JPH0380447A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気記録媒体、特に、磁気光学効果を利用
してレーザ光により情報の記録・再生を行なう光磁気記
録媒体に関する。

〔従来の技術〕

従来の光磁気記録媒体は、記録特性、再生特性の向上を
目的として、光磁気記録層として複数の磁性層を用いた
ものが提案されている。

代表的な例は低いキュリー温度を示す記録特性のよい高
い保磁力を有する書込層と、高いキュリー温度を示す再
生特性のよい低い保磁力を有する読出層とを積層し、少
ないエネルギーで書込層に書き込んだビットを磁気光学
効果の大きい読出層に交換結合により転写し、読出層側
から読み出すものである（例えば、特開昭５７−７８６
５２号）。

次に、従来例について、図面を用いて詳細に説明する。

第２図は従来の一例を示す概略断面図である。

第２図に示す光磁気記録媒体は、光学的に透明な透明基
板１の上に透明誘電体層２が形成され、その上に、垂直
磁化可能で高いキュリー点を有し低い保磁力を示す読出
層２２と、垂直磁化可能で低いキュリー点を有し高い保
磁力を示す書込層２３とが順次積層され、その上に誘電
体層９が形成されている。

このような光磁気記録媒体は書込層２３に小さな記録エ
ネルギーで書込むことができ、これを交換結合により磁
気光学効果の大きな読出層２２に転写する方式のため高
感度で高Ｃ／Ｎな光磁気記録媒体が得られる。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、このような上述した従来の光磁気記録媒
体は、磁性膜である読出層および書込層と誘電体膜であ
る２つの誘電体層とでは磁性膜の方が熱拡散率が大きい
ので、磁性膜で発生した熱は主に磁性膜内を横に拡がる
ように流れるため、記録されるビット（反転磁化領域）
は照射された光領域よりもかなり大きく形成されるもの
で、記録密度が低く感度やＣ／Ｎも低くかつ記録密度も
低いという欠点があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の光磁気記録媒体は、光学的に透明な透明基板の
上に、第１の透明誘電体層を介して垂直磁化可能で高キ
ュリー点を有し低い保磁力を有する読出層と、垂直磁化
可能で低キュリー点を有し高い保磁力を有する書込層と
を順次積層し、その上に第２の透明誘電体層を介して反
射層を形成して構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。

第１図は本発明の一実施例を示す概略断面図である。

第１図に示す光磁気記録媒体は光学的に透明な透明基板
１と、透明誘電体層２と、垂直磁化可能で高いキュリー
点を有し低い保磁力を示す読出層３と、垂直磁化可能で
低いキュリー点を有し高い保磁力を示す書込層４と、透
明誘電体層５と、反射層６と、付着強化層７と、保護層
８とを含んで構成される。

なお、付着強化層７．保護層８は必らずしも設ける必要
はない。

基板ｌとしては、エポキシ樹脂、ポリカーボネイト樹脂
、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂等の合成樹脂やガ
ラスなどを用いることができる。

誘電体層２としては、窒化シリコン、窒化アルミニウム
、窒化酸化シリコン、窒化酸化アルミニウム、窒化酸化
シリコンアルミニウム、酸化シリコン、酸化タンタル、
硫化亜鉛などを用いることができる。

読出層３としては、ガドリニウム・鉄・コバルト・チタ
ンの非晶質合金が最も望ましいが、ガドリニウム・鉄・
チタン合金、ガドリニウム・鉄・コバルト合金、ガドリ
ニウム・鉄・コハル）・クロム合金、ガドリニウム・鉄
・コバルト・アルミニウム合金などを用いることもでき
る。

書込層４としては、テルビウム・鉄・チタンの非晶質合
金が最も望ましいが、テルビウム・ジスプロシウム・鉄
・チタン合金、ジスプロシウム・鉄・チタン合金、テル
ビウム・鉄合金、テルビウム・ジスプロシウム・鉄合金
、ジスプロシウム・鉄合金、テルビウム・鉄・クロム合
金、テルビウム・鉄・アルミニウム合金、テルビウム・
ジスプロシウム・鉄・クロム合金、テルビウム・ジスプ
ロシウム・鉄・アルミニウム合金、ジスプロシウム・鉄
・クロム合金、ジスプロシウム・鉄・アルミニウム合金
などを用いることもできる。

誘電体層５としては、窒化シリコン、窒化アルミニウム
、窒化酸化シリコン、窒化酸化アルミニウム、　窒化酸
化シリコンアルミニウム、酸化シリコン、酸化タンタル
、硫化亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウムなどを用いる
ことができる。

