JPH0377837A - パラフィン系化合物の酸化法 - Google Patents
パラフィン系化合物の酸化法Info
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- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
トン系化合物を得るために、l’lllosと、触媒.
!: 1.、て次式 %式% (式中、闇はアルミニウム、ガリウム及び鉄の中から選
ばれる金属であり、pは0を含むOから005の範囲内
にあり、qは0.0001から0.05の範囲内にあり
、かつHMO.のFは陽イオンと部分置換可能であり、
或いは部分置換されていてもよい)のチタン・シリカラ
イトを使用してバラフィン系化合物類を酸化する方法に
関する。
!: 1.、て次式 %式% (式中、闇はアルミニウム、ガリウム及び鉄の中から選
ばれる金属であり、pは0を含むOから005の範囲内
にあり、qは0.0001から0.05の範囲内にあり
、かつHMO.のFは陽イオンと部分置換可能であり、
或いは部分置換されていてもよい)のチタン・シリカラ
イトを使用してバラフィン系化合物類を酸化する方法に
関する。
バラフィン類は反応性に乏しい化合物であり、これを官
能化するためには、高い温度か、或いは相当に強い反応
物、例えばオゾン、トリフルオロ過酢酸、クロム酸、過
マンガン酸塩等が必要であることは周知である。このよ
うな過酷な条件は、不満足な値の選択率を結果として生
じるのはもちろんであり、酸素による例えば直鎖パラフ
ィン類の酸化では、150℃に近い温度が要求され、又
他の生成物のうち、酸、ケトン、アルコール及び過酸化
物等(幾つかはバラフィン化合物の分裂に由来する)を
含有する生成物の錯体混合物の形成を招くことになる(
N.M. Emianuel.E.T. Deriis
ov,Z.K、Maizus著[炭化水素類の液相酸化
(+,iquid − phaseOxidation
of Hydyocarhons)J Plenus
Press。
能化するためには、高い温度か、或いは相当に強い反応
物、例えばオゾン、トリフルオロ過酢酸、クロム酸、過
マンガン酸塩等が必要であることは周知である。このよ
うな過酷な条件は、不満足な値の選択率を結果として生
じるのはもちろんであり、酸素による例えば直鎖パラフ
ィン類の酸化では、150℃に近い温度が要求され、又
他の生成物のうち、酸、ケトン、アルコール及び過酸化
物等(幾つかはバラフィン化合物の分裂に由来する)を
含有する生成物の錯体混合物の形成を招くことになる(
N.M. Emianuel.E.T. Deriis
ov,Z.K、Maizus著[炭化水素類の液相酸化
(+,iquid − phaseOxidation
of Hydyocarhons)J Plenus
Press。
New York 19G?)。
過酸化水素による、或いは一般にはエポキシ化合物によ
るバラフィン系化合物類の酸化についてはよく絹告され
ている。それは、触媒とL.て金属に体の存在下に行わ
れる。しかしながら、エポキシ反応物に言及すれば、酸
素への分解と言う平行反応のために、一般には、得られ
る収率はむしろ低いのである(j.T. Groves
, G.A. MeClusky著[JA.C.S.j
p.859, 1976: J.B Vincent
等のrJ.A.c.s.jp.689g。1988;
R.H. Fisfn他著rJ.c.s.chemCo
mmun.j p.1504. 1988)。
るバラフィン系化合物類の酸化についてはよく絹告され
ている。それは、触媒とL.て金属に体の存在下に行わ
れる。しかしながら、エポキシ反応物に言及すれば、酸
素への分解と言う平行反応のために、一般には、得られ
る収率はむしろ低いのである(j.T. Groves
, G.A. MeClusky著[JA.C.S.j
p.859, 1976: J.B Vincent
等のrJ.A.c.s.jp.689g。1988;
R.H. Fisfn他著rJ.c.s.chemCo
mmun.j p.1504. 1988)。
現場生成した過酸化水素によるバラフィン類の酸化のた
めの触媒としては、金属バラフィン及び鉄イオンが付着
したゼオライト5A型も過去には使用されていた(N.
