JPH0376757A - 防炎の滴下しないポリアミド成形組成物 - Google Patents
防炎の滴下しないポリアミド成形組成物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/53—Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
- C08K5/5313—Phosphinic compounds, e.g. R2=P(:O)OR'
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一定量の
A)フェノール−アルデヒド/ケトン縮金物を基にした
ポリフェノールのホスフィン酸エステル、 B)滴下防止剤(例えばポリフルオロエチレンポリマー
またはアラミド)、及び C)ホウ酸亜鉛、 そしてもし適切ならば補強剤、及び防炎のための及び加
工などのための他の添加物 を含む、防炎の(f lameproofed)滴下し
ない(non−dripping)ポリアミド成形組成
物に関する。
ポリフェノールのホスフィン酸エステル、 B)滴下防止剤(例えばポリフルオロエチレンポリマー
またはアラミド)、及び C)ホウ酸亜鉛、 そしてもし適切ならば補強剤、及び防炎のための及び加
工などのための他の添加物 を含む、防炎の(f lameproofed)滴下し
ない(non−dripping)ポリアミド成形組成
物に関する。
ホスフィン酸及びアルコールまたはフェノールのエステ
ルは知られている。それらは防炎剤として既に提案され
ている。DE−O53219047は、ポリフェニレン
オキシド及びモノビニル芳香族化合物の衝撃改質された
ポリマーの成形組成物のための防炎剤として二価アルコ
ールまたは一価一若しくは多価フェノールのホスフィン
酸エステルを特許請求している。レソルシノール、ピロ
カテコール及びフロログルシノールが多価フェノールと
して特別に述べられている。フェノール−アルデヒド/
ケトン縮合物のホスフィン酸エステルは述べられていな
い。滴下防止剤(例えばポリフルオロエチレンポリマー
またはアラミド)及びホウ酸亜鉛と組み合わせた、ポリ
アミドのための防炎剤として特許請求されるタイプのホ
スフィン酸エステルの使用もまた以前には述べられてい
ない。
ルは知られている。それらは防炎剤として既に提案され
ている。DE−O53219047は、ポリフェニレン
オキシド及びモノビニル芳香族化合物の衝撃改質された
ポリマーの成形組成物のための防炎剤として二価アルコ
ールまたは一価一若しくは多価フェノールのホスフィン
酸エステルを特許請求している。レソルシノール、ピロ
カテコール及びフロログルシノールが多価フェノールと
して特別に述べられている。フェノール−アルデヒド/
ケトン縮合物のホスフィン酸エステルは述べられていな
い。滴下防止剤(例えばポリフルオロエチレンポリマー
またはアラミド)及びホウ酸亜鉛と組み合わせた、ポリ
アミドのための防炎剤として特許請求されるタイプのホ
スフィン酸エステルの使用もまた以前には述べられてい
ない。
本発明は、100重量部のポリアミド成形組成物中に、
以下の添加物: A)3〜20重量%、好ましくは5〜15重量%の、式
(I) [式中、 nは、1と20の間の、好ましくはlと10の間の整数
であり、 Rは、1〜4の炭素原子を有するアルキレン基、5〜9
の炭素原子を有するシクロアルキレン基でありまたは、
もしn=1ならば、また直接結合、スルホニル基若しく
はカルボニル若しくは酸素若しくは硫黄であり、 R8及びR2は、水素、ハロゲン、1−12の炭素原子
を有するアルキル基、5〜9の炭素原子を有するシクロ
アルキル基または6〜loの炭素原子を有するアリール
基であり、そして R1及びR4は、1〜4の炭素原子を有するアルキル基
及び/または6〜10の炭素原子を有するアリール基で
あり、そしてまたR1及びR4が、アルキル基の場合に
は、単結合または二重結合によって結合され、そしてリ
ン原子を経由して形成される環が、1〜4の炭素原子を
有するアルキル基R6を保持することも可能であり、モ
してRは、好ましくはフェノール核のオルトまたはパラ
位置に結合していて、その場合にはR1は、それぞれパ
ラまたはオルト位置に結合している] のポリフェノールのホスフィン酸エステル、B)Bl)
O,1〜3重量%、好ましくは0゜3〜1.0重量%の
ポリフルオロエチレンポリマー及び/またはエチレンポ
リマー及び/または B2)O,1〜5重量%、好ましくは1〜2.5重量%
のアラミド を含有して成るシリーズからの、6重量%より多くない
、好ましくは3重量%より多くない総量の滴下防止剤、 C)0.5〜15重量%、好ましくは3〜12重量%の
、防炎補強剤としてのホウ酸亜鉛(水和物)、 そしてもし適切ならば、 D)0〜40重量%、好ましくは15〜30重量%の無
機充填剤及び/または補強剤及び/または顔料、 E)0〜30重量%、好ましくは5〜20重量%の他の
防炎剤、例えば窒素化合物、ハロゲン化合物及び/また
は他のリン化合物、 F)0〜10重量%、好ましくは1〜5重量%の加工助
剤、及び G)0〜20重量%の、ポリアミドのための慣用の添加
物、例えばUV、光及び熱安定剤、衝撃強さを改良する
ための公知の薬剤/適合性を改良するための薬剤 を含有して成る群からのその他の添加物を含む、防炎の
滴下しないポリアミド成形組成物に関する。
以下の添加物: A)3〜20重量%、好ましくは5〜15重量%の、式
(I) [式中、 nは、1と20の間の、好ましくはlと10の間の整数
であり、 Rは、1〜4の炭素原子を有するアルキレン基、5〜9
の炭素原子を有するシクロアルキレン基でありまたは、
もしn=1ならば、また直接結合、スルホニル基若しく
はカルボニル若しくは酸素若しくは硫黄であり、 R8及びR2は、水素、ハロゲン、1−12の炭素原子