反射層６としては、アルミニウムを主成分とする合金、
銅を主成分とする合金、金を主成分とする合金、白金を
主成分とする合金、ステンレス。

ニクロムなどを用いることができる。

第１図に示す光磁気記録媒体は磁性膜である読出層３と
書込層４の厚さを従来よりも薄くし、書込層４まで形成
したときの透過率が５％以上になるようにする。このよ
うに磁性膜を薄くすることにより、磁性膜で発生した熱
は磁性膜内な横に拡がりにくくなる。したがって、記録
されるビット（反転磁化領域）は照射された光領域から
大きくは拡がらずに形成されるため、高密度記録が可能
となる。

一方、磁性膜を薄くしたため、磁性膜の光吸収率は低下
する。

したがって、この分の感度低下を補なうためと、信号出
力をより大きくするため、薄くした磁性膜である読出層
３と書込層４の上に、透明誘電体層５を介して反射層６
を形成する。この透明誘電体層５の屈折率と膜厚とを適
切にすることにより、磁性膜の光吸収率を増大させるこ
とができ、信号出力を増大させることができる。

したがって超高感度で高Ｃ／Ｎの光磁気記録媒体を得る
ことができる。

なお、反射層６に用いる材料としては反射率が大きいこ
とはもちろんであるが、表面の凹凸の小さい合金を用い
ることが信号品質を向上させる点で最も肝要である。

次に、第１図に示す光磁気記録媒体の一具体例について
説明する。

第１図に示す光磁気記録媒体において、アクリル系樹脂
による案内溝が形成されている直径２００ｍｍ、厚さ１
．２　ｍｍのエポキシ樹脂製ディスク基板を逆スパツタ
した後、酸化タンタル膜を反応性スパッタリングにより
３００人厚形成し、次に、窒化シリコン膜を反応性スパ
ッタリングにより５００Ａ厚形戊し、次に、原子％で２
３．０対５８．４対１４．６対４．０のガドリニウム・
鉄・コバルト・チタン膜の１００人厚０読出層を形成し
、ひきつづき原子％で２０．２対７５．８対４．０のテ
ルビウム・鉄・チタン膜の４００Ａ厚の書込層を形成し
、次に、窒化シリコン膜を反応性スパッタリングにより
２５０人厚形成し、その上に、原子％で９９対１のアル
ミニウム・チタン膜の４００Ａ厚の反射層を形威し、最
後に酸化シリコン膜を４００Ａ厚形成したディスク２枚
を膜が内側になるようにホットメルトで貼合せて光磁気
記録媒体を作製した。

この光磁気記録媒体を３６００　ｒｐｍで回転し、波長
８２０　ｎｍの半導体レーザを基板を通して照射し、記
録周波数１０ＭＨｚの信号を９ｍＷの記録パワーで記録
し、３．０ｍＷの再生パワーで再生したところ、バンド
幅３０ＫＨｚでのＣ／Ｎ比は５９ｄＢが得られ、高感度
で高Ｃ／Ｎの光磁気記録媒体であることが確認された。

高密度記録可能か否かの判断は分解能測定により行なっ
た。分解能は１５．６５ＭＨｚのときの再生振幅と１．
３２５ＭＨｚのときの再生振幅との比で定義した。

比較例として、エポキシ基板上に３００Ａ厚の酸化タン
タル膜、５００Ａ厚の窒化シリコン膜を形成し、その上
に原子％で２３．０対５８．４対１４．６対４．０のガ
ドリニウム・鉄・コバルト・チタン膜の２００Ａ厚の読
出層を形成し、ひきつづき原子％で２０．２％対７５．
８対４．０のテルビウム・鉄・チタン膜の１０００００
０Ａ厚層を形成し、最後に窒化シリコン膜を６００人厚
形成した従来の光磁気記録媒体を作製して分解能を測定
したところ０．１７であったが、上述した実施例の光磁
気記録媒体の分解能は０．２１であり、本発明の光磁気
記録媒体が従来のものよりも高密度記録が可能となるこ
とが確認された。

〔発明の効果〕

本発明の光磁気記録媒体は、高感度で高Ｃ／Ｎでかつ高
密度記録を達成できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す概略断面図、第２図は
従来の一例を示す概略断面図である。 １・・・・・・透明基板、２，５・・・・・・透明誘電
体層、３．２２・・・・・・読出層、４，２３・・・・
・・書込層、６・・・・・・反射層、７・・・・・・付
着強化層、８・・・・・・保護層、９・・・・・・誘電
体層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光学的に透明な透明基板と、前記透明基板の上に形成さ
   れた第１の透明誘電体層と、前記第１の透明誘電体層の
   上に積層された垂直磁化可能で高キュリー点を有し低い
   保磁力を有する読出層と、前記読出層の上に積層された
   垂直磁化可能で低キュリー点を有し高い保磁力を有する
   書込層と、前記書込層の上に積層された第２の透明誘電
   体層と、前記第２の透明誘電体層の上に形成された反射
   層とを含むことを特徴とする光磁気記録媒体。