JPH0379763A - 金属化フイルムの製造方法 - Google Patents

金属化フイルムの製造方法

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JPH0379763A
JPH0379763A JP21447689A JP21447689A JPH0379763A JP H0379763 A JPH0379763 A JP H0379763A JP 21447689 A JP21447689 A JP 21447689A JP 21447689 A JP21447689 A JP 21447689A JP H0379763 A JPH0379763 A JP H0379763A
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JP
Japan
Prior art keywords
polymer film
film
drum
vapor deposition
heater
Prior art date
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Pending
Application number
JP21447689A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Iwaoka
和男 岩岡
Junichi Niiyama
新山 淳一
Yasuo Iijima
飯島 康男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH0379763A publication Critical patent/JPH0379763A/ja
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  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高分子フィルムに巻取式真空蒸着法により金
属薄膜層を形成する金属化フィルムの製造方法に関する
従来の技術 電気回路を構成する部品の1つにコンデンサがある。コ
ンデンサの電気回路内での役割は、直流電流の阻止、蓄
電作用、エネルギーの時間的集中作用1周波数に依存す
るインピーダンス作用、進相作用等があり、これらの作
用に対して多くの種類のコンデンサが提案されてきた。
この中でフィルムコンデンサは、誘電体材料に高分子フ
ィルムを使用したものであシ、静電容量の変化が小さく
、低い誘電体損失、高い絶縁耐圧等の電気特性が優れて
いることから、小型の電子回路用から電力用のコンデン
サ1で広範囲に使用されてきた。これらのフィルムコン
デンサの構成は、誘電体材料に高分子フィルムを使用し
、電極にアルミニウムや錫、銅の箔を使用してこれらを
交互に巻回もしくは積層した電極箔型のものと、誘電体
材料の高分子フィルム表面に真空蒸着等の方法でアルミ
ニウムや錫、銅、亜鉛、ニッケル等の金属薄膜層を形成
して金属薄膜層を電極とした蒸着電極型の構成のものと
がある。特に蒸着電極型のコンデンサは自己回復特性が
あシ、コンデンサ素子全体の破損にならず安全性からも
信頼性が高いコンデンサの一つであることが知られてい
る。
これ1で、蒸着電極型の金属薄膜層の形成には、減圧し
た真空槽内で高分子フィルムを連続走行させながら蒸着
用ドラムの外周表面に高分子フィルムを接して、蒸着用
ドラムと高分子フィルムが同期して走行するように、高
分子フィルムの走行のためにニップロールで高分子フィ
ルムをニップする方法が行われていた。筐た、高分子フ
ィルムからの蒸着用ドラムへの熱伝達を良くするために
蒸着用ドラム外周表面仕上げ精度を良くすると、ニップ
ロールがないと蒸着用ドラムと高分子フィルムの滑ジが
更に太きくなるために、滑りを防止する事からも薄膜形
成中もニップロールが使われていた。
発明が解決しようとする課題 高分子フィルムの表面に金属薄膜層を形成するときの高
分子フィルムの走行にニップロールを使うと、ニップロ
ール自信の突起や、ニップロールに付着したゴミの突起
が高分子フィルムを痛めて欠陥を作る。
本発明は、金属薄膜層を形成するときにニップロールを
使わないで、しかも高分子フィルムの熱ダメージを少な
くさせるために蒸着用ドラム外周表面仕上げ精度を極め
て良くし、且つ、蒸着用ドラムと高分子フィルムの滑り
をなくした巻取式真空蒸着装置による金属化フィルムの
製造方法を提供するものである。
課題を解決するための手段 本発明の金属化フィルムの製造方法は上記目的を達成す
るため、高分子フィルムに金属薄膜層を形成する際に、
高分子フィルムの温度上昇を防止するための蒸着ドラム
の表面仕上げ精度がo、13以下であり、且つ、蒸着ド
ラムに高分子フィルムを押し当てるニップロールが外さ
れ、且つ、高分子フィルムを蒸着ドラム外周表面に密着
させるためのエレクトロンボンバード機能を兼ね備えた
連続式真空蒸着装置を用いて製造するものである。
作  用 本発明の方法によれば、ニップを使用せずに、蒸着用ド
ラム外周表面と高分子フィルムが密着して、高分子フィ
ルムと蒸着用ドラムが滑ることなく薄膜形成ができるた
め、良好な金属化フィルムを提供できる。
実施例 第1図に本発明に用いた巻取式真空蒸着装置を示す。1
O−3Torr以下に減圧された真空槽内の巻取り軸1
に幅600 ms 、厚さ2.5μm、 長さ1000
0mのポリエチレンテレフタレート(PET)より成る
高分子フィルム2をセットした。この高分子フィルム2
はフリーロール3,4を経て表面仕上げが0.1S以下
の硬質クロム鍍金で成る蒸着用ドラム6の外周に巻付け
られる。
フィルム2は蒸着用ドラム5との滑シ防止用に、真空蒸
着によるアルミニウム薄膜層の形成1では硬質のゴムか
ら成るニップロール10によって蒸着用ドラム6の外周
表面に押し付けられる。しかシ、ニップロール10の外
周表面はニラフロール10自身の突起や、ゴミ等の異物
による突起があシ、高分子フィルム2を突起があるニッ
プロール10で蒸着用ドラム5の外周表面に押し付ける
ことで、ニップロール10の突起部分が高分子フィルム
2を損傷するので、このニップロール10は高分子フィ
ルム2にエレクトロンe−13が照射された後はニップ
ロール11に外される。高分子フィルム2はエレクトロ