Herron等rJ.A.c.s.j p.2837
。
めの触媒としては、金属バラフィン及び鉄イオンが付着
したゼオライト5A型も過去には使用されていた(N.
Herron等rJ.A.c.s.j p.2837
。
1987)、この場合もまた、反応収率は乏1,い。
本出願人は、驚くべきことに、相応するアルコール系及
び/又はケ!・ン系誘導体を得るために、バラフィン系
化合物類を過酸化水素により低温度で操作j7て酸化す
ることができ、しかも前記両反応物について言えば、転
化率及び選択率の高い値が達成されることを現在見出だ
したのである。
び/又はケ!・ン系誘導体を得るために、バラフィン系
化合物類を過酸化水素により低温度で操作j7て酸化す
ることができ、しかも前記両反応物について言えば、転
化率及び選択率の高い値が達成されることを現在見出だ
したのである。
従って、本発明の目的は、バラフィン系化合物を酸化し
て、対応するアルコール及び/又はケトン誘導体を得る
方法において、触媒としてチタン・シリカライトを使用
して、過酸化水素によって、一般式 %式% (式中、R1及びR8は炭素数1〜20の直鎖状アルキ
ル、炭素数3〜20の分枝状又は環式アルキルの中から
選ばれるか、或いはR8及びR3は相互に一緒になって
、それらが結合している炭素原子上で閉環して環状構造
を生じる2価の基を構成することもでき、R1及びR1
は、相互に等しいか異なるかいずれでもよく、かつ塩素
、臭素、ヨウ素、フッ素、ニトロ基、アルコキシ基、ア
ミノ基、カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシエス
テル基、ニトリル基及びアミド等の感応性基を含むこと
もでき:R1は、R1及びRtと同意義であり、或いは
水素である)で表されるパラフィン系化合物を酸化する
ことを特徴とするパラフィン系化合物の酸化法にある。
て、対応するアルコール及び/又はケトン誘導体を得る
方法において、触媒としてチタン・シリカライトを使用
して、過酸化水素によって、一般式 %式% (式中、R1及びR8は炭素数1〜20の直鎖状アルキ
ル、炭素数3〜20の分枝状又は環式アルキルの中から
選ばれるか、或いはR8及びR3は相互に一緒になって
、それらが結合している炭素原子上で閉環して環状構造
を生じる2価の基を構成することもでき、R1及びR1
は、相互に等しいか異なるかいずれでもよく、かつ塩素
、臭素、ヨウ素、フッ素、ニトロ基、アルコキシ基、ア
ミノ基、カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシエス
テル基、ニトリル基及びアミド等の感応性基を含むこと
もでき:R1は、R1及びRtと同意義であり、或いは
水素である)で表されるパラフィン系化合物を酸化する
ことを特徴とするパラフィン系化合物の酸化法にある。
本発明による方法に触媒として使用するチタン・シリカ
ライトは、イタリー国特許第1,207,519号、同
第1,207,520号、米国特許第4,666.69
2号、同第4,410,501号、同第4,701,4
28号及びイタリー国特許第1,213,363号、同
第1,213,504号に開示されており、酸化物(か
焼した無水の形態)のモル比で示せば、一般式 %式% (式中、Vはアルミニウム、ガリウム及び鉄の中から選
ばれる金属であり、pは0から0.05の範囲内の数で
あり、qは0.0001から0.05の範囲内にあって
、好ましくは0.01から0.025の範囲内にある)
で表される。
ライトは、イタリー国特許第1,207,519号、同
第1,207,520号、米国特許第4,666.69
2号、同第4,410,501号、同第4,701,4
28号及びイタリー国特許第1,213,363号、同
第1,213,504号に開示されており、酸化物(か
焼した無水の形態)のモル比で示せば、一般式 %式% (式中、Vはアルミニウム、ガリウム及び鉄の中から選
ばれる金属であり、pは0から0.05の範囲内の数で
あり、qは0.0001から0.05の範囲内にあって
、好ましくは0.01から0.025の範囲内にある)
で表される。
共に過酸化水素の存在下に行われる芳香族炭化水素のヒ
