440mQ1分で供給し、反応を進め
た。 R224caを1kg供給したところで反応を止
め、反応粗ガスをアルカリ水層に通して粗液0.9kg
を回収しガスクロ及び”F−NMRを用いて分析した。
結果を第6表に示す。
第6表
反応粗液を蒸留精製することにより、R225(ジクロ
ロペンタフルオロプロパン)が0.6kg得られた(収
率68%)。
ロペンタフルオロプロパン)が0.6kg得られた(収
率68%)。
実施例 4
11のハステロイC製オートクレーブに無水塩化アルミ
ニウム、 0.5 kg (3,7mol)を加えて減
圧脱気した後、R10(CC14) 9 kg(58,
5mol)を加えた。オートクレーブを65℃に加温し
た後、反応温度を65〜80℃に保ちながらテトラフル
オロエチレンを加え続けた。テトラフルオロエチレンを
3 kg (30mol)加えた後さらに1時間撹拌を
続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製することによ
り、R214cb (1,1,1,3−テトラクロロテ
トラフルオロプロパン)が6.5kg得られた(収率8
5%)。次いで、光化学反応装置(英光社製EHB−W
IF−500型)にイソプロパツール800mQ、 R
214ca 400gを仕込み反応溶液を10℃に冷却
しながら高圧水銀灯を20時間照射した。水洗後、有機
層を回収しガスクロ及び”F −N M Rを用いて分
析した。結果を第7表に示す。
ニウム、 0.5 kg (3,7mol)を加えて減
圧脱気した後、R10(CC14) 9 kg(58,
5mol)を加えた。オートクレーブを65℃に加温し
た後、反応温度を65〜80℃に保ちながらテトラフル
オロエチレンを加え続けた。テトラフルオロエチレンを
3 kg (30mol)加えた後さらに1時間撹拌を
続は反応液を濾別し、反応粗液を蒸留精製することによ
り、R214cb (1,1,1,3−テトラクロロテ
トラフルオロプロパン)が6.5kg得られた(収率8
5%)。次いで、光化学反応装置(英光社製EHB−W
IF−500型)にイソプロパツール800mQ、 R
214ca 400gを仕込み反応溶液を10℃に冷却
しながら高圧水銀灯を20時間照射した。水洗後、有機
層を回収しガスクロ及び”F −N M Rを用いて分
析した。結果を第7表に示す。
第7表
反応粗液を蒸留精製することにより、
224
ca (1,3,3−トリクロロ−1,1,2,2−テ
トラフルオロプロパン)が240g得られた(収率70
%)0次に内径2.54cm、長さ100cmのインコ
ネル600製U字型反応管をフッ素化反応器とし、調製
例1で示したように調製したフッ素化触媒を200d充
填した。反応器を21110℃に加熱しガス化させたR
224caを160 m(!/分、フッ化水素を440
mQ1分で供給し、反応を進めた。R224caを3
kg供給したところで反応を止め、反応粗ガスをアルカ
リ水層に通して粗液2.7kgを回収しガスクロ及び”
F−NMRを用いて分析した。
トラフルオロプロパン)が240g得られた(収率70
%)0次に内径2.54cm、長さ100cmのインコ
ネル600製U字型反応管をフッ素化反応器とし、調製
例1で示したように調製したフッ素化触媒を200d充
填した。反応器を21110℃に加熱しガス化させたR
224caを160 m(!/分、フッ化水素を440
mQ1分で供給し、反応を進めた。R224caを3
kg供給したところで反応を止め、反応粗ガスをアルカ
リ水層に通して粗液2.7kgを回収しガスクロ及び”
F−NMRを用いて分析した。
結果を第8表に示す。
第8表
反応粗液を蒸留精製することにより、R225(ジクロ
ロペンタフルオロプロパン)が1.9kg得られた(収
率68%)。
ロペンタフルオロプロパン)が1.9kg得られた(収
率68%)。
[発明の効果]
本発明は、実施例に示した如く、従来高純度品の入手が
困難であったジクロロペンタフルオロプロパン(R22
5)を高収率で製造し得るという効果を有する。
困難であったジクロロペンタフルオロプロパン(R22
5)を高収率で製造し得るという効果を有する。
Claims (1)
- テトラフルオロエチレンに四塩化炭素を付加せしめて1
,1,1,3−テトラクロロテトラフルオロプロパンを
生成せしめた後、これを還元して1,3,3−トリクロ
ロ−1,1,2,2−テトラフルオロプロパンを生成せ
しめ、次いでこれをフッ素化することを特徴とするジク
ロロペンタフルオロプロパンの製法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21755389A JP2734669B2 (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | ジクロロペンタフルオロプロパンの製法 |
KR1019910700305A KR920701092A (ko) | 1989-07-21 | 1990-07-18 | 디클로로펜타플루오로프로판의 제조방법 |
CA002034479A CA2034479A1 (en) | 1989-07-21 | 1990-07-18 | Process for producing a dichloropentafluoropropane |
PCT/JP1990/000924 WO1991001287A1 (en) | 1989-07-21 | 1990-07-18 | Process for producing a dichloropentafluoropropane |
EP90910909A EP0436031A1 (en) | 1989-07-21 | 1990-07-18 | Process for producing a dichloropentafluoropropane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21755389A JP2734669B2 (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | ジクロロペンタフルオロプロパンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0383937A true JPH0383937A (ja) | 1991-04-09 |