を有するアルキル基、5〜9の炭素原子を有するシクロ
アルキル基または6〜loの炭素原子を有するアリール
基であり、そして R1及びR4は、1〜4の炭素原子を有するアルキル基
及び/または6〜10の炭素原子を有するアリール基で
あり、そしてまたR1及びR4が、アルキル基の場合に
は、単結合または二重結合によって結合され、そしてリ
ン原子を経由して形成される環が、1〜4の炭素原子を
有するアルキル基R6を保持することも可能であり、モ
してRは、好ましくはフェノール核のオルトまたはパラ
位置に結合していて、その場合にはR1は、それぞれパ
ラまたはオルト位置に結合している] のポリフェノールのホスフィン酸エステル、B)Bl)
O,1〜3重量%、好ましくは0゜3〜1.0重量%の
ポリフルオロエチレンポリマー及び/またはエチレンポ
リマー及び/または B2)O,1〜5重量%、好ましくは1〜2.5重量%
のアラミド を含有して成るシリーズからの、6重量%より多くない
、好ましくは3重量%より多くない総量の滴下防止剤、 C)0.5〜15重量%、好ましくは3〜12重量%の
、防炎補強剤としてのホウ酸亜鉛(水和物)、 そしてもし適切ならば、 D)0〜40重量%、好ましくは15〜30重量%の無
機充填剤及び/または補強剤及び/または顔料、 E)0〜30重量%、好ましくは5〜20重量%の他の
防炎剤、例えば窒素化合物、ハロゲン化合物及び/また
は他のリン化合物、 F)0〜10重量%、好ましくは1〜5重量%の加工助
剤、及び G)0〜20重量%の、ポリアミドのための慣用の添加
物、例えばUV、光及び熱安定剤、衝撃強さを改良する
ための公知の薬剤/適合性を改良するための薬剤 を含有して成る群からのその他の添加物を含む、防炎の
滴下しないポリアミド成形組成物に関する。
ポリアミド混合物に添加される量は、ここで好ましい実
施態様においては全部で60重量%、好ましくは53重
量%、特に47重量%を越えてはならない;部分の量も
またここで限定されなければならない: 防炎添加物(A十B十〇十E)の総量は、35重量%、
好ましくは30重量%、特に25.5重量%を越えては
ならず; 添加物(F+G)の総量は、25重量%を越えてはなら
ず; そしてD)の総量は、ポリアミド混合物の40重量%を
越えてはならない。
施態様においては全部で60重量%、好ましくは53重
量%、特に47重量%を越えてはならない;部分の量も
またここで限定されなければならない: 防炎添加物(A十B十〇十E)の総量は、35重量%、
好ましくは30重量%、特に25.5重量%を越えては
ならず; 添加物(F+G)の総量は、25重量%を越えてはなら
ず; そしてD)の総量は、ポリアミド混合物の40重量%を
越えてはならない。
本発明に従って用いられるホスフィン酸エステル(I)
は、ビスフェノール及び、フェノールとアルデヒドまた
はケトンとの縮合生成物によって代表されるようなポリ
フェノールのアルキル−及びアリールホスフィン酸エス
テルである。ここで好ましい化合物は、式(II)及び
(I[)のビスフェノール及びより高分子量のフェノー
ル−ホルムアルデヒド縮合生成物(一般にはノボラック
と呼ばれる)のアルキル−及びアリールホスフィン酸エ
ステルであり、式(II)はビスフェノールのホスフィ
ン酸エステルを表し、そして式(I[)はノボラック(
n≧2、好ましくは3〜8)のそれらを表し、そして式
中、 nは、2と15の間の、好ましくは2と10の間の整数
を表し、 Rは、単結合、メチレン、インプロピリデン基、酸素、
硫黄またはスルホニル若しくはカルボニル基を表し、 R4は、水素、ハロゲンまたは1−12の炭素原子を有
するアルキル基を表し、 R3は、水素、ハロゲンまたは1〜4の炭素原子を有す
るアルキル基を表し、そして R1及びR6は、メチル、エチル若しくはフェニル基を
表すか、または−緒にブチリデン若しくはアルキルブチ
リデン基を表す。
は、ビスフェノール及び、フェノールとアルデヒドまた
はケトンとの縮合生成物によって代表されるようなポリ
フェノールのアルキル−及びアリールホスフィン酸エス
テルである。ここで好ましい化合物は、式(II)及び
(I[)のビスフェノール及びより高分子量のフェノー
ル−ホルムアルデヒド縮合生成物(一般にはノボラック
と呼ばれる)のアルキル−及びアリールホスフィン酸エ
ステルであり、式(II)はビスフェノールのホスフィ
ン酸エステルを表し、そして式(I[)はノボラック(
n≧2、好ましくは3〜8)のそれらを表し、そして式
中、 nは、2と15の間の、好ましくは2と10の間の整数
を表し、 Rは、単結合、メチレン、インプロピリデン基、酸素、
硫黄またはスルホニル若しくはカルボニル基を表し、 R4は、水素、ハロゲンまたは1−12の炭素原子を有
するアルキル基を表し、 R3は、水素、ハロゲンまたは1〜4の炭素原子を有す
るアルキル基を表し、そして R1及びR6は、メチル、エチル若しくはフェニル基を
表すか、または−緒にブチリデン若しくはアルキルブチ
リデン基を表す。
特に好ましい化合物は、式(IV)及び(V)[式中、
nは、2と8の間の整数を表し、
Rは、上で述べた意味を有し、
R2は、水素またはメチル基を表し、そしてR6は、同
様に水素またはメチル基を表す]の化合物である。
様に水素またはメチル基を表す]の化合物である。
本発明の意味でのポリアミドは、主に脂肪族/脂環式ジ
アミン及びジカルボン酸及び/またはラクタム環中に4
からのメチレン基を有するラクタムから公知の重縮合及
び/または重合方法によって製造される、すべての無定
形及び/または部分的に結晶性の主に脂肪族/脂環式の
熱可塑性ポリアミドである。出発物質は、脂肪族の、ま
l;は50重量%未満の芳香族成分を有する混合された
脂肪族芳香族のジカルボン酸、例えばアジピン酸、2.