ドロキシル化(イタリー国特許第1,150゜699号
)並びにオレフィン系化合物のエポキシ化(イタリー国
特許第1,152,299号)の方法にこの種の触媒を
使用することは、既に過去に記載されている。
ドロキシル化(イタリー国特許第1,150゜699号
)並びにオレフィン系化合物のエポキシ化(イタリー国
特許第1,152,299号)の方法にこの種の触媒を
使用することは、既に過去に記載されている。
本発明による方法で酸化できるパラフィン系化合物の特
定の幾つかの例は、プロパン、n−ブタン、イソブタン
、n−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、クロ
ロヘキサン、メチルヘプタノエート、アミロニトリル、
ドデカン等である。
定の幾つかの例は、プロパン、n−ブタン、イソブタン
、n−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、クロ
ロヘキサン、メチルヘプタノエート、アミロニトリル、
ドデカン等である。
本発明による方法で得られる反応生成物は、出発化合物
として用いるパラフィン系化合物の大質的に1個の単独
炭素原子の酸化に由来する酸素含有化合物類である。従
って、モノアルコール類又はケトン類或いはこれらの混
合物が、出発化合物として用いたパラフィン系化合物及
び反応条件に依存するものの、非常に良好な選択性をも
って得られる。
として用いるパラフィン系化合物の大質的に1個の単独
炭素原子の酸化に由来する酸素含有化合物類である。従
って、モノアルコール類又はケトン類或いはこれらの混
合物が、出発化合物として用いたパラフィン系化合物及
び反応条件に依存するものの、非常に良好な選択性をも
って得られる。
本発明による方法は、実際には2種の反応物、即ちパラ
フィンと過酸化水素を、チタン・シリカライトの存在下
に、パラフィン及び溶媒の性質に従ってできればオート
クレーブ中で0℃から100℃の範囲内にある温度で反
応させることによって行われる。
フィンと過酸化水素を、チタン・シリカライトの存在下
に、パラフィン及び溶媒の性質に従ってできればオート
クレーブ中で0℃から100℃の範囲内にある温度で反
応させることによって行われる。
反応は、むしろ短時間に起こるが、反応時間は、その他
の反応パラメータやパラフィン化合物の性質に依存する
こものの、一般には数分から数時間の範囲内にある。1
0分から4時間の範囲にある反応時間が有利に利用する
ことができる。
の反応パラメータやパラフィン化合物の性質に依存する
こものの、一般には数分から数時間の範囲内にある。1
0分から4時間の範囲にある反応時間が有利に利用する
ことができる。
反応は、無溶媒系又は溶媒の存在下に、自然の系圧力の
下又は室圧力の下いずれかで、バッチ式或いは連続式の
いずれかで行うことができ、反応生成物は流出物から分
離し、未転化の反応物は反応に戻している。
下又は室圧力の下いずれかで、バッチ式或いは連続式の
いずれかで行うことができ、反応生成物は流出物から分
離し、未転化の反応物は反応に戻している。
本方法にとって適当な溶媒は、メタノール、第3級ブチ
ルアルコール、アセトニトリル、アセトン、水又はこれ
らの混合物である。ある場合には、酸化反応からの生成
物を溶媒として有利に使用することもできる。
ルアルコール、アセトニトリル、アセトン、水又はこれ
らの混合物である。ある場合には、酸化反応からの生成
物を溶媒として有利に使用することもできる。
操作温度は25℃から70℃の範囲内にあることが好ま
しい。
しい。
過酸化水素は水溶液中1〜TO(w/v)%の範囲内の
濃度で使用され、パラフィン対過酸化水素のモル比の値
は0.5〜100の範囲内から選ばれるが、1〜10が
好ましい。
濃度で使用され、パラフィン対過酸化水素のモル比の値
は0.5〜100の範囲内から選ばれるが、1〜10が
好ましい。
以下の実施例は本発明を単に説明する目的で提供するも
のであり、決して本発明を限定するものと解すべきでは
ない。
のであり、決して本発明を限定するものと解すべきでは
ない。
実施例1−3は、本発明による方法に有用な触媒の調製
