JPH0379799A - 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 - Google Patents
印刷版用アルミニウム支持体の製造方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/02—Etching
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は印刷版用アル果ニウム支持体の製造方法に関す
るものであり、特にオフセット印刷版用に適する粗面化
されたアルミニウム板からなる印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法に関するものである。
るものであり、特にオフセット印刷版用に適する粗面化
されたアルミニウム板からなる印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法に関するものである。
印刷版用アルもニウム支持体、とくにオフセット印刷版
用支持体としてはアルミニウム板（アルミニウム合金板
を含む）が用いられている。
用支持体としてはアルミニウム板（アルミニウム合金板
を含む）が用いられている。
−ａにアルミニウム板をオフセット印刷用版材（支持体
）として使用するためには、感光材との適度な接着性と
保水性を有していることが必要である。
）として使用するためには、感光材との適度な接着性と
保水性を有していることが必要である。
このためにはアルミニウム板の表面を均一かつ緻密な砂
目を有するように粗面化しなければならない。この粗面
化処理は製版後実際にオフセット印刷をおこなったとき
に版材の印刷性能や耐剛力に著しい影響をおよぼすので
、その良否は版材製造上重要な要素となっている。
目を有するように粗面化しなければならない。この粗面
化処理は製版後実際にオフセット印刷をおこなったとき
に版材の印刷性能や耐剛力に著しい影響をおよぼすので
、その良否は版材製造上重要な要素となっている。
印刷版用アルミニウム合金板の粗面化法としては交流電
解エツチング法が一般的に採用されており、電流として
は、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特殊交番波形
電流が用いられている。そして、黒鉛等の適当な電極を
対極として交流電流により、アルミニウム板の粗面化処
理をおこなうもので、通常−回の処理で行われているが
、そこで得られるビット深さは全体的に浅く、耐剛性能
に劣るものであった。このため、その直径に比べて深さ
の深いビットが均一かつ緻密に存在する砂目を有する印
刷版用支持体として好適なアルミニウム板が得られるよ
うに、数々の方法が提案されている。その方法としては
、特殊電解電源波形を使った粗面化方法（特開昭５３−
６７５０７号公報）、交流を使った電解粗面化時の陽極
時と陰極時の電気量の比率（特開昭５４−６５６０７号
公報）、電源波形（特開昭５５−２５３８１号公報）、
単位面積あたりの通電量の組み合わせ（特開昭５６−２
９６９９号公報）などが知られている。
解エツチング法が一般的に採用されており、電流として
は、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特殊交番波形
電流が用いられている。そして、黒鉛等の適当な電極を
対極として交流電流により、アルミニウム板の粗面化処
理をおこなうもので、通常−回の処理で行われているが
、そこで得られるビット深さは全体的に浅く、耐剛性能
に劣るものであった。このため、その直径に比べて深さ
の深いビットが均一かつ緻密に存在する砂目を有する印
刷版用支持体として好適なアルミニウム板が得られるよ
うに、数々の方法が提案されている。その方法としては
、特殊電解電源波形を使った粗面化方法（特開昭５３−
６７５０７号公報）、交流を使った電解粗面化時の陽極
時と陰極時の電気量の比率（特開昭５４−６５６０７号
公報）、電源波形（特開昭５５−２５３８１号公報）、
単位面積あたりの通電量の組み合わせ（特開昭５６−２
９６９９号公報）などが知られている。
また、特公昭６１−６０７９７号公報では、アルミニウ
ム板に陽極待時間、及び陰極待時間の内の少なくとも一
方の各周期内に電圧が０となるような休止時間を有る交
番波形電圧を印加し、陽極特電気量が陰極特電気量より
も大きくなる様に電流を流すことにより、均一な粗面が
得られると記載されている。〔発明が解決すべき課題〕 しかしながら、ＪＩＳ３００３材に代表されるような合
金成分の多い材料を前記印刷用アルミニウム板に大量に
用いる場合、Ｍロット間の合金成分の微！成分のばらつ
きによって、生成する砂目の形状が変化し、印刷性能の
ばらつきが生ずることがあった。また、前記特許は均一
なビットを得るにはすぐれた方法であるが、近年更に汚
れ性能の良い平版印刷版が求められ、ビットの大きさの