2.4−及び2,4.4−トリメチルアジピン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカン
ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒ
ドロテレフタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸、並
びに脂肪族及び芳香族ジアミン、例えばヘキサメチレン
ジアミン、2,2.4−及び2,4゜4−トリメチルへ
キサメチレンジアミン、ジアミノ−ジシクロヘキシルメ
タン異性体、ジアミノ−ジシクロヘキシルプロパン異性
体及びインホロンジアミン(異性体)、キシリレンジア
ミン、並びにアミノカルボン酸、例えばε−アミノカプ
ロン酸及びω−アミノカルボン酸、例えばω−アミノウ
ンデカン酸またはω−アミノラウリン酸である。
アミン及びジカルボン酸及び/またはラクタム環中に4
からのメチレン基を有するラクタムから公知の重縮合及
び/または重合方法によって製造される、すべての無定
形及び/または部分的に結晶性の主に脂肪族/脂環式の
熱可塑性ポリアミドである。出発物質は、脂肪族の、ま
l;は50重量%未満の芳香族成分を有する混合された
脂肪族芳香族のジカルボン酸、例えばアジピン酸、2.
2.4−及び2,4.4−トリメチルアジピン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカン
ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒ
ドロテレフタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸、並
びに脂肪族及び芳香族ジアミン、例えばヘキサメチレン
ジアミン、2,2.4−及び2,4゜4−トリメチルへ
キサメチレンジアミン、ジアミノ−ジシクロヘキシルメ
タン異性体、ジアミノ−ジシクロヘキシルプロパン異性
体及びインホロンジアミン(異性体)、キシリレンジア
ミン、並びにアミノカルボン酸、例えばε−アミノカプ
ロン酸及びω−アミノカルボン酸、例えばω−アミノウ
ンデカン酸またはω−アミノラウリン酸である。
述べられた七ツマ−の数個のコポリアミドもまた用いる
ことができる。
ことができる。
ポリアミド−6、ポリアミド−6,6、ポリアミド−6
,10,ポリアミド−6,12、ポリアミド−1l、ポ
リアミド−12,50重量%未満の芳香族含量を有する
ポリアミド−6T6または6夏6が好ましい。それらは
、2.0〜5.0の、好ましくは2.5〜4.0の相対
粘度(25℃でm−クレゾール中の1重量%溶液につい
て測定して)を好ましくは有する。
,10,ポリアミド−6,12、ポリアミド−1l、ポ
リアミド−12,50重量%未満の芳香族含量を有する
ポリアミド−6T6または6夏6が好ましい。それらは
、2.0〜5.0の、好ましくは2.5〜4.0の相対
粘度(25℃でm−クレゾール中の1重量%溶液につい
て測定して)を好ましくは有する。
これらのポリアミドは公知の方法によって製造すること
ができる(プラスチックノ1ンドブツク、■巻、11−
198頁、カールーハンゼル(Carl−Hanser
)出版社、ミュンヘン、1966参照)。
ができる(プラスチックノ1ンドブツク、■巻、11−
198頁、カールーハンゼル(Carl−Hanser
)出版社、ミュンヘン、1966参照)。
A)ホスフィン酸エステル
本発明に従って用いられるホスフィン酸エステルは、ビ
ス−及びポリフェノール(ノボラック)のジアルキル−
、ジアリール−及びアルキルアリールホスフィン酸エス
テルである。ホスフィン酸は本発明によるエステルに直
接転化することができないので、それらのもつと反応性
の誘導体を使用しなければならない。これらは、ポリフ
ェノールと反応して塩化水素を遊離することによって本
発明によるエステルを与える酸塩化物、及びポリフェノ
ールと反応してフェノールを遊離することによって(エ
ステル交換)本発明によるエステルを与えるフェニルエ
ステル(同様に酸塩化物からの)である。
ス−及びポリフェノール(ノボラック)のジアルキル−
、ジアリール−及びアルキルアリールホスフィン酸エス
テルである。ホスフィン酸は本発明によるエステルに直
接転化することができないので、それらのもつと反応性
の誘導体を使用しなければならない。これらは、ポリフ
ェノールと反応して塩化水素を遊離することによって本
発明によるエステルを与える酸塩化物、及びポリフェノ
ールと反応してフェノールを遊離することによって(エ
ステル交換)本発明によるエステルを与えるフェニルエ
ステル(同様に酸塩化物からの)である。
ホスフィン酸の例は、ジメチルホスフィン酸、メチルエ
チルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、メチルフェ
ニルホスフィン酸、エチルフェニルホスフィン酸、ジフ
ェニルホスフィン酸、ジ−p−トリルホスフィン酸及び
フェニルナフチルホスフィン酸、並びに1−ヒドロキシ
−1−オキソ−ホスホリン、l−ヒドロキシ−1−オキ
ソ−3−メチル−ホスホリン及びl−ヒドロキシ−1−
オキソ−3,4−ジメチル−ホスホリンである。
チルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、メチルフェ
ニルホスフィン酸、エチルフェニルホスフィン酸、ジフ
ェニルホスフィン酸、ジ−p−トリルホスフィン酸及び
フェニルナフチルホスフィン酸、並びに1−ヒドロキシ
−1−オキソ−ホスホリン、l−ヒドロキシ−1−オキ
ソ−3−メチル−ホスホリン及びl−ヒドロキシ−1−
オキソ−3,4−ジメチル−ホスホリンである。
ホスフィン酸及びそれらの誘導体、例えば塩化物及びフ
ェニルエステルのための製造方法は、知られていてそし
て文献(有機化学の方法(ホーベンーヴイル(Houb
en−Weyl)) 、 X n /1巻、217〜
266頁、及びE2巻、123〜221頁)中に要約さ
れている。
ェニルエステルのための製造方法は、知られていてそし
て文献(有機化学の方法(ホーベンーヴイル(Houb
en−Weyl)) 、 X n /1巻、217〜
266頁、及びE2巻、123〜221頁)中に要約さ
れている。
ホスフィン酸塩化物とビス−及びポリフェノールとの反
応は、180〜200℃の温度で極めてゆっくりと実施
され、塩化水素が遊離される。もし触媒、例えば塩化マ
グネシウムも使用されるならば、これは、より低い温度
でそしてより短い時間ですでに起きる。より低い温度で
は、ノボラックのエステル化においては粘度の理由のた
めに、不活性高沸溶媒もまた使用しなければならない。
応は、180〜200℃の温度で極めてゆっくりと実施
され、塩化水素が遊離される。もし触媒、例えば塩化マ
グネシウムも使用されるならば、これは、より低い温度
でそしてより短い時間ですでに起きる。より低い温度で
は、ノボラックのエステル化においては粘度の理由のた
めに、不活性高沸溶媒もまた使用しなければならない。
塩化マグネシウムまたは第三アミンが通常は触媒として
