JPH0380448A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録媒体、特に、磁気光学効果を利用
してレーザ光により情報の記録・再生を行なう光磁気記
録媒体に関する。

〔従来の技術〕

従来の光磁気記録媒体は、記録特性、再生特性の向上を
目的として、光磁気記録層として複数の磁性層を用いた
ものが提案されている。代表的な例として例えば特開昭
５７−７８６５２号公報記載の熱磁気記録担体および熱
磁気記録方式は、低いキュリー温度を示す記録特性のよ
い高い保磁力を有する書込層と、高いキュリー温度を示
す再生特性のよい低い保磁力を有する読出層とを積層し
、少ないエネルギーで書込層に書き込んだビットを磁気
光学効果の大きい読出層に交換結合により転写し、読出
層側から読出すものである。

次に、従来例について、図面を用いて詳細に説明する。

第３図は従来の一例を示す概略断面図である。

第３図に示す光磁気記録媒体は、光学的に透明な透明基
板１の上に透明誘電体層２が形成され、その上に、垂直
磁化可能で高いキュリー点を有し低い保磁力を示す読出
層３と、垂直磁化可能で低いキュリー点を有し高い保磁
力を示す書込層４とが順次積層され、その上に誘電体層
８が形成されている。

この光磁気記録媒体は書込層４に小さな記録エネルギー
で書込むことができ、これを交換結合により磁気光学効
果の大きな読出層３に転写する方式のため高感度で高Ｃ
／Ｎな光磁気記録媒体が得られる。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら上述した従来の光磁気記録特性は、磁性膜
である読出層や書込層と誘電体膜である誘電体層とでは
磁性膜の方が熱拡散率が大きいので、磁性膜で発生した
熱は主に磁性膜内を横に拡がるように流れるため、記録
されるビット（反転磁化領域）は照射された光領域より
もかなり大きく形成されるので、記録密度が低くなると
ともに感度やＣ／Ｎも低いという欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の光磁気記録媒体は、光学的に透明な透明基板の
上に、透明誘電体層を介して垂直磁化可能で高キュリー
点を有する低い保磁力を有する読出層と、垂直磁化可能
で低キュリー点を有する高い保磁力を有する書込層とを
順次積層し、その上に熱放散用の非磁性金属層が形成さ
れて構成される。

また、光学的に透明な透明基板の上に、透明誘電体層を
介して垂直磁化可能で高キュリー点を有する低い保磁力
を有する読出層と、垂直磁化可能で低キュリー点を有す
る高い保磁力を有する書込層とを順次積層し、その上に
誘電体層を介して非磁性金属層を積層するが、前記非磁
性金属層がない状態での透過率が５％未満であるように
構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について、図面を用いて説明する
。

第１図に示す光磁気記録媒体は光学的に透明な透明基板
１と、透明誘電体層２と、垂直磁化可能で高いキュリー
点を有し低い保磁力を示す読出層３と、垂直磁化可能で
低いキュリー点を有し高い保磁力を示す書込層４と、熱
放散用の非磁性金属層５と、付着強化層６と、保護層７
とを含んで構成される。

透明基板１としては、エポキシ樹脂、ポリカーボネイト
樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂等の合成樹脂
やガラスなどを用いることができる。

透明誘電体層２としては、窒化シリコン、窒化アルミニ
ウム、窒化酸化シリコン、窒化酸化アルミニウム、窒化
酸化シリコンアルミニウム、酸化シリコン、酸化タンタ
ル、硫化亜鉛などを用いることができる。

読出層３としては、ガドリニウム・鉄・コバルト・チタ
ンの非晶質合金が最も望ましいが、ガドリニウム・鉄・
チタン合金、ガドリニウム・鉄・コバルト合金、ガドリ
ニウム・鉄・コバルト・クロム合金、ガドリニウム・鉄
・コバルト・アルミニウム合金などを用いることもでき
る。

書込層４としては、テルビウム・鉄・チタンの非晶質合
金が最も望ましいが、テルビウム・ジスプロシウム・鉄
・チタン合金、ジスプロシウム・鉄・チタン合金、テル
ビウム・鉄合金、テルビウム・ジスプロシウム・鉄合金
、ジスプロシウム・鉄合金、テルビウム・鉄・クロム合
金、テルビウム・鉄・アルミニウム合金、テルビウム・
ジスプロシウム・鉄・クロム合金、テルビウム・ジスプ
ロシウム・鉄・アルミニウム合金、ジスプロシウム・鉄
・り□ム合金、ジスプロシウム・鉄・アルミニウム合金
などを用いることもできる。