について記載するものである。
について記載するものである。
実施例4−9及びIL−17は、実施例1−3に記載の
触媒を使用1.て行われた本発明による方法を説明して
いる。
触媒を使用1.て行われた本発明による方法を説明して
いる。
また、実施例10−12は、比較の目的で報告するもの
であり、本発明の範囲内にはないものである。
であり、本発明の範囲内にはないものである。
実施例1
米国特許第4,410゜501号の記述に従ってチタン
・シリカライトTS−1を調製した。
・シリカライトTS−1を調製した。
テトラエチルチタン酸塩230gをテトラエチルケイ酸
塩416017に溶解して得られた溶液を、水酸化テト
ラプロピルアンモニウムの14%溶液72509に激し
く攪拌しながら添加した。生じた混合物を、単一相の澄
んだ溶液が得られるまで、強撹拌下に保った。次に、前
記溶液を脱塩水FJ165 gで希釈した。
塩416017に溶解して得られた溶液を、水酸化テト
ラプロピルアンモニウムの14%溶液72509に激し
く攪拌しながら添加した。生じた混合物を、単一相の澄
んだ溶液が得られるまで、強撹拌下に保った。次に、前
記溶液を脱塩水FJ165 gで希釈した。
得られた溶液をオートクレーブに導入し、その自然圧力
の下、4時間170℃に加熱保持lまた。
の下、4時間170℃に加熱保持lまた。
反応生成物をオートり1ノーブから排出し、遠心分離に
かけ、その遠心分離ケーキを再分散17、再度遠心分離
にかけることによって温度洗浄した。
かけ、その遠心分離ケーキを再分散17、再度遠心分離
にかけることによって温度洗浄した。
遠心分離ケーキを空気中にて550℃で5時間か焼し、
そして最後にLRl及びR,X、分析によって、チタン
・シリカライト(TS−1)であることが分ったが、そ
の組成は、か焼した無水形態で下記の通りであった。
そして最後にLRl及びR,X、分析によって、チタン
・シリカライト(TS−1)であることが分ったが、そ
の組成は、か焼した無水形態で下記の通りであった。
0.023 TiOx:SfO*
実施例2
TiOCQs 497gを水酸化テトラプロピルアンモ
ニウム14重逼%の水溶液26350 gに溶解17、
そ1.て30%のコロイドシリカ14538 Qを前記
溶液に激;7く攪拌(7ながら添加した。生じた混合物
を60℃に加熱し、その温度で約2時間撹拌下に保った
。次に、脱塩水29680σを添加17、生じた混合物
をこれまで通り60℃で更に1時間攪拌した。下記のモ
ル組成 5 TPA−Of玉;TfiOs:2O5ins:8
00 H*0を有する澄んだ溶液を、攪拌手段を備えた
号−トクレープに導入し、170℃に加熱してから、こ
の温度で3時間攪拌下に保った。
ニウム14重逼%の水溶液26350 gに溶解17、
そ1.て30%のコロイドシリカ14538 Qを前記
溶液に激;7く攪拌(7ながら添加した。生じた混合物
を60℃に加熱し、その温度で約2時間撹拌下に保った
。次に、脱塩水29680σを添加17、生じた混合物
をこれまで通り60℃で更に1時間攪拌した。下記のモ
ル組成 5 TPA−Of玉;TfiOs:2O5ins:8
00 H*0を有する澄んだ溶液を、攪拌手段を備えた
号−トクレープに導入し、170℃に加熱してから、こ
の温度で3時間攪拌下に保った。
外観がミルク状で、懸濁液中にゼオライトの微結晶を含
有する得られた懸濁液を、遠心分離にかけ、その遠心分
離ケーキを水に再分散することによって洗浄した。次に
、ゼオライト生成物を、次に続く遠心分離によって全体
を回収した(チタン・シリカライト3500g)。
有する得られた懸濁液を、遠心分離にかけ、その遠心分
離ケーキを水に再分散することによって洗浄した。次に
、ゼオライト生成物を、次に続く遠心分離によって全体
を回収した(チタン・シリカライト3500g)。
一方、テトラエチルケイ酸13469を、水酸化テトラ
プロピルアンモニウム12重量%の溶液1437 Qに
激しく攪拌しながら添加し、生じた混合物を60℃で1
1時間加熱した。次に、脱塩水58909を添加し、混
合物を更に1時間攪拌下に保った。予め調製したチタン
・シリカライトが注意深く分散されている澄んだ溶液が
得られた。