用いられる。かなりもつと急速に進行するエステル交換
方法の場合にも、触媒として塩化マグネシウムが同様に
使用される。温度は再び200℃である。
用いられる。かなりもつと急速に進行するエステル交換
方法の場合にも、触媒として塩化マグネシウムが同様に
使用される。温度は再び200℃である。
ビスフェノール及びノボラックは、公知の方法によって
製造される(ビスフェノールに関しては:H,シュネル
(Schnell)及びH,クリム(lrimo+)、
アンゲバ、ケミ−(Angev、Che+aie)75
(1963)、662〜668を;ノボラックに関し
ては:互選化学の方法(ホーベンーヴイル)、XIV/
2巻、193〜292頁、及び“ウルマン(Ullma
nn)、工業化学百科事典”第4版、18巻、245〜
257頁を参照)。
製造される(ビスフェノールに関しては:H,シュネル
(Schnell)及びH,クリム(lrimo+)、
アンゲバ、ケミ−(Angev、Che+aie)75
(1963)、662〜668を;ノボラックに関し
ては:互選化学の方法(ホーベンーヴイル)、XIV/
2巻、193〜292頁、及び“ウルマン(Ullma
nn)、工業化学百科事典”第4版、18巻、245〜
257頁を参照)。
述へてよい適当なビスフェノールは:
ビス−(ヒドロキシフェニル)−アルカン、ビス−(ヒ
ドロキシフェニル)−シクロアルカン、ビス−(ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス−(ヒドロキシフェニル
)ケトン、ビス−(ヒドロキシフェニル)スルホン及び
これらの核アルキル化及び核ハロゲン化誘導体 である。
ドロキシフェニル)−シクロアルカン、ビス−(ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス−(ヒドロキシフェニル
)ケトン、ビス−(ヒドロキシフェニル)スルホン及び
これらの核アルキル化及び核ハロゲン化誘導体 である。
本発明の意味において最も重要なビスフェノールは、4
.4″−ジヒドロキシジフェニル、2.2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)−プロパン、ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−メタン、4,4″−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、4.4’−ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル、4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4
.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及びこれらの
核置換誘導体であり、ここで好ましい可能な置換基はC
H3、CIまたはBrである。核メチル化誘導体は、2
.2−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル 特に好ましいジフェノールは、2.2−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−プロパン、4.4’−ジヒドロキ
シジフェニル、4.4’−ジヒドロキシジフェニルエー
テル、4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4
、4°−ジヒドロキシベンゾフェノン及び2.2−ビス
−(4−ヒドロキシ−3.5−ジメチルフェニル)−プ
ロパンである。
.4″−ジヒドロキシジフェニル、2.2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)−プロパン、ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−メタン、4,4″−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、4.4’−ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル、4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4
.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及びこれらの
核置換誘導体であり、ここで好ましい可能な置換基はC
H3、CIまたはBrである。核メチル化誘導体は、2
.2−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル 特に好ましいジフェノールは、2.2−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−プロパン、4.4’−ジヒドロキ
シジフェニル、4.4’−ジヒドロキシジフェニルエー
テル、4.4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4
、4°−ジヒドロキシベンゾフェノン及び2.2−ビス
−(4−ヒドロキシ−3.5−ジメチルフェニル)−プ
ロパンである。
ジフェノールの混合物を用いることもまた可能である。
適当なノボラックは、−数式(■)
4
[式中、
R2及びR.は水素原子を表し、そしてR,、R,及び
R,は随時水素、ハロゲン若しくはC,−C,。−アル
キル、シクロアルキル若しくはC.〜C10ーアリール
基でよく、または式中、R,及びR.は水素原子を表し
、そしてR3,R.及びR.は上で述べた基でよい]の
フェノール及びホルムアルデヒドの縮合生成物である。
R,は随時水素、ハロゲン若しくはC,−C,。−アル
キル、シクロアルキル若しくはC.〜C10ーアリール
基でよく、または式中、R,及びR.は水素原子を表し
、そしてR3,R.及びR.は上で述べた基でよい]の
フェノール及びホルムアルデヒドの縮合生成物である。
フェノールの特徴的な例は、このようにして限定するの
ではないが、フェノール、0−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、2.5−ジメチル−、3.5−
ジメチル−、2,3.5−トリメチル−、3,4.5−
トリメチル−、p−t−ブチル、p−n−オクチル−、
p−ステアリル−、p−フェニル−、p−(2−フェニ
ルエチル)−、1−フェニルエチル−、0−イソプロピ
ル−、p−イソプロピル−及びm−イソプロピルフェノ
ール及び多数のその他のフェノールである。
ではないが、フェノール、0−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、2.5−ジメチル−、3.5−
ジメチル−、2,3.5−トリメチル−、3,4.5−
トリメチル−、p−t−ブチル、p−n−オクチル−、
p−ステアリル−、p−フェニル−、p−(2−フェニ
ルエチル)−、1−フェニルエチル−、0−イソプロピ