熱放散用の非磁性金属層５としては、アルミニウムを主
成分とする合金、銅を主成分とする合金、金、白金、パ
ラジウム、ステンレス、ニクロムなどを用いることがで
きる。

ここで、熱放散用の非磁性金属層５と磁性膜である読出
層３および書込層４とでは、熱放散用の非磁性金属層５
の方が熱拡散率が大きいので、磁性膜で発生した熱は磁
性膜内を横に拡がるよりも非磁性金属層５の方に流れる
ようになる。

したがって、記録されるビット（反転磁化領域）は照射
された光領域から大きくは拡がらずに形成される。

第１図に示す光磁気記録媒体の一具体例では、アクリル
系樹脂による案内溝が形成されている直径２００ｍｍ、
厚さ１．２肺のエポキシ樹脂製ディスク基板を逆スパツ
タした後、酸化タンタル膜を反応性スパッタリングによ
り３００Ａ厚形成し、次に、窒化シリコン膜を反応性ス
パッタリングにより５００人厚形成し、次に、原子％で
２３．０対５８６４対１４．６対４，０のガドリニウム
・鉄・コバルト・チタン膜の２００人厚０読出層を形成
し、ひきつづき原子％で２０．２対７５．８対４．０の
テルビウム・鉄・チタン膜の１０００人厚の書込層を形
成し、次に、原子％で９９対１のアルミニウム・チタン
膜の１００人厚０熱放散用金属層を形成し、最後に窒化
シリコン膜を反応性スパッタリングにより６００Ａ厚形
成したディスク２枚を膜が内側になるようにホットメル
トで貼合せて作製したものである。

第１図に示す光磁気記録媒体を３６００ｒｐｍで回転し
、波長８２０ｎｍの半導体レーザを基板を通して照射し
、記録周波数８ＭＨｚの信号を１５ｍＷの記録パワーで
記録し、３．０ｍＷの再生パワーで再生したところ、バ
ンド幅３０ＫＨｚでのＣ７Ｎ比は５５ｄＢが得られ、高
感度で高Ｃ／Ｈの光磁気記録媒体であることが確認され
た。

高密度記録可能か否かの判断は分解能測定により行なっ
た。すなわち、分解能は１５．６５ＭＨｚのときの再生
振幅と１．３２５ＭＨｚのときの再生振幅との比で定義
した。

比較例として、上述の実施例で熱放散用金属層を除いて
他は全く同じ構成の従来の光磁気記録媒体を作製して分
解能を測定したところ０．１７であったが、上述した実
施例の光磁気記録媒体の分解能は０．２０であり、本発
明の光磁気記録媒体が従来のものよりも高密度記録が可
能となることが確認された。

第２図は本発明の他の実施例を示す概略断面図である。

第２図に示す光磁気記録媒体は、光学的に透明な透明基
板１と、付着強化層６と、透明誘電体層２と、垂直磁化
可能で高いキュリー点を有し低い保磁力を示す読出層３
と、垂直磁化可能で低いキュリー点を有し高い保磁力を
示す書込層４と、誘電体層８と、非磁性金属層５と、保
護層７とで構成される。

付着強化層６．保護層７は必らずしも設ける必要はない
。

透明基板１と、透明誘電体層２と、読出層３と、書込層
４と、非磁性金属膜５とは第１図に関して説明したもの
と同じものを使いうる。

ここで、第２図に示す光磁気記録媒体に用いる非磁性金
属層５には磁性膜である読出層３と書込層４の熱拡散率
よりも大きな材料を用いる。また、誘電体層８として熱
拡散率と膜厚とを適切に選ぶことにより、磁性膜で発生
した熱は磁性膜内を横に拡がるよりも非磁性金属層５の
方に流れるようになる。したがって、記録されるビット
（反転磁化領域）は照射された光領域から大きくは拡が
らずに形成でき、高密度記録が可能となる。

一方、磁性膜である読出層３と書込層４の膜厚を薄くす
れば磁性膜内の横方向への熱の拡がりはさらに小さくな
り、さらに高密度な記録が可能となるが、磁性膜の膜厚
変動による記録感度の変動がより敏感になる。この観点
から磁性膜はある程度厚い方がよい。