ばらつきを更に小さくする必要があった。
ム板に陽極待時間、及び陰極待時間の内の少なくとも一
方の各周期内に電圧が０となるような休止時間を有る交
番波形電圧を印加し、陽極特電気量が陰極特電気量より
も大きくなる様に電流を流すことにより、均一な粗面が
得られると記載されている。〔発明が解決すべき課題〕 しかしながら、ＪＩＳ３００３材に代表されるような合
金成分の多い材料を前記印刷用アルミニウム板に大量に
用いる場合、Ｍロット間の合金成分の微！成分のばらつ
きによって、生成する砂目の形状が変化し、印刷性能の
ばらつきが生ずることがあった。また、前記特許は均一
なビットを得るにはすぐれた方法であるが、近年更に汚
れ性能の良い平版印刷版が求められ、ビットの大きさの
ばらつきを更に小さくする必要があった。
〔課題を解決するための手段］
本発明者らは、電流波形に着目し、より均一に、またＭ
材料の合金成分ばらつきに対して印刷性能のばらつき（
ビットのばらつき）が小さい電解処理方法を提供しよう
とするものである。
材料の合金成分ばらつきに対して印刷性能のばらつき（
ビットのばらつき）が小さい電解処理方法を提供しよう
とするものである。
本発明者らは、鋭意研究した結果以下の発明を見出した
のである。
のである。
すなわち、アルミニウム支持体を酸性電解液中で、交番
波形電流を使用して電気化学的に粗面化する方法におい
て、陽極時間ＬＦ％陰極時間ｔＲとすると、それぞれの
電流のピーク値迄に達する時間が、それぞれＬｐ、Ｌｍ
の０．１％以上、２０％以下にすることで達成される。
波形電流を使用して電気化学的に粗面化する方法におい
て、陽極時間ＬＦ％陰極時間ｔＲとすると、それぞれの
電流のピーク値迄に達する時間が、それぞれＬｐ、Ｌｍ
の０．１％以上、２０％以下にすることで達成される。
本発明で使用される酸性電解液は、硝酸または塩酸を主
体とした液で、硝酸の濃度５〜５０ ｇ ／ ｆ、電解
浴内のアルミニウムの濃度２〜２０ｇ／ｌ、塩酸の濃度
５〜１００ ｇ ／ Ａ、アル〔ニウムの濃度２〜３０
ｇ／ｌが望ましい。また電解電流の電流密度１０〜Ｂ０
Ａ／ｄｍ”、電解浴温度３０°Ｃ以上の条件が均一に砂
目立てするには望ましい。なお、電解液内のアルミニウ
ムの濃度はアルミニウム支持体がアノード反応で溶解し
たものと、場合によってはあらかじめ硝酸アル亀ニウム
等で調液したものである。
体とした液で、硝酸の濃度５〜５０ ｇ ／ ｆ、電解
浴内のアルミニウムの濃度２〜２０ｇ／ｌ、塩酸の濃度
５〜１００ ｇ ／ Ａ、アル〔ニウムの濃度２〜３０
ｇ／ｌが望ましい。また電解電流の電流密度１０〜Ｂ０
Ａ／ｄｍ”、電解浴温度３０°Ｃ以上の条件が均一に砂
目立てするには望ましい。なお、電解液内のアルミニウ
ムの濃度はアルミニウム支持体がアノード反応で溶解し
たものと、場合によってはあらかじめ硝酸アル亀ニウム
等で調液したものである。
又本発明で使用される電解電流の周波数は１０〜１００
ｋが大量生産を行う場合好ましい。
ｋが大量生産を行う場合好ましい。
以下本発明の詳細な説明する。アルミニウム支持体は、
まずアルカリエツチングされる。好ましいアルカリ剤は
、苛性ソーダ、苛性カリ、メタ珪酸ソーダ、炭酸ソーダ
、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等である。濃度
０．０１〜２０％、温度は２０〜９０’Ｃ１時間は５秒
〜５分間の範囲から選択されるのが適当であり、好まし
いエツチング量としては、０．０１〜５ ｇ ／ｍ”で
ある。
まずアルカリエツチングされる。好ましいアルカリ剤は
、苛性ソーダ、苛性カリ、メタ珪酸ソーダ、炭酸ソーダ
、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等である。濃度
０．０１〜２０％、温度は２０〜９０’Ｃ１時間は５秒
〜５分間の範囲から選択されるのが適当であり、好まし
いエツチング量としては、０．０１〜５ ｇ ／ｍ”で
ある。
特にマンガン等不純物の多いアルミニウム支持体の場合
、エツチング量としては０．０１〜Ｉｇ／ｍ”が適当で
ある。
、エツチング量としては０．０１〜Ｉｇ／ｍ”が適当で
ある。
引き続き、アルカリエツチングしたアルミニウム板の表
面にアルカリに不溶な物質（スマット）が残存するので
、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。
面にアルカリに不溶な物質（スマット）が残存するので
、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。
前処理は上記の通りであるが、引き続き本発明として酸
性電解液中で、交番波形電流を使用して電気化学的に粗
面化する。
性電解液中で、交番波形電流を使用して電気化学的に粗
面化する。
本発明で使用される酸性電解液は、硝酸または塩酸を主
体とした液で、硝酸の濃度３〜１５０ ｇ ／ｉより好