ル−、p−イソプロピル−及びm−イソプロピルフェノ
ール及び多数のその他のフェノールである。
フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−ク
レゾール、p−t−ブチルフェノール及びO−t−’チ
ルフェノール及びp−オクチルフェノールが好ましく用
いられる。
レゾール、p−t−ブチルフェノール及びO−t−’チ
ルフェノール及びp−オクチルフェノールが好ましく用
いられる。
しかしながら、これらのフェノールの混合物を用いるこ
ともまた可能である。
ともまた可能である。
従って好ましく用いられるノボラックは、このようにし
て限定をするのではないが: フェノール/ホルムアルデヒドノボラック、0−クレゾ
ール/ホルムアルデヒドノボラック、m−クレゾール/
ホルムアルデヒドノボラック、p−クレゾール/ホルム
アルデヒドノボラック、セーブチルフェノール/ホルム
アルデヒドノボラック及び p−オクチルフェノール/ホルムアルデヒドノボラック である。
て限定をするのではないが: フェノール/ホルムアルデヒドノボラック、0−クレゾ
ール/ホルムアルデヒドノボラック、m−クレゾール/
ホルムアルデヒドノボラック、p−クレゾール/ホルム
アルデヒドノボラック、セーブチルフェノール/ホルム
アルデヒドノボラック及び p−オクチルフェノール/ホルムアルデヒドノボラック である。
p−クレゾール/ホルムアルデヒドノボラックが特に好
ましい。
ましい。
B)滴下防止剤
本発明に従って適当なポリフルオロエチレンポリマーB
l)は、65〜76重量%、好ましくは70〜76重量
%のフッ素含量を有するポリマーである。例は、ポリテ
トラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキ
サフルオロプロピレンコポリマー、テトラフルオロエチ
レン−ジフルオロエチレンコポリマーまたはテトラフル
オロエチレンと小量のフッ素を含まない共重合可能なエ
チレン性不飽和モノマーとのコポリマーである。
l)は、65〜76重量%、好ましくは70〜76重量
%のフッ素含量を有するポリマーである。例は、ポリテ
トラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキ
サフルオロプロピレンコポリマー、テトラフルオロエチ
レン−ジフルオロエチレンコポリマーまたはテトラフル
オロエチレンと小量のフッ素を含まない共重合可能なエ
チレン性不飽和モノマーとのコポリマーである。
これらのポリマーは知られている。それらは、細かく分
割された形で、通常は粉末として使用してよい。それら
は、公知の方法によって、かくして例えば、フリーラジ
カルを生成させる触媒、例えばナトリウム、カリウムま
たはアンモニウムのベルオキシジスルフエートを用いて
水性媒体中でテトラフルオロエチレンを7〜7 1 k
g / c m 2の圧力下でモして0〜200℃の
温度で、好ましくは20−100℃の温度で重合させる
ことによって製造することができる(これ以上の詳細に
ついては、例えば米国特許2 393 967参照)。
割された形で、通常は粉末として使用してよい。それら
は、公知の方法によって、かくして例えば、フリーラジ
カルを生成させる触媒、例えばナトリウム、カリウムま
たはアンモニウムのベルオキシジスルフエートを用いて
水性媒体中でテトラフルオロエチレンを7〜7 1 k
g / c m 2の圧力下でモして0〜200℃の
温度で、好ましくは20−100℃の温度で重合させる
ことによって製造することができる(これ以上の詳細に
ついては、例えば米国特許2 393 967参照)。
本発明に従って適当なポリフルオロエチレンポリマーは
、好ましくは10’と10’の間の重量平均分子量Mw
を持たねばならない。
、好ましくは10’と10’の間の重量平均分子量Mw
を持たねばならない。
ポリフルオロエチレンポリマーは、好ましくは焼結され
ていない形で添加される。
ていない形で添加される。
燃焼操作の間の本成形紙載物溶融物の滴下は、特にポリ
フルオロエチレンポリマーの添加によって減少または完
全に防止される。
フルオロエチレンポリマーの添加によって減少または完
全に防止される。
滴下防止剤として適当な芳香族ポリアミドB2)は、通
常は芳香族アリーレンジカルボン酸及び芳香族ジアミン
から溶液縮合によってまたは界面縮合によって製造され
る(カーク−オスマー、化学技術の百科事典、第三板、
3巻、213〜242頁)。
常は芳香族アリーレンジカルボン酸及び芳香族ジアミン
から溶液縮合によってまたは界面縮合によって製造され
る(カーク−オスマー、化学技術の百科事典、第三板、
3巻、213〜242頁)。
アリーレンジカルボン酸は、特に、フタル酸、イソフタ
ル酸及びテレフタル酸である。
ル酸及びテレフタル酸である。
芳香族ジアミンの例は、0−フェニレンジアミン、m−
フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、及びフ
ェニル単位が直接結合またはへテロ原子または基によっ
て結合されていて、式1式% ) ] に対応するジアミノジフェニルでアル。
フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、及びフ
ェニル単位が直接結合またはへテロ原子または基によっ
て結合されていて、式1式% ) ] に対応するジアミノジフェニルでアル。
それ以外の適当な滴下防止剤は、ポリイミド−アミド、
例えば: υ [x = −CH!−または一〇−] である。
例えば: υ [x = −CH!−または一〇−] である。
主鎖中に複素環式構造、例えばオキシダゾール、トリア
ゾール、ビチアゾール、ヘンズイミダゾール、ヒダント
イン及びキナゾロン構造を含みそしてもし適切ならばジ
カルボン酸、ジアミンまたはアミノカルボン酸を経て作
り上げられたアラミド(“ウルマン(U11n+ann
)、工業化学百科事典”第4版、11巻、345〜35
0頁参照)もさらにまた適当である。
ゾール、ビチアゾール、ヘンズイミダゾール、ヒダント
イン及びキナゾロン構造を含みそしてもし適切ならばジ
カルボン酸、ジアミンまたはアミノカルボン酸を経て作
り上げられたアラミド(“ウルマン(U11n+ann
)、工業化学百科事典”第4版、11巻、345〜35
0頁参照)もさらにまた適当である。
全部で50重量パーセントより多い程度が上で述べた芳
香族ポリアミドから成り、残りが(環式)脂肪族カルボ
ン酸及び/または(環式)脂肪族ジアミンである芳香族
ポリアミドもまた適当である。
香族ポリアミドから成り、残りが(環式)脂肪族カルボ
ン酸及び/または(環式)脂肪族ジアミンである芳香族
ポリアミドもまた適当である。
用いることができる脂肪族ジカルボン酸の例は、アジピ
ン酸、2.2.4−及び2.4.4−トリメチルアジピ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸
及びドデカンジカルボン酸である。用いることができる
脂肪族ジアミンの例は、ヘキサメチレンジアミン、2.