すなわち、第２図に示す光磁気記録媒体で、誘電体層８
まで積層したときの透過率が５％未満であれば記録感度
の安定な光磁気記録媒体が得られる。

また、磁性膜を厚くし、透過率を小さくしたため、非磁
性金属層５に用いる材料として、表面の凹凸を小さくす
る必要がなくなるので歩留よく作製することができる。

なお、誘電体層８は記録感度をそれほど低下させない場
合に必要である。

第２図に示す光磁気記録媒体の一具体例では、アクリル
系樹脂による案内溝が形成されている直径２００ｍｍ、
厚さ１．２　ｍｍのエポキシ樹脂製ディスク基板を逆ス
パツタした後、酸化タンタル膜を反応性スパッタリング
により３００人厚形成し、次に、窒化シリコン膜を反応
性スパッタリングにより５００Ａ厚形成し、次に、原子
％で２３．０対５８．４対１４．６対４．０のガドリニ
ウム・鉄・コバルト・チタン膜の２００Ａ厚の読出層を
形威し、ひきつづき原子％で２０．２対７５．８対４．
０のテルビウム・鉄・チタン膜の１００ＯＡ厚の書込層
を形成し、次に、窒化シリコン膜を反応性スパッタリン
グにより１００人厚形成し、その上に、原子％で９９対
１のアルミニウム・チタン膜の４００Ａ厚の反射層を形
成し、最後に窒化シリコン膜を５００Ａ厚形成したディ
スク２枚を膜が内側になるようにホットメルトで貼合せ
て作製したものである。

第２図に示す光磁気記録媒体を３６０Ｏｒｐｍで回転し
、波長８２０ｎｍの半導体レーザを基板を通して照射し
、記録周波数１０ＭＨｚの信号を１２ｍＷの記録パワー
で記録し、３．０ｍＷの再生パワーで再生したところ、
バンド！３０ＫＨｚでのＣ７Ｎ比は５９ｄＢが得られ、
高感度で高Ｃ／Ｎの光磁気記録媒体であることが確認さ
れた。

高密度記録可能か否かの判断は分解能測定により行なっ
た。すなわち、分解能は１５．６５ＭＨｚのときの再生
振幅と１．３２５ＭＨｚのときの再生振幅との比で定義
した。

比較例として、エポキシ基板上に３０ＯＡ厚（７）酸化
タンタル膜、５００Ａ厚の窒化シリコン膜を形威し、そ
の上に原子％で２３．０対５８．４対１４．６対４．０
のガドリニウム・鉄・コバルト・チタン膜の２００Ａ厚
の読出層を形成し、ひきつづき原子％で２０．２％対７
５．８対４．０のテルビウム・鉄・チタン膜の１００Ｏ
Ａ厚の書込層を形成し、最後に窒化シリコン膜を６００
Ａ厚形成した従来の光磁気記録媒体を作製して分解能を
測定したところ０．１７であったが、上述した実施例の
光磁気記録媒体の分解能は０．１９であり、本発明の光
磁気記録媒体が従来のものよりも高密度記録が可能とな
ることが確認された。

〔発明の効果〕

本発明の光磁気記録媒体は、高感度で高Ｃ／Ｎでかつ高
密度記録が可能であるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す概略断面図、第２図は
本発明の他の実施例を示す概略断面図、第３図は従来の
一例を示す概略断面図である。 １・・・・・・透明基板、２・・・・・・透明誘電体層
、３・・・・・・読出層、４・・・・・・書込層、５・
・・・・・非磁性金属層、６・・・・・・付着強化層、
７・・・・・・保護層、８・・・・・・誘電体層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光学的に透明な透明基板と、前記透明基板の上に形
   成された透明誘電体層と、前記透明誘電体層の上に積層
   された垂直磁化可能で高キュリー点を有し低い保磁力を
   有する読出層と、前記読出層の上に積層された垂直磁化
   可能で低キュリー点を有し高い保磁力を有する書込層と
   、前記書込層の上に形成された熱放散用の非磁性金属層
   とを含むことを特徴とする光磁気記録媒体。 ２、光学的に透明な透明基板と、前記透明基板の上に形
   成された透明誘電体層と、前記透明誘電体層の上に積層
   された垂直磁化可能で高キュリー点を有し低い保磁力を
   有する読出層と、前記読出層の上に積層された垂直磁化
   可能で低キュリー点を有し高い保磁力を有する書込層と
   、前記透明基板と前記透明誘電体層と前記読出層と前記
   書込層とを一体として透過率が５％未満となるように形
   成された誘電体層と、前記書込層の上に積層した非磁性
   金属層とを含むことを特徴とする光磁気記録媒体。