ましくは５〜５０ ｇ ／ ｌ 、アル果ニウムの濃度
は５０ ｇ ／ ｆｆｉｆｆ以下り、より好ましくは２
〜２０ ｇ ／ Ｊ２である。塩酸の濃度は２〜２５０
ｇ／ｆ、より好ましくは５〜１００ｇ／ｆｆｉ、アルミ
ニウムの濃度は５０ ｇ ／ ｆｆ以下であり、より好
ましくは２〜３０ ｇ ／ ｆｆｉである。この硝酸、
塩酸に、アンモニウムイオン等添加物を入れても良いが
、大量生産をする場合、液濃度制御などが難しくなる。
体とした液で、硝酸の濃度３〜１５０ ｇ ／ｉより好
ましくは５〜５０ ｇ ／ ｌ 、アル果ニウムの濃度
は５０ ｇ ／ ｆｆｉｆｆ以下り、より好ましくは２
〜２０ ｇ ／ Ｊ２である。塩酸の濃度は２〜２５０
ｇ／ｆ、より好ましくは５〜１００ｇ／ｆｆｉ、アルミ
ニウムの濃度は５０ ｇ ／ ｆｆ以下であり、より好
ましくは２〜３０ ｇ ／ ｆｆｉである。この硝酸、
塩酸に、アンモニウムイオン等添加物を入れても良いが
、大量生産をする場合、液濃度制御などが難しくなる。
また、電解電流の電流密度は５〜１００Ａ／ｄｍ”が適
当であるが、１０〜Ｂ０Ａ／ｄ＋ｓ”がより好ましい。
当であるが、１０〜Ｂ０Ａ／ｄ＋ｓ”がより好ましい。
また、この様な条件は電気量と共に、求める品質、使用
されるアル亀ニウム支持体の成分などによって随時選択
される。
されるアル亀ニウム支持体の成分などによって随時選択
される。
また電流波形は、電源、ブスバー、電解セル等のインダ
クタンス成分等によって決って来るが、陽極、陰極それ
ぞれの電流のピーク値迄達する時間がｔ□ｔ、Ｉの０．
１％以上２０％以下である必要がある。
クタンス成分等によって決って来るが、陽極、陰極それ
ぞれの電流のピーク値迄達する時間がｔ□ｔ、Ｉの０．
１％以上２０％以下である必要がある。
第１図を用いて説明する。
電流波形としては、第１図の様に交番波形を用いられる
が、それぞれの電流のピーク値をＩＦ□１１Ｐとすると
、電流が０からＩＦＦ迄達する時間をＴ＋’、ＯからＩ
□迄達する時間をＴ２とすると、本発明は、 ｔＦｘｏ、ｏｏｔ≦Ｔ、≦ｔＦＸｏ、１ｔ １ＩｘＯ，
ｏｏ１≦Ｔ２≦ｔｌＸｏ、２ということである。また周
波数は で表わされるのは言うまでもない。
が、それぞれの電流のピーク値をＩＦ□１１Ｐとすると
、電流が０からＩＦＦ迄達する時間をＴ＋’、ＯからＩ
□迄達する時間をＴ２とすると、本発明は、 ｔＦｘｏ、ｏｏｔ≦Ｔ、≦ｔＦＸｏ、１ｔ １ＩｘＯ，
ｏｏ１≦Ｔ２≦ｔｌＸｏ、２ということである。また周
波数は で表わされるのは言うまでもない。
ＬＦ＋Ｌｌを上述した条件にすることで、アノード反応
である溶解反応とカソード反応であるスマット生成反応
が効率的に行われ均一なビットが生成する。
である溶解反応とカソード反応であるスマット生成反応
が効率的に行われ均一なビットが生成する。
ＬＦ＋ＬＩＩについては、電源、並びに電解セルのイン
ダクタンス成分を出来るだけ小さくすることが効果があ
るが、大量生産等により大容量の電源が必要な場合、装
置が大型化して必然的インダクタンス成分が増加してし
まう。そこで、電源電圧を強制的にオーバードライブさ
せ電流波形のＬＦ＋ｔｌを小さくするなどの方法が取ら
れている。
ダクタンス成分を出来るだけ小さくすることが効果があ
るが、大量生産等により大容量の電源が必要な場合、装
置が大型化して必然的インダクタンス成分が増加してし
まう。そこで、電源電圧を強制的にオーバードライブさ
せ電流波形のＬＦ＋ｔｌを小さくするなどの方法が取ら
れている。
この様な条件で、ビット径０．５〜３−１深さ０．３〜
３−の砂目を生成する。
３−の砂目を生成する。
粗面化されたアルミニウムは、引続き、酸又はアルカリ
溶液で処理されることが好ましい。具体的には特公昭５
６−１１３１６号公報に記載されている硫酸の他に、リ
ン酸またはリン酸とクロム酸の混液が用いられる。また
、特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているよう
な苛性ソーダなどのアルカリ性溶液で軽くエツチング処
理を行って、表面に付着しているスマットを除去する。
溶液で処理されることが好ましい。具体的には特公昭５
６−１１３１６号公報に記載されている硫酸の他に、リ
ン酸またはリン酸とクロム酸の混液が用いられる。また
、特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているよう
な苛性ソーダなどのアルカリ性溶液で軽くエツチング処
理を行って、表面に付着しているスマットを除去する。
アルカリ溶液で付着したスマットを除去する場合、アル
ミニウム表面をエツチングするので、アルカリに不溶成
分が残存する。それ故に、酸性溶液（硫酸、リン酸、ク
ロム酸等）により再度デスマットする必要がある。
ミニウム表面をエツチングするので、アルカリに不溶成
分が残存する。それ故に、酸性溶液（硫酸、リン酸、ク
ロム酸等）により再度デスマットする必要がある。