プロピルアンモニウム12重量%の溶液1437 Qに
激しく攪拌しながら添加し、生じた混合物を60℃で1
1時間加熱した。次に、脱塩水58909を添加し、混
合物を更に1時間攪拌下に保った。予め調製したチタン
・シリカライトが注意深く分散されている澄んだ溶液が
得られた。
外観がミルク状の得られた懸濁液を、噴霧乾燥器(進入
空気温度300℃、放出空気温度120℃、チャンバー
径1.5m:ニトロアトマイザー社(Nitr。
空気温度300℃、放出空気温度120℃、チャンバー
径1.5m:ニトロアトマイザー社(Nitr。
Atomizer)製ディスク型ドライヤー)に供給し
、201t mに近い平均直径を合する緻密な微小球体
を得た。
、201t mに近い平均直径を合する緻密な微小球体
を得た。
噴霧化した生成物をh雰囲気下マツフル炉に装入(7,
550℃に加熱した。N、雰囲気下、ト記温度で2時間
の滞留の後、前記雰囲気をN、から空気へと徐々に変え
、そして生成物を空気中55℃で更に2時間放置した。
550℃に加熱した。N、雰囲気下、ト記温度で2時間
の滞留の後、前記雰囲気をN、から空気へと徐々に変え
、そして生成物を空気中55℃で更に2時間放置した。
得られた結晶は下記の化学組成(モル比)を有していた
。
。
1 Ti0B;43 5ins
実施例3
イソプロピル酸アルミニウム27gを水酸化テトラプロ
ピルアンモニウム18 ニア重量%溶液54009に溶
解した。別の寥器で、テトラエチルオルトチタン酸塩2
30gをテトラエチルケイ酸塩41609に溶解し、こ
の溶液を上述の溶液に攪拌上添加した。
ピルアンモニウム18 ニア重量%溶液54009に溶
解した。別の寥器で、テトラエチルオルトチタン酸塩2
30gをテトラエチルケイ酸塩41609に溶解し、こ
の溶液を上述の溶液に攪拌上添加した。
生じた反応混合物を50〜60℃まで加熱してから、単
一相の溶液が得られるまで、これまで通り攪拌しながら
その温度に保った。次に、水10000eeを添加した
。
一相の溶液が得られるまで、これまで通り攪拌しながら
その温度に保った。次に、水10000eeを添加した
。
得られた溶液をオートクレーブに導入し、その自然圧力
下で170℃まで加熱した後、この温度に4時間保った
。
下で170℃まで加熱した後、この温度に4時間保った
。
生成物をオートクレーブから排出し、遠心分離にかけ、
その遠心分離ケーキを再分散し、遠心分離にかけること
によって二度洗浄した。洗浄した遠心分離ケーキの一部
を空気中にて温度550℃で5時間か焼し、そして最後
に無水形態で下記組成を有するゼオライトであることが
分った。
その遠心分離ケーキを再分散し、遠心分離にかけること
によって二度洗浄した。洗浄した遠心分離ケーキの一部
を空気中にて温度550℃で5時間か焼し、そして最後
に無水形態で下記組成を有するゼオライトであることが
分った。
0.0081 AQ*Os:0.0250 Ties;
5ift実施例4−9 蒸留したn−ヘキサン2.5−及び33(w/v)%H
10゜約1.5−を溶媒25−に溶解した。過酸化水素
の正確な力価はヨウ素滴定法で測定した。
5ift実施例4−9 蒸留したn−ヘキサン2.5−及び33(w/v)%H
10゜約1.5−を溶媒25−に溶解した。過酸化水素
の正確な力価はヨウ素滴定法で測定した。
次に、触媒o、sgを制御温度55℃に維持した前記溶
液に添加し、生じた反応混合物を強力な攪拌下に保った
。
液に添加し、生じた反応混合物を強力な攪拌下に保った
。
過酸化水素及び反応生成物の濃度を測定するために、規
則的な時間間隔で一定量(少量)の懸濁液を抽出した。
則的な時間間隔で一定量(少量)の懸濁液を抽出した。
反応生成物の量を、国内規格法(クロモソルブに担持さ
れたLAC72820%を充填した長さ2.3mのガラ
スカラム、?−100℃)によるガス相クロマトグラフ
ィーにて測定した。
れたLAC72820%を充填した長さ2.3mのガラ
スカラム、?−100℃)によるガス相クロマトグラフ
ィーにて測定した。
生成物の性質を質量スペクトロメトリーで確認した。
その結果を第1表に示す。
3II表
3鴫押力(Mll 6.船(至) 8.蹴48.