2.4−及び2,4.4−トリメチルへキサメチレンジ
アミン、ジアミノ−ジシクロヘキシルメタン異性体、ジ
アミノ−ジシクロヘキシルプロパン異性体、インホロン
ジアミン及びキシリレンジアミンである。
ン酸、2.2.4−及び2.4.4−トリメチルアジピ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸
及びドデカンジカルボン酸である。用いることができる
脂肪族ジアミンの例は、ヘキサメチレンジアミン、2.
2.4−及び2,4.4−トリメチルへキサメチレンジ
アミン、ジアミノ−ジシクロヘキシルメタン異性体、ジ
アミノ−ジシクロヘキシルプロパン異性体、インホロン
ジアミン及びキシリレンジアミンである。
C)ホウ酸亜鉛(水和物)
ホウ酸亜鉛(水利物)は変動する(varying)組
成の生成物であり得る(″ウルマン(Ul 1mann
)、工業化学百科事典”第5版、A4巻、276頁参照
)、2ZnO*3B*Os*3.5H!Oは、290〜
300℃の温度範囲内までのその安定性のために、ポリ
アミド成形組成物のための滴下防止剤として特に適当で
ある。
成の生成物であり得る(″ウルマン(Ul 1mann
)、工業化学百科事典”第5版、A4巻、276頁参照
)、2ZnO*3B*Os*3.5H!Oは、290〜
300℃の温度範囲内までのその安定性のために、ポリ
アミド成形組成物のための滴下防止剤として特に適当で
ある。
D)補強剤
本発明に従って随時用いてよい無機補強剤は、ポリアミ
ドを補強するために知られているすべての薬剤を含む。
ドを補強するために知られているすべての薬剤を含む。
述べてよい例は、カッツ(Katz)及びミレウスキー
(Milewski)、“プラスチックのための充填剤
及び補強剤のハンドブック” ノストランド(Nost
rand)出版社、1978中に述べられているような
、ガラス繊維、ガラスピーズ及び/または鉱物充填剤で
ある。無機補強剤としてはガラス繊維が好ましくは用い
られる。用いられるガラス繊維は、一般に、約6〜15
μm、好ましくは8〜13μmの径、及び45より大き
い、好ましくは50〜200の長さ対厚さの比を有する
。
(Milewski)、“プラスチックのための充填剤
及び補強剤のハンドブック” ノストランド(Nost
rand)出版社、1978中に述べられているような
、ガラス繊維、ガラスピーズ及び/または鉱物充填剤で
ある。無機補強剤としてはガラス繊維が好ましくは用い
られる。用いられるガラス繊維は、一般に、約6〜15
μm、好ましくは8〜13μmの径、及び45より大き
い、好ましくは50〜200の長さ対厚さの比を有する
。
その他の可能な充填剤及び補弧物質は、ガラスのマイク
ロビーズ、炭素繊維、チョーク、石英、例えばツバキュ
ライト、及びシリケート、例えばアスベスト、長石、雲
母、タルク、珪灰石及びか焼された及びか焼されていな
い形のカオリン、そしてまた、その他の充填剤及び顔料
としては、アルカリ土金属炭酸塩、アルカリ土金属酸化
物、二酸化チタン及び/または硫化亜鉛である。用いら
れる鉱物充填剤は、20μm未満、好ましくはlOpm
未満、特に2〜8μmの平均粒径を有する。
ロビーズ、炭素繊維、チョーク、石英、例えばツバキュ
ライト、及びシリケート、例えばアスベスト、長石、雲
母、タルク、珪灰石及びか焼された及びか焼されていな
い形のカオリン、そしてまた、その他の充填剤及び顔料
としては、アルカリ土金属炭酸塩、アルカリ土金属酸化
物、二酸化チタン及び/または硫化亜鉛である。用いら
れる鉱物充填剤は、20μm未満、好ましくはlOpm
未満、特に2〜8μmの平均粒径を有する。
それらは、適当なやり方、例えばアミノアルキルシラン
による処理で表面改質することができる。
による処理で表面改質することができる。
E)他の防炎剤
防炎剤組み合わせ物のために適当な有機ハロゲン化合物
は一般に知られていて、例えばハロゲン化されたディー
ルス−アルダ−付加物、例えばヘキサクロロシクロペン
タジェン、ヘキサクロロエンドメチレンテトラヒドロフ
タル酸及びその無水物、ビス−(ヘキサクロロシクロペ
ンタジェン)−シクロオクタン(オキシデンタルケミカ
ル(Occidental Chemical)社、U
SAからのデクロラン プラス(Dechlorane
Plus)及びテトラクロロフタル酸無水物である。
は一般に知られていて、例えばハロゲン化されたディー
ルス−アルダ−付加物、例えばヘキサクロロシクロペン
タジェン、ヘキサクロロエンドメチレンテトラヒドロフ
タル酸及びその無水物、ビス−(ヘキサクロロシクロペ
ンタジェン)−シクロオクタン(オキシデンタルケミカ
ル(Occidental Chemical)社、U
SAからのデクロラン プラス(Dechlorane
Plus)及びテトラクロロフタル酸無水物である。
その他の可能な臭素−含有防炎剤の例は、ヘキサブロモ
ベンゼン、ペンタフロモトルエン、オクタ−及びデカブ
ロモジフェニル、オクタ−及びデカブロモジフェニルエ
ーテル、ヘキサブロモ−ビス−フェノキシエタン、エチ
レン−ビス−テトラブロモフタルイミド及びこれらの混
合物、並びに臭素化されたポリスチレン(フェロ(Fe
rro)社、USAからのパイロ−チエツク(Pyro
−Check)タイプ)及び臭素化されたポリフェニレ
ンオキシド(ブレイト レイクスケム、(Great
Lakes Chen+ 、 )社、USAからのブレ
イト レイクスPO64P)である。
ベンゼン、ペンタフロモトルエン、オクタ−及びデカブ
ロモジフェニル、オクタ−及びデカブロモジフェニルエ
ーテル、ヘキサブロモ−ビス−フェノキシエタン、エチ