陽極酸化皮膜は０．１＝ＬＯｇ ／ ｎｅ”、より好ま
しくは０．３〜５ｇ／ｎ＋”表面に形成するのが良い。
しくは０．３〜５ｇ／ｎ＋”表面に形成するのが良い。
陽極酸化処理する前にアルカリエツチング、デスマット
処理するのが好ましい。
処理するのが好ましい。
陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によって種々
変化するので一概には決定されないが一般的には、電解
液の濃度がｌ〜８０重量％、液温５〜７０°Ｃ１電流密
度０．５〜６０Ａ／ｃｆｆｌ、電圧１〜１００ｖ、電解
時間１秒〜５分の範囲が適当である。
変化するので一概には決定されないが一般的には、電解
液の濃度がｌ〜８０重量％、液温５〜７０°Ｃ１電流密
度０．５〜６０Ａ／ｃｆｆｌ、電圧１〜１００ｖ、電解
時間１秒〜５分の範囲が適当である。
この様にして得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアル藁
ニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものであるか
ら、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要
により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、先に
記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケート層あるい
は、親水性高分子化合物よりなる下塗層を設けることが
できる。
ニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものであるか
ら、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要
により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、先に
記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケート層あるい
は、親水性高分子化合物よりなる下塗層を設けることが
できる。
下塗層の塗布量は５〜１５０ｍｇ／ボが好ましい。
次に、このように処理したアルミニウム支持体上に感光
性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷
機にセットし、印刷を開姑する。
性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷
機にセットし、印刷を開姑する。
次に、実施例により、本発明を具体的に説明するが、本
発明は、この実施例のみに限定されるものではない。
発明は、この実施例のみに限定されるものではない。
実施例−１
ＪＩＳ３１０３材のアルミニウム支持体を１０％苛性ソ
ーダ水溶液を５０°Ｃに温めた溶液中に浸漬し、アルミ
ニウム溶解量が３ｇ／％になる様にエツチングした後、
スマットを除去し、水洗した。その後、１３ ｇ ／
ｆｆｉの硝酸溶液に４ ｇ／ｆｆｉのアルミニウムイオ
ンを混合させ、浴温度５０″Ｃにて、Ｌｒ＝ｊ、ｕにし
て、１０１−１ｘ、 ３０Ｈｚ、 ５０Ｈｚ、 ８０Ｈ
ｚ、 １ｏＯＨｚの周波数にて、陽極特電気量が２００
クーロン／ｄ−となる様に設定、それぞれの電流波形の
ピーク値迄達するを変化させそれぞれ０．１ｍ５ｅｃ、
１ ｍ５ｅｃ。
ーダ水溶液を５０°Ｃに温めた溶液中に浸漬し、アルミ
ニウム溶解量が３ｇ／％になる様にエツチングした後、
スマットを除去し、水洗した。その後、１３ ｇ ／
ｆｆｉの硝酸溶液に４ ｇ／ｆｆｉのアルミニウムイオ
ンを混合させ、浴温度５０″Ｃにて、Ｌｒ＝ｊ、ｕにし
て、１０１−１ｘ、 ３０Ｈｚ、 ５０Ｈｚ、 ８０Ｈ
ｚ、 １ｏＯＨｚの周波数にて、陽極特電気量が２００
クーロン／ｄ−となる様に設定、それぞれの電流波形の
ピーク値迄達するを変化させそれぞれ０．１ｍ５ｅｃ、
１ ｍ５ｅｃ。
定した。条件を表１に示す。
表 １
２ｍ５ｅｃと設
それぞれのサンプルをＡ−Ｐと名称した。その後、表面
のスマットを除去し、電顕写真にて観察した。その後、
２０％硫酸中で陽極酸化皮膜を２．５ｇ／ｒ＋（設け、
水洗し、乾燥した。これを基板（Ａ）（Ｂ〕〜（Ｐ）と
する。
のスマットを除去し、電顕写真にて観察した。その後、
２０％硫酸中で陽極酸化皮膜を２．５ｇ／ｒ＋（設け、
水洗し、乾燥した。これを基板（Ａ）（Ｂ〕〜（Ｐ）と
する。
ＪＩＳ３１０３材をアルミニウム支持体を、１０％苛性
ソーダ水溶液を５０″Ｃに温めた、溶液中に浸漬し、ア
ルミニウム溶解量が３ ｇ／ｒｒＴになる様にエツチン
グした後、スマット除去し、水洗した。その後、１３ｇ
／ｌの硝酸溶液に４ ｇ／ｌのアルミニウムイオンを混
合させ、浴温度５０°Ｃにて、ｔｙ＝ｔａにして、１０
Ｈｚ、 ３０Ｈｚ、 ５０Ｈｚ、 ８０）（ｚ、 １０