滅θ、引1)θ、即n の、匿国(・)ト蕾セ 2.
シCを使用 実施例10−12 米国特許第3,702,886号の実施例1に従ってゼ
オライトH−25M5を調製した。
滅θ、引1)θ、即n の、匿国(・)ト蕾セ 2.
シCを使用 実施例10−12 米国特許第3,702,886号の実施例1に従ってゼ
オライトH−25M5を調製した。
イタリー国特許第1,166.822号の実施例4に従
ってボラライトを得た。
ってボラライトを得た。
米国特許第3,923,843号の実施例1に従って無
定形シリカ上のTies分散体で構成される触媒を得た
。
定形シリカ上のTies分散体で構成される触媒を得た
。
得られた化合物は、実施例4−9で既に開示した態様に
従って使用した。
従って使用した。
その結果を第2表に示す。
IL−λ−」【−
比JU1酌−
触媒
溶媒
HtO*(M/ff )
時間(Ilin)
H2O,転化率(%)
2−ヘキすノール(M/Q )
2−ヘキサノン(M/C))
3−ヘキサノール(M/(2)
3−ヘキサノン(M/11))
(”)T= 65℃、 33(w/v)% H2O23
mQ10 11 H−ZSMS 本′ラライト メタノール メタノール 0.545 0.547 270 250 5 2 Ties−Sins H*0” 0x 0 実施例13 n−へキサン4−を、濃度0.585Mの水性HIO1
25−中、実施例1に開示の如く調製した触媒0.5g
の懸濁液に添加し、制御温度56℃に維持してから磁気
攪拌機により攪拌下に保った。
mQ10 11 H−ZSMS 本′ラライト メタノール メタノール 0.545 0.547 270 250 5 2 Ties−Sins H*0” 0x 0 実施例13 n−へキサン4−を、濃度0.585Mの水性HIO1
25−中、実施例1に開示の如く調製した触媒0.5g
の懸濁液に添加し、制御温度56℃に維持してから磁気
攪拌機により攪拌下に保った。
過酸化水素の力価を規則的な時間間隔で検査し、120
分後に反応を中断した。液体相を第3級ブチルアルコー
ルとメタノールを添加することによって均質化した後、
反応生成物を上述の実施例と同じように測定した。
分後に反応を中断した。液体相を第3級ブチルアルコー
ルとメタノールを添加することによって均質化した後、
反応生成物を上述の実施例と同じように測定した。
反応生成物は、2−ヘキサノールo、oss ミリモル
、2−へキサノン2.0Hリモル、3−ヘキサノール0
.328 ミリモル及び3−へキサノン1.34ミリモ
ルで構成されていた。
、2−へキサノン2.0Hリモル、3−ヘキサノール0
.328 ミリモル及び3−へキサノン1.34ミリモ
ルで構成されていた。
実施例14
メタノール中過酸化水素0.605M溶液(メタノール
25ccと32(w/v)%l、Q、 1.6ccを混
合して得られる)20ccをガラス製オートクレーブに
、実施例1に記載の如く調製した触媒0.4gを共に導
入した。
25ccと32(w/v)%l、Q、 1.6ccを混
合して得られる)20ccをガラス製オートクレーブに
、実施例1に記載の如く調製した触媒0.4gを共に導
入した。
オートクレーブを55℃に温度制御した浴内に強く攪拌
しながら装着し、オートクレーブ内圧をイソブタンによ
って3気圧に調節した。
しながら装着し、オートクレーブ内圧をイソブタンによ
って3気圧に調節した。
120分後反応を中止【7、過剰のイソブタンを換気し
ToO++の濃度を測定lまた。第3級ブチルアルコー
ルの濃度をガスクロマトグラフィー(Poropack
を充填した長さ1.8間のカラム、T=120℃)テ測
定し、生成物を質量スペクトロメトリーで確認[、た。
ToO++の濃度を測定lまた。第3級ブチルアルコー
ルの濃度をガスクロマトグラフィー(Poropack