ンe−13により帯電して蒸着用ドラム5の外周表面に
電気的エネルギーによシ密着する。このためニップロー
ル1oがなくとも蒸着用ドラム6と高分子フィルム2は
滑ることなく同期して走行する。また蒸着用ドラム6の
表面仕上げがo、1S以下であるため、蒸着用ドラム5
の外周表面と高分子フィルム2の強い密着とで高分子フ
ィルム2から蒸着用ドラム5への熱伝導が良く、高分子
フィルム2の表面にアルミニウム薄膜層が形成されると
きの輻射熱やアルミニウム原子の持つ潜熱による高分子
フィルム2の温度上昇を防いでいる。エレクトロンe−
13は蒸着用ドラム6上部のタングステンヒーター12
に電圧を印加して電流を流し、タングステンヒーター1
2を加熱する。さらにタングステンヒーター12とアー
ス間に加速電圧として10Kvの直流を圧を、タングス
テンヒーター12(illlにマイナス。
アース側にプラスとなるように印加した。このようにす
ることで、タングステンヒーター12からのエレクトロ
ンe−13はアース側である蒸着用ドラム6の外周表面
に向けて加速、照射される。
このとき蒸着用ドラム5の外周表面上にある高分子フィ
ルム2はエレクトロン・″13の照射により帯電するも
のである。帯電して蒸着用ドラム6の外周表面に強く密
着した高分子フィルム2ば、蒸着用ドラム6の下方に設
けられた遮蔽板16により囲捷れた蒸着室14で高分子
フィルム2表面にアルミニウムの薄膜層を形成する。蒸
着室14は1o   Torr以下に排気されている。
耐火物容器18に入れられたアルミニウム17は、加熱
源19により加熱、溶解、蒸発されて原子状16で蒸発
し、高分子フィルム表面6に付着堆積してアルミニウム
の薄膜層を形成する。本実施例では表面抵抗が2.6〜
3.2Ω/口のアルミニウムの薄膜層を形成した。アル
ミニウムの薄膜層を形成した金属化フィルム6はフリー
ロー/l/7.8を経て巻取シ軸9で巻取られる。
尚、実施例の説明に当たって、具体的な材料。
寸法、形状等を掲げて説明したが本発明はこれらに限定
されるものではない。
上記実施例によって得られた金属化フィルムと他の方法
で得られた金属化フィルムについて、耐圧試験結果を次
表に示す。
耐圧試験はニップロールによる高分子フィルムの欠陥を
測定した。第2図に耐圧試験の概要を示す。金属化フィ
ルタのアルミニウム層22と高分子フィルム21側にそ
れぞれ接するようにフリーロール23.24を設け、フ
リーローIL/23.24間に直流200■を印加して
、金属化フィルムを10m/uILで走行させる。この
とき高分子フィルムの欠陥部分が絶縁破壊を起こしてア
ルミニウム層22が局部的に消滅する。このようにして
耐圧試験により高分子フィルムの欠陥部分が測定できる
実施例1.比較例2.比較例3とも、高分子フィルムは
PE72.6μm、蒸着金属はアルミニウムである。尚
、PET以外のPP、PPS、PI。
PEIでも同様の結果であった。
発明の効果 以上の如く、本発明による金属化フィルムの製造方法は
、ニップを使用せずに、蒸着用ドラム外周表面と高分子
フィルムが密着して、高分子フィルムと蒸着用ドラムが
滑ることなく薄膜形成ができるため、良好な金属化フィ
ルムを提供でき、また生産性が高く、従って工業性が大
であるため、金属化フィルムを安価に提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る金属化フィルムの製造方法に用い
た巻取式真空蒸着機の概略構成図、第2図は耐圧試験の
説明図である。 2・・・・・・高分子フィルム、6・・・・・・蒸着用
ドラム、10.11・・・・・・ニップロール、12・
・・・・・タングステンヒーター、14・・・・・・蒸
FIi室、17・・・・・−アルミニウム。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)10^−^3Torr以下に減圧された真空槽内
    にあって、長尺,幅広の高分子フィルムを連続走行させ
    ながら高分子フィルムに金属薄膜層を形成する金属化フ
    ィルムの製造方法において、高分子フィルムに金属薄膜
    層を形成する際に、高分子フィルムの温度上昇を防止す
    るための蒸着ドラムの表面仕上げ精度が0.1S以下で
    あり、且つ、蒸着ドラムに高分子フィルムを押し当てる
    ニップロールが外され、且つ、高分子フィルムを蒸着ド
    ラム外周表面に密着させるためのエレクトロンボンバー
    ド機能を兼ね備えた連続式真空蒸着装置を用いて製造す
    ることを特徴とする金属化フィルムの製造方法。
  2. (2)高分子フィルムがポリエチレンテレフタレート(
    Poly Ethy1ene Terephthala
    te:PET)、ポリプロピレン(Poly Ptop
    ylene:PP)、ポリフェニレンスルファイド(P
    oly PhenyleneSulfide:PPS)
    、ポリイミド(Poly Imide:PI)、ポリエ
    ーテルイミド(Poly EthriImide:PE
    I)であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の金属化フィルムの製造方法。
JP21447689A 1989-08-21 1989-08-21 金属化フイルムの製造方法 Pending JPH0379763A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010163693A (ja) * 2010-04-12 2010-07-29 Ulvac Japan Ltd 巻取式真空蒸着方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59124038A (ja) * 1982-12-29 1984-07-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法
JPS6050625A (ja) * 1983-08-27 1985-03-20 Olympus Optical Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法

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