レン−ビス−テトラブロモフタルイミド及びこれらの混
合物、並びに臭素化されたポリスチレン(フェロ(Fe
rro)社、USAからのパイロ−チエツク(Pyro
−Check)タイプ)及び臭素化されたポリフェニレ
ンオキシド(ブレイト レイクスケム、(Great
Lakes Chen+ 、 )社、USAからのブレ
イト レイクスPO64P)である。
有機リン化合物、例えばリン酸エステル及びホスホン酸
エステルは、防炎剤組み合わせ物として特に適当である
。芳香族リン酸エステル、例えばリン酸トリフェニル及
びリン酸ジクレシルフェニル、そしてまたホスホン酸エ
ステル、例えばホスホン酸ジフェニルメチル及びホスホ
ン酸ジクレシルフェニル、並びにノボラックのリン酸エ
ステル及びホスホン酸エステルが好ましい。純粋なまた
はカプセル化された形での赤リン(好ましくは慣用のや
り方で安定化された)もまた、組み合わせ物中の防炎剤
として使用することができる。
エステルは、防炎剤組み合わせ物として特に適当である
。芳香族リン酸エステル、例えばリン酸トリフェニル及
びリン酸ジクレシルフェニル、そしてまたホスホン酸エ
ステル、例えばホスホン酸ジフェニルメチル及びホスホ
ン酸ジクレシルフェニル、並びにノボラックのリン酸エ
ステル及びホスホン酸エステルが好ましい。純粋なまた
はカプセル化された形での赤リン(好ましくは慣用のや
り方で安定化された)もまた、組み合わせ物中の防炎剤
として使用することができる。
防炎剤組み合わせ物として適当な有機窒素化合物の例は
、メラミン、シアヌル酸及びこれらの成分の塩(sal
ts)、例えばシアヌル酸、ホウ酸及び/またはリン酸
メラミンである。
、メラミン、シアヌル酸及びこれらの成分の塩(sal
ts)、例えばシアヌル酸、ホウ酸及び/またはリン酸
メラミンである。
添加することができるその他の防炎剤は、金属酸化物、
例えば酸化アンチモン(Ill)、酸化鉛(IV)、酸
化セリウム(■)、酸化#!(Ir)、酸化モリブデン
(Vl)、酸化バナジウム(V)、酸化ビスマス(II
I)、酸化タングステン(VI)、酸化スズ(IV)及
び酸化ジルコニウム(IV)並びにこれらの混合物であ
る。
例えば酸化アンチモン(Ill)、酸化鉛(IV)、酸
化セリウム(■)、酸化#!(Ir)、酸化モリブデン
(Vl)、酸化バナジウム(V)、酸化ビスマス(II
I)、酸化タングステン(VI)、酸化スズ(IV)及
び酸化ジルコニウム(IV)並びにこれらの混合物であ
る。
F)加工助剤
本発明による戊形紙載物に添加することができる加工助
剤(F)は、離型剤、安定剤、流動助剤及び可塑剤であ
る。
剤(F)は、離型剤、安定剤、流動助剤及び可塑剤であ
る。
使用することができる離型剤は、エステルワックス、例
えばモンタン(montan)ワックス、アミドワック
ス、例えばレナックス(Rhenax)”、及び/また
はオリゴエチレンである。可能な可塑剤は、例えば脂肪
族のオリゴマーのポリエステルである(EP 29
931及びDH2706128参照)。
えばモンタン(montan)ワックス、アミドワック
ス、例えばレナックス(Rhenax)”、及び/また
はオリゴエチレンである。可能な可塑剤は、例えば脂肪
族のオリゴマーのポリエステルである(EP 29
931及びDH2706128参照)。
宝Σ里里亜且1
適当な衝撃改質剤は、特に、ゴム、例えばブタジェン−
アクリロニトリルコポリマー、ブタジェンースチレンフ
ボリマー、ブタジェン−イソプレンまたはブタジェン−
スチレンブロックコポリマーアルキルアクリレートゴム
、EP及びEPDMゴム系並びにシリコーンゴムである
。上で述べたゴム系の一つの上にビニル七ツマ−または
コポリマーがグラフトされているそしてグラフトベース
のガラス転移温度が一10℃以下であるべきであるグラ
フトゴムは、ゴム成分として好ましく用いられる。それ
らはまた、好ましくは、ポリアミドのための接着剤基、
例えばカルボキシル基または無水物基を含む。その上に
小量の無水マレイン酸またはスチレン−無水マレイン酸
がグラフトされたMBSまたはMABSまたはEP、E
BまたはEPDMまたはEBDMゴムタイプ(E−エチ
レン、B−7’チレン、P−プロピレン)のグラフトゴ
ムが特に好ましい。その他の例は、US 4 174
358、US 3 845 163、US3 668
274及びUS 4 174 358中に列挙され
ている。
アクリロニトリルコポリマー、ブタジェンースチレンフ
ボリマー、ブタジェン−イソプレンまたはブタジェン−
スチレンブロックコポリマーアルキルアクリレートゴム
、EP及びEPDMゴム系並びにシリコーンゴムである
。上で述べたゴム系の一つの上にビニル七ツマ−または
コポリマーがグラフトされているそしてグラフトベース
のガラス転移温度が一10℃以下であるべきであるグラ
フトゴムは、ゴム成分として好ましく用いられる。それ
らはまた、好ましくは、ポリアミドのための接着剤基、
例えばカルボキシル基または無水物基を含む。その上に
小量の無水マレイン酸またはスチレン−無水マレイン酸
がグラフトされたMBSまたはMABSまたはEP、E
BまたはEPDMまたはEBDMゴムタイプ(E−エチ
レン、B−7’チレン、P−プロピレン)のグラフトゴ
ムが特に好ましい。その他の例は、US 4 174
358、US 3 845 163、US3 668
274及びUS 4 174 358中に列挙され
ている。
熱可塑性ポリアミド、ポリフェノールのホスフィン酸エ
ステル、ポリフルオロエチレンポリマー及び/またはア
ラミド、無機補強剤、充填剤及び顔料、他の防炎剤及び