を充填した長さ1.8間のカラム、T=120℃)テ測
定し、生成物を質量スペクトロメトリーで確認[、た。
II * 0 *転化率−50%、第3級ブチルアルコ
ール2.10ミリモル。
ール2.10ミリモル。
実施例15
シクロヘキサン5ee及びHllOn 1.5eeを第
3級ブチルアルコール25eeに溶解した。
3級ブチルアルコール25eeに溶解した。
過酸化水素のt確な力価は、結果と17で0 、510
Mであった。
Mであった。
実施例1で調製した触媒051gを前記溶液30ccに
攪拌しながら添加し、温度74℃に保った。120分後
、HmO*の転化率は結果として49%であった。
攪拌しながら添加し、温度74℃に保った。120分後
、HmO*の転化率は結果として49%であった。
反応生成物をガスクロマトグラフィー及び質量スペクト
ロメトリー(Chromosorbに担持されたLAC
7282%を充填した長さ243「のガラス・カラム、
T= 120℃)によって同定し、定It l、た。
ロメトリー(Chromosorbに担持されたLAC
7282%を充填した長さ243「のガラス・カラム、
T= 120℃)によって同定し、定It l、た。
シクロヘキサノール0458ミリモル;シクロヘキサノ
ン0.92ミ9 実施例16 n−デカン1.5cc, 33(w/v)%H.0.
1.5cc及びメタノール25cc(HaO++力価−
0.552M)を61℃に加熱L、このρ度に保った
。チタンシリカライト(実施例i)o.sgを強く攪拌
しながら添加I7た。105分後、n−デカンを更に2
−添加した。
ン0.92ミ9 実施例16 n−デカン1.5cc, 33(w/v)%H.0.
1.5cc及びメタノール25cc(HaO++力価−
0.552M)を61℃に加熱L、このρ度に保った
。チタンシリカライト(実施例i)o.sgを強く攪拌
しながら添加I7た。105分後、n−デカンを更に2
−添加した。
165分後、+(10Ilの転化率は93%であった。
反応生成物をGLC及び質量スベクトロメI・リーによ
って同定;7、定員した。
って同定;7、定員した。
2−デカノール(0.656ミリモル);3−デカノー
ル及び4−デカノール(1.10ミリモル);2−デカ
ノン(1.73ミリモル):3−デカノン及び4−デカ
ノン(1.41ミリモル)。
ル及び4−デカノール(1.10ミリモル);2−デカ
ノン(1.73ミリモル):3−デカノン及び4−デカ
ノン(1.41ミリモル)。
実施例17
1−りI]oヘキザン2.5cc及び33(W/V)%
H1lOzx.5cccu1o#力!=0.557モル
10)を実施例5と同じ方法で反応させた。4時間後、
残留過酸化水素は3%であった。反応生成物をGLC及
び質量スペクトロメトリー(LACカラム、T= 16
0℃)により同定した。
H1lOzx.5cccu1o#力!=0.557モル
10)を実施例5と同じ方法で反応させた。4時間後、
残留過酸化水素は3%であった。反応生成物をGLC及
び質量スペクトロメトリー(LACカラム、T= 16
0℃)により同定した。
1−クロロ−5−ヘキサノール(0.36ミリモル);
1−クロロ−4−ヘキサノール(0.93ミリモル):
l−クロロ−5−ヘキサノン(0.10ミリモル);1
−クロロ−4−ヘキサノン(2.10ミリモル)。
1−クロロ−4−ヘキサノール(0.93ミリモル):
l−クロロ−5−ヘキサノン(0.10ミリモル);1
−クロロ−4−ヘキサノン(2.10ミリモル)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 パラフィン系化合物を酸化して、対応するアルコー
ル及び/又はケトン誘導体を得る方法において、触媒と
してチタン・シリカライトを使用して、過酸化水素によ