JP2734669B2 JP2734669B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=16706065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21755389A Expired - Fee Related JP2734669B2 (ja) | 1989-07-21 | 1989-08-25 | ジクロロペンタフルオロプロパンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2734669B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018139654A1 (ja) * | 2017-01-30 | 2018-08-02 | Agc株式会社 | 1,1,2,2-テトラフルオロプロパンの製造方法 |
-
1989
- 1989-08-25 JP JP21755389A patent/JP2734669B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018139654A1 (ja) * | 2017-01-30 | 2018-08-02 | Agc株式会社 | 1,1,2,2-テトラフルオロプロパンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2734669B2 (ja) | 1998-04-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3886229B2 (ja) | 1,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造法 | |
JP2690200B2 (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JP3158440B2 (ja) | 1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロペンの製造方法及び1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
US5136113A (en) | Catalytic hydrogenolysis | |
US7312367B2 (en) | Method of making 1,1,3,3,3-pentafluoropropene | |
EP1530558A1 (en) | Process for the preparation of 1,1,1,2,2-pentafluoroethane | |
US20070100172A1 (en) | Preparation and application of novel chromium based nanocatalyst for gas-phase fluorination and hydrofluorination reactions | |
US5763705A (en) | Method of producing 1,1,1,3,3-pentafluoropropane, a method of producing 1,1,1,3,3-pentafluoro-2-halogeno-3-chloropropane, and a method of producing 1,1,1,2,3,3-hexachloropropene | |
JPH107605A (ja) | 1,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造法 | |
US5545774A (en) | Process for the manufacture of 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane | |
US5523501A (en) | Catalytic hydrogenolysis | |
JP4538953B2 (ja) | −ch2−chf−基を有する化合物の製造方法 | |
WO1994014737A1 (en) | Process for producing 1,1,2,2,3-pentafluoropropane | |
WO1991001287A1 (en) | Process for producing a dichloropentafluoropropane | |
JPH0383937A (ja) | ジクロロペンタフルオロプロパンの製法 | |
JP2863476B2 (ja) | 1,1,1−トリフルオルエタンの製造方法 | |
JPS6144834A (ja) | 2,2,2‐トリフロロエタノールおよび1,1,1,3,3,3‐ヘキサフロロイソプロピルアルコールの合成方法 | |
JP2000086548A (ja) | フルオロシクロペンテン類の製造方法 | |
JP2734670B2 (ja) | 1,3―ジクロロ―1,1,2,2,3―ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JPH06279328A (ja) | ヘキサフルオロプロパンの製造方法 | |
JP2849129B2 (ja) | 1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンの製造法 | |
JPH0489437A (ja) | ジクロロペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JP2738042B2 (ja) | 3,3―ジクロロ‐1,1,1,2,2,‐ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JPH0383939A (ja) | ジクロロペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JPH03181428A (ja) | ジクロロペンタフルオロプロパンの精製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |