JPS63269348A

JPS63269348A - 光磁気記録用媒体

Info

Publication number: JPS63269348A
Application number: JP10412387A
Authority: JP
Inventors: Masanobu Kobayashi; 小林　政信; Mutsumi Asano; 睦己浅野; Kiminori Maeno; 仁典前野; Kayoko Oishi; 大石　佳代子
Original assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Current assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date: 1987-04-27
Filing date: 1987-04-27
Publication date: 1988-11-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、光学的記録媒体における光磁気記録用媒体に
関するものである。

（従来の技術）従来、このような分野の技術としては、特開昭５２　３
１７０３　＠公報、及び特開昭５２−１０９１９３号公
報に記載されるものがあった。以下、その構成を図を用
いて説明する。

第２図は従来の光磁気記録用媒体の一構成例を示す概略
断面図でおる。

この光磁気記録用媒体は、光透過性の基板１上に光磁気
記録層２を形成した構造をしている。光磁気記録層２は
、希土類−遷移金属系合金の非晶質膜（以下、ＲＥ−Ｔ
）ｌ膜という）で構成されている。

ここで、ＲＥ−ＴＭ膜は、具体的にはＲＥとしてガドリ
ニウムＧｄ、テルビウム丁ｂ１ジスプロシウムＤｙ１ネ
オジムＮｄ等、ＩＨとして鉄「ｅまたはコバルトＣｏを
主成分としている。このＲＥ　−Ｔ）ｌｌｌｊＪはその
膜面に対して垂直な磁化をもつ、いわゆる垂直磁化膜で
ある。

このようなＲＥ−ＴＨ膜を用いた光磁気記録用媒体は、
１μｍφ程度に絞られたレーザビームを基板１を通して
照射すると共に、外部磁界を用いた熱磁気書込み方式に
よって１０８ビツト／ｃｒｉというきわめて高密度な記
録が可能で、しかも原理的には無限回に近い消去及び再
書込みが可能という非常に優れた特長を有している。

この種の光磁気記録用媒体では、光磁気記録層２の両面
に、酸化シリコンＳｉＯ等からなる誘電体膜を設けて光
磁気記録層２を保護すると共にカー効果エンハンスメン
トの機能を持たせたり、さらには光磁気記録層２の上側
を保護するためにカバー基板を設ける等、種々の改良が
試みられている。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、上記構成の誘電体膜を有する光磁気記録
用媒体では、誘電体膜と光磁気記録層とが直接接してい
るため、誘電体膜を構成している元素の光磁気記録層２
への混入により、光磁気記録層２における磁気特性及び
光磁気特性が劣化したり、あるいは誘電体膜と接してい
るために、光磁気配Ｂ層２における垂直異方性の劣化が
生じるおそれがおった。

本発明は前記従来技術が持っていた問題点として、誘電
体膜による光磁気記録層における磁気特性及び光磁気特
性の劣化と、垂直異方性の劣化の点について解決した光
磁気記録用媒体を提供するものである。

（問題点を解決するための手段）本発明は前記問題点を解決するために、ＲＥ−Ｔ）ｌ膜
からなる光磁気記録層が誘電体膜を介して基板上に形成
された光磁気記録用媒体において、光学的特性に影響を
与えない膜厚で、かつ活性な金属からなる金属膜を、前
記光磁気記録層と誘電体膜との間に設けたものでおる。

（作　用）本発明によれば、以上のように光磁気記録用媒体を構成
したので、金属膜は誘電体膜を構成する元素の侵入に対
してそれをトラップして光磁気記録層への混入を阻止す
るように働くと共に、光磁気記録層における垂直異方性
を増大してカー回転角を大きくするように働く。従って
前記問題点を除去できるのでおる。

（実施例）第１図は本発明の実施例を示す光磁気記録用媒体の概略
断面図である。

この光磁気記録用媒体は片面記録型のものであり、透明
度が高くかつ光学特性の良いガラス板や、ポリカーボネ
ート等の樹脂板等で構成される基板１０を有し、その基
板１０上には誘電体膜１１、金属膜１２、ｌ？Ｅ−Ｔｔ
４ｆｇｌｂ”）なる光磁気記録層１３、金属膜１４、誘
電体膜１５、接着層１６、及びカバー基板１７が、順次
積層状態に形成されている。

誘電体膜１１．１５は、カー効果エンハンスメントの働
きをもつもので、例えば下層側の誘電体膜１１が膜厚８
０ｎｍ及び上層側の誘電体膜１５が膜厚１５０ｎｍのＡ
、ｌ！　５ｉＯＮ膜等で形成されている。金属膜１２．
１４は、活性な金属（例えば、マグネシウム＋ｇ、アル
ミニウムＡ、！！　、チタン丁１１ニオブＮｂ、バナジ
ウムＶ１タングステンＷ１モリブデンＮｏ１ジルコニウ
ムＺｒ、クロムＣｒ、タンタル丁ａ）等を用いて膜厚が
例えば１　ｏｎｍ以下の５ｍｍ程度に形成されている。

光磁気記録層１３を構成するｆ？Ｅ−ＴＨ膜は、例えば
膜厚が１１００ｎ稈度のＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ系合金で作ら
れている。

ここで、ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ系合金のうち、Ｒ［はＴｂ等
の希土類元素である。上層側の誘電体膜１５上に接着層
１６を介して接着されるカバー基板１７は、光磁気記録
層１３等を機械的及び化学的に保護するためのもので、
ポリカーボネート、ポリメチルアクリレート（ＰＨ）Ｉ
Ａ）、ポリエステル、ポリスチレン等のポリマー材料に
より、膜厚が例えば１μｍ程度に形成されている。