って、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2は炭素数1〜20の直鎖状ア
ルキル、炭素数3〜20の分枝状又は環式アルキルの中
から選ばれるか、或いはR_1及びR_2は相互に一緒
になって、それらが結合している炭素原子上で閉環して
環状構造を生じる2価の基を構成することもでき、R_
1及び_2は、相互に等しいか異なるかいずれでもよく
、かつ塩素、臭素、ヨウ素、フッ素、ニトロ基、アルコ
キシ基、アミノ基、カルボニル基、カルボキシ基、カル
ボキシエステル基、ニトリル基及びアミド等の感応性基
を含むこともでき;R_3は、R_1及びR_2と同意
義であり、或いは水素である)で表されるパラフィン系
化合物を酸化することを特徴とする、パラフィン系化合
物の酸化法。 2 請求項1記載の方法において、前記チタン・シリカ
ライトが、一般式 pHMO_2・qTiO_2・SiO_2 (式中、Mはアルミニウム、ガリウム及び鉄の中から選
ばれる金属であり、pは0から0.05の範囲内の数で
あり、qは0.0001から0.05の範囲内にあって
、好ましくは0.01から0.025の範囲内にある)
を有するものである、パラフィン系化合物の酸化法。 3 請求項1又は2記載の方法において、前記パラフィ
ン系化合物が、プロパン、ブタン、イソブタン、n−ペ
ンタン、n−ヘキサンシクロヘキサン、クロロヘキサン
、メチルヘプタノエート、アミロニトリル、ドデカンの
中から選ばれるものである、パラフィン系化合物の酸化
法。 4 請求項1−3のいずれか1項記載の方法において、
前記パラフィン系化合物の酸化によって、モノアルコー
ル及び/又はケトン、或いはこれらの混合物を製造する
、パラフィン系化合物の酸化法。 5 請求項1−4のいずれか1項記載の方法において、
前記酸化を0℃−100℃の範囲内の温度で行う、パラ
フィン系化合物の酸化法。 6 請求項5記載の方法において、前記酸化を25℃−
70℃の範囲内の温度で行う、パラフィン系化合物の酸
化法。 7 請求項1−6のいずれか1項記載の方法において、
前記酸化を、メタノール、第3級ブチルアルコール、ア
セトニトリル、アセトン、水又はこれらの混合物の中か
ら選ばれる溶媒の存在下で行う、パラフィン系化合物の
酸化法。 8 請求項7記載の方法において、前記酸化反応からの
生成物を前記溶媒として使用する、パラフィン系化合物
の酸化法。 9 請求項1−8のいずれか1項記載の方法において、
前記酸化を加圧下で行う、パラフィン系化合物の酸化法
。 10 請求項1−9のいずれか1項記載の方法において
、1−70(w/v)%の範囲内にある濃度の過酸化水
素を用いる、パラフィン系化合物の酸化法。 11 請求項1−10のいずれか1項記載の方法におい
て、前記パラフィン系化合物/前記過酸化水素のモル比
の値が0.5〜100、好ましくは1〜10の範囲内で
選ばれる、パラフィン系化合物の酸化法。
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-
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- 1990-08-09 JP JP2209355A patent/JP2995575B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
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- 1996-01-19 GR GR960400137T patent/GR3018748T3/el unknown
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