０Ｈｚの周波数にて、陽極特電気量が２００クーロン／
ｄ−となる様に設定、それぞれの電流波形のピーク値迄
達する時間を １１１１ 以上になる様に電圧を変化さ
５ せて設定した。条件を表２に示す。
ソーダ水溶液を５０″Ｃに温めた、溶液中に浸漬し、ア
ルミニウム溶解量が３ ｇ／ｒｒＴになる様にエツチン
グした後、スマット除去し、水洗した。その後、１３ｇ
／ｌの硝酸溶液に４ ｇ／ｌのアルミニウムイオンを混
合させ、浴温度５０°Ｃにて、ｔｙ＝ｔａにして、１０
Ｈｚ、 ３０Ｈｚ、 ５０Ｈｚ、 ８０）（ｚ、 １０
０Ｈｚの周波数にて、陽極特電気量が２００クーロン／
ｄ−となる様に設定、それぞれの電流波形のピーク値迄
達する時間を １１１１ 以上になる様に電圧を変化さ
５ せて設定した。条件を表２に示す。
表
それぞれのサンプルをＱ−Ｕと名称した。その後、表面
のスマットを除去し、電顕写真にて観察した。その後２
０％硫酸中で陽極酸化皮膜を２．５ｇ／ボ設け、水洗し
、乾燥した。これを基板〔Ｑ〕〜（Ｕ）とする。
のスマットを除去し、電顕写真にて観察した。その後２
０％硫酸中で陽極酸化皮膜を２．５ｇ／ボ設け、水洗し
、乾燥した。これを基板〔Ｑ〕〜（Ｕ）とする。
この様に作成した基板（Ａ）〜（Ｕ）に、下記組成物を
乾燥後の塗布重量が２．５ｇ／ｒｄになる様に塗布して
感光層を設けた。
乾燥後の塗布重量が２．５ｇ／ｒｄになる様に塗布して
感光層を設けた。
感光液組成
ナフトキノン−１２−ジアジド−５
スルホニルクロライドとピロガロール、アセトン樹脂と
のエステル化合物 （米国特許３，６３５．７０９号明細書実施例−１記載
のもの）−・−−−−−−−−−−−−０，７５ｇタレ
ゾールノボラック樹脂・−−−−−−−−−−−−−−
−２，００ｇオイルブルー＃ ６０３ （オリエント化
学製）０．０４ｇエチレンジクロライド −−−−−
−−−−−−−−−−−−１６ｇ２−メトキシエチルア
セテート −−−−−−−−−−−−−１２ｇこの様に
して作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明
ポジティブフィルムを通して１ｍの距離から３ｋｗのメ
タルハライドランプにより、５０秒間露光を行なったの
ち、Ｓ１０□／Ｎａ、Ｏのモル比が１．７４の珪酸ナト
リウムの５．２６％水？８液（ｐＨ＝１２．７）で現像
したのち、常法の手順で印刷した。
のエステル化合物 （米国特許３，６３５．７０９号明細書実施例−１記載
のもの）−・−−−−−−−−−−−−０，７５ｇタレ
ゾールノボラック樹脂・−−−−−−−−−−−−−−
−２，００ｇオイルブルー＃ ６０３ （オリエント化
学製）０．０４ｇエチレンジクロライド −−−−−
−−−−−−−−−−−−１６ｇ２−メトキシエチルア
セテート −−−−−−−−−−−−−１２ｇこの様に
して作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明
ポジティブフィルムを通して１ｍの距離から３ｋｗのメ
タルハライドランプにより、５０秒間露光を行なったの
ち、Ｓ１０□／Ｎａ、Ｏのモル比が１．７４の珪酸ナト
リウムの５．２６％水？８液（ｐＨ＝１２．７）で現像
したのち、常法の手順で印刷した。
尚印刷機はスプリント２５（小森印刷機社製）、印刷評
価結果と、砂目形状を表３に示す。
価結果と、砂目形状を表３に示す。
なお、表３にて記号◎は非常に汚れにくく優れた性能、
○は汚れにくく優れた性能、○Δは汚れにくく実用的な
性能、Δは辛じて実用となる性能、Δ×は実用的でない
性能、×は汚れ易く実用性の無い性能をそれぞれ示す。
○は汚れにくく優れた性能、○Δは汚れにくく実用的な
性能、Δは辛じて実用となる性能、Δ×は実用的でない
性能、×は汚れ易く実用性の無い性能をそれぞれ示す。
表
３
（表３続き）
上の結果より、本発明の実施例は、比較例にくらべて、
砂目の均一なアルミニウム支持体を作ることができ、こ
のような支持体を有する印刷版で印刷すると汚れの殆ど
無い印刷を行うことができることがわかる。
砂目の均一なアルミニウム支持体を作ることができ、こ
のような支持体を有する印刷版で印刷すると汚れの殆ど
無い印刷を行うことができることがわかる。
アル藁ニウム支持体を交番電流により電気化学的に粗面
するに際し、本発明の如き交番電流を用いることにより
均一な粗面化を行うことができ、アルミニウム材料の合
金成分のばらつきに対してビットのばらつきが小さく印
刷性能のすぐれた支持体を得ることができる。
するに際し、本発明の如き交番電流を用いることにより
均一な粗面化を行うことができ、アルミニウム材料の合
金成分のばらつきに対してビットのばらつきが小さく印
刷性能のすぐれた支持体を得ることができる。
第１図は本発明の詳細な説明する交番波形の１例を示す
図である。 （ばか３名） 手続補正書 平底２年６月１３日
図である。 （ばか３名） 手続補正書 平底２年６月１３日
Claims (1)