以上のように構成される光磁気記録用媒体を用いて、次
の表で示されるような光磁気記録ディスクＮｏ、　１〜
Ｎｏ、１０を作り、その記録・再生特性を検討した。こ
こで、比較のため、第３図に示すように金属膜１２．１
４を省略した光磁気記録ディスクＮｏ、１１を作ると共
に、第１図における金属膜１２゜１４を比較的不活性な
金属Ｎｉ、　Ｃｏで形成した光磁気記録ディスクＮｏ、
１２　、　Ｎｏ１３を作り、それらの記録・再生特性も
検討した。

但し、第１図及び第３図の基板１０はポリカーボネート
樹脂基板、誘電体膜１１．１５はＡ、Ｇ　５ｉＯＮ膜、
光磁気記録層１３はＴｂＦｅＣ０膜、及びカバー基板１
７はポリカーボネート樹脂基板でそれぞれ構成した。

上記表の光磁気記録ディスクＮＯ，１〜Ｎｏ、１３を評
価するために、ディスク回転数９ｏｏｒｐｍ、周波数１
ＭＨ７、基板１０を通して光磁気記録層１３へ照射する
レーザビームの出カフー以下（このパワーはディスク上
の値であり、そのレーザ波長は８３０ｎｍ）の条件でデ
ータの記録を行った後、ディスク半径ｒ＝５０ｍｍでの
データ読出し時の再生のキャリア対雑音比（以下、Ｃ／
Ｎという）を測定した。

その結果、ディスクＮｏ、１１に比較して本実施例のデ
ィスクＮＯ，１〜Ｎｏ、　１０は、すべて３〜５ｄＢの
Ｃ／Ｎ向上が見られた。一方、ディスクＮｏ、１２　。

Ｎｏ、１３ではＣ／Ｈの向上が認められなかった。従っ
て、誘電体膜１１．１５と光磁気記録層１３との間に活
性な金属膜１２．１４を入れることにより、記録特性が
向上することがわかる。その理由としては、次のような
ことが考えられる。

■　誘電体膜１１．１５を構成する元素、例えば酸素０
や窒素Ｎを活性金属がトラップし、光磁気記録層１３へ
の混入を阻止する。そのため、光磁気記録層の磁気、光
磁気特性の劣化が防止できる。

■　金属膜１２．１４に接することによってＲＥ−１Ｍ
膜の垂直異方性が増大し、カー回転角が大きくなる。

■　金属膜１２．１４は、例えば１０ｎｍ以下と薄いの
で、光学的特性に悪影響を与えない。

なお、本発明は図示の実施例に限定されず、種々の変形
が可能でおる。その変形例としては、例えば次のような
ものがある。

（ａ）基板１０は、ガラス板や樹脂板にのみ限定される
ものではなく、板状、シート状、テープ状、その他の形
状で、しかも任意所望の材料で構成することができる。

（ｂ）誘電体膜１１．１５はＡ、Ｑ　５ｉＯＮ膜以外に
、酸化ケイ素ＳｉＯ膜等の他の膜を用いてもよい。

（Ｃ）　ＲＥ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ系合金におけるＲＥは、
希土類としてＴｂを用いたが、Ｔｂ、　ＤＶ、　Ｇｄ、
　Ｎｄ等の１種または２種以上の希土類を用いてもよい
。

（ｄ）カバー基板１７を形成するポリマーは、上記実流
側で例示したものに限定されず、ポリウレタン、エポキ
シ、ポリイミド、フロロカーボン、ポリキシレン、ポリ
ビニル、ポリアミド、ポリサルファイド等の種々の材料
が使用できる。

（ｅ）光磁気記録用媒体の断面構造は、第１図のものに
限定されず、例えば下層から上層に向って、基板、誘電
体膜、金属膜、ＲＥ−Ｔ）ｌ膜、金属膜、誘電体膜、接
着層、誘電体膜、金属膜、ＲＥ　−ＴＭ膜、金属膜、誘
電体膜、及び基板を順次積層状態に形成した両面記録型
のものや、あるいはそれらに反射膜を設ける等、種々の
構造に適用できる。

（発明の効果）以上詳細に説明したように、本発明によれば、誘電体膜
と光磁気記録層との間に活性な金属膜を設（プたので、
誘電体膜構成元素の光磁気記録層への混入を阻止でき、
それによって光磁気記録層における磁気特性及び光磁気
特性の劣化を防止できる。ざらに、光磁気記録層の垂直
異方性、の劣化を防止でき、その垂直異方性が増大され
それによるカー回転角が大きくなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す光磁気記録用媒体の概略
断面図、第２図は従来の光磁気記録用媒体の概略断面図
、第３図は第１図に対する比較用の光磁気記録用媒体の
概略断面図である。１０・・・・・・基板、１１．１５・・団・誘電体膜、
１２．１４・・・・・・金属膜、１３・・・・・・光磁
気記録層、１６・・・・・・接＠層、１７・・・・・・
カバー基板。

Claims

【特許請求の範囲】１、希土類−遷移金属系合金の非晶質膜からなる光磁気
記録層が誘電体膜を介して基板上に形成された光磁気記
録用媒体において、光学的特性に影響を与えない膜厚で、かつ活性な金属か
らなる金属膜を、前記光磁気記録層と誘電体膜との間に
設けたことを特徴とする光磁気記録用媒体。２、前記金属膜の膜厚は、１０ｎｍ以下である特許請求
の範囲第１項記載の光磁気記録用媒体。３、前記活性な金属は、マグネシウムＭｇ、アルミニウ
ムＡｌ、チタンＴｉ、ニオブＮｂ、バナジウムＶ、タン
グステンＷ、モリブデンＭｏ、ジリコニウムＺｒ、クロ
ムＣｒ、またはタンタルＴａのいずれかの金属である特
許請求の範囲第１項記載の光磁気記録用媒体。