- アルミニウム支持体を、酸性電解液中で、交番波形電流
を使用して電気化学的に粗面化する方法において、１サ
イクル当りの陽極時間ｔ＿Ｆ、陰極時間ｔ＿Ｒとすると
、それぞれの電流のピーク値迄に達する時間が、それぞ
れｔ＿Ｆ、ｔ＿Ｒの０．１％以上２０％以下であること
を特徴とする電解処理方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1212998A JP2660581B2 (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
| DE1990617306 DE69017306T2 (de) | 1989-08-21 | 1990-08-20 | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Druckplatte. |
| EP19900115928 EP0414189B1 (en) | 1989-08-21 | 1990-08-20 | Method of producing aluminum support for printing plate |
| US07/846,778 US5174869A (en) | 1989-08-21 | 1992-03-09 | Method of producing aluminum support for printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1212998A JP2660581B2 (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0379799A true JPH0379799A (ja) | 1991-04-04 |
| JP2660581B2 JP2660581B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=16631784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1212998A Expired - Fee Related JP2660581B2 (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0414189B1 (ja) |
| JP (1) | JP2660581B2 (ja) |
| DE (1) | DE69017306T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
| EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
| WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
| WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| EP2384100A2 (en) | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Insulated light-reflective substrate |
| EP2586621A1 (en) | 2011-10-28 | 2013-05-01 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method and manufacturing apparatus of support for planographic printing plate |
| WO2018235659A1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | アルミニウム複合材料 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2759388B2 (ja) * | 1991-01-23 | 1998-05-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 印刷版用支持体の製造方法 |
| US5221442A (en) * | 1991-03-07 | 1993-06-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for electrolytic treatment |
| US5187046A (en) * | 1991-03-18 | 1993-02-16 | Aluminum Company Of America | Arc-grained lithoplate |
| JP3217194B2 (ja) * | 1993-08-31 | 2001-10-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
| EP0730979B1 (en) * | 1995-03-06 | 2000-08-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate, process for the preparation thereof and electrochemical roughening apparatus |
| JP3698378B2 (ja) * | 1996-11-08 | 2005-09-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版 |
| JP3582048B2 (ja) * | 1997-06-23 | 2004-10-27 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 電解粗面化処理方法および感光性平版印刷版 |
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| JPH01154797A (ja) * | 1987-12-11 | 1989-06-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1564486A1 (de) * | 1951-01-28 | 1970-03-19 | Paehr Dr Hans Werner | Verfahren zum Vergroessern der wirksamen Oberflaeche von Aluminiumelektroden oder -folien fuer Elektrolytkondensatoren |
| JPS59227494A (ja) * | 1983-06-09 | 1984-12-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
-
1989
- 1989-08-21 JP JP1212998A patent/JP2660581B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-08-20 DE DE1990617306 patent/DE69017306T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-08-20 EP EP19900115928 patent/EP0414189B1/en not_active Expired - Lifetime
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| JPS6398116A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-04-28 | 長井電子工業協同組合 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 |
| JPH01154797A (ja) * | 1987-12-11 | 1989-06-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法 |
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| WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
| WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| EP2384100A2 (en) | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Insulated light-reflective substrate |
| EP2586621A1 (en) | 2011-10-28 | 2013-05-01 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method and manufacturing apparatus of support for planographic printing plate |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0414189B1 (en) | 1995-03-01 |
| DE69017306T2 (de) | 1995-06-29 |
| JP2660581B2 (ja) | 1997-10-08 |
| DE69017306D1 (de) | 1995-04-06 |
| EP0414189A1 (en) | 1991-02-27 |
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