加工助剤の混合物の製造は、慣用の混合装置、例えばミ
ル、ニーダ−並びに単軸及び多軸スクリュー押出機中で
実施することができる。加工助剤は、これらの成分のコ
ンパウンディングの間に、粒の形の熱可塑性ポリアミド
中の濃厚物としてまたは粉末混合物として計り込むこと
ができる。混合物の製造及びそれらからの形のある物品
の製造の間の温度は、通常、260〜285°Cである
べきである。
ステル、ポリフルオロエチレンポリマー及び/またはア
ラミド、無機補強剤、充填剤及び顔料、他の防炎剤及び
加工助剤の混合物の製造は、慣用の混合装置、例えばミ
ル、ニーダ−並びに単軸及び多軸スクリュー押出機中で
実施することができる。加工助剤は、これらの成分のコ
ンパウンディングの間に、粒の形の熱可塑性ポリアミド
中の濃厚物としてまたは粉末混合物として計り込むこと
ができる。混合物の製造及びそれらからの形のある物品
の製造の間の温度は、通常、260〜285°Cである
べきである。
本製造方法は、酸化が大幅に排除される条件下で、即ち
好ましくは不活性ガス雰囲気下で非連続的にまたは連続
的に実施することができる。適当な不活性ガスは、例え
ば窒素、二酸化炭素及び/またはアルゴンである。
好ましくは不活性ガス雰囲気下で非連続的にまたは連続
的に実施することができる。適当な不活性ガスは、例え
ば窒素、二酸化炭素及び/またはアルゴンである。
防炎処理を与えられたポリアミドの形のある物品は、電
気及び自動車分野における使用に特に適していて、そし
て例えば、技術的な設備、例えば電気家庭用品のだめの
及び自動車部品のためのハウジング及びカバーの製造の
ために使用される。
気及び自動車分野における使用に特に適していて、そし
て例えば、技術的な設備、例えば電気家庭用品のだめの
及び自動車部品のためのハウジング及びカバーの製造の
ために使用される。
実施例
A、用いられる成分
1.25℃でm−クレゾール中の1パーセント溶液につ
いて測定して3.0の相対粘度を有する、粒としてのポ
リアミド66; n 、 4.4’−ジヒドロキシジフェニルメタン及び
lクロロ−1−オキソ−3−メチル−ホスホリン(モル
比 l:2)の反応生成物(エステル);■、p−クレ
ゾール及びホルムアルデヒドのノボラック(OH数46
8、フェノール核の数 約5)のメチルエチルホスフィ
ン酸エステル:IV、IIIによるノボラック及びl−
クロロ−1−オキソ−ホスホリンの反応生成物(エステ
ル);v5■によるノボラック及びl−クロロ−1−オ
キソ−3−メチルホスホリンの反応生成物(エステル)
; ■、■によるノボラック及びリン酸トリフェニルの反応
生成物(エステル)、溶融の開始 75°C(コフラー
(Kof 1er)ホットベンチ);■、ポリテトラフ
ルオロエチレン粉末、ヘキストAGからのホスタフロン
(Hostaflon)T F027 i ■、アラミド繊維、デュポン デ ネモアス、USAか
らのケプラー29; ■、ホウ酸亜鉛(水和物)、2ZnO*3BzOi*5
H20,U、S、ポラプラス(Borax)&ケミカル
(Chemical)社、USAからの7アイアブレー
ク(Firebrake)Z B ;X、短いガラス繊
維、バイエルAGからのタイプC57919; x+、 ヒス=(ヘキサクロロシクロペンタジェン)
−シクロオクタン、オキシデンタルケミカルLJSAか
らのデクロラン プラス(Dech IoranePl
us)2 5 ; Il.シアヌル酸メラミン。
いて測定して3.0の相対粘度を有する、粒としてのポ
リアミド66; n 、 4.4’−ジヒドロキシジフェニルメタン及び
lクロロ−1−オキソ−3−メチル−ホスホリン(モル
比 l:2)の反応生成物(エステル);■、p−クレ
ゾール及びホルムアルデヒドのノボラック(OH数46
8、フェノール核の数 約5)のメチルエチルホスフィ
ン酸エステル:IV、IIIによるノボラック及びl−
クロロ−1−オキソ−ホスホリンの反応生成物(エステ
ル);v5■によるノボラック及びl−クロロ−1−オ
キソ−3−メチルホスホリンの反応生成物(エステル)
; ■、■によるノボラック及びリン酸トリフェニルの反応
生成物(エステル)、溶融の開始 75°C(コフラー
(Kof 1er)ホットベンチ);■、ポリテトラフ
ルオロエチレン粉末、ヘキストAGからのホスタフロン
(Hostaflon)T F027 i ■、アラミド繊維、デュポン デ ネモアス、USAか
らのケプラー29; ■、ホウ酸亜鉛(水和物)、2ZnO*3BzOi*5
H20,U、S、ポラプラス(Borax)&ケミカル
(Chemical)社、USAからの7アイアブレー
ク(Firebrake)Z B ;X、短いガラス繊
維、バイエルAGからのタイプC57919; x+、 ヒス=(ヘキサクロロシクロペンタジェン)
−シクロオクタン、オキシデンタルケミカルLJSAか
らのデクロラン プラス(Dech IoranePl
us)2 5 ; Il.シアヌル酸メラミン。
B.使用されるホスフィン酸エステル添加物ノ製造
200、2g (1モル)のビスフェノールFを、加熱
バス、撹拌機、窒素のためのガス入口チューブ、滴下漏
斗及び還流コンデンサーを有するIQのフラスコ中で窒
素下で170−180℃に加熱する。次に、301.1
g(2モル)の1−クロロ−1−オキソ−3−メチルホ
スホリンを2時間にわたって滴加する。18時間後に、
塩化水素の発生が終わった。
バス、撹拌機、窒素のためのガス入口チューブ、滴下漏
斗及び還流コンデンサーを有するIQのフラスコ中で窒
素下で170−180℃に加熱する。次に、301.1
g(2モル)の1−クロロ−1−オキソ−3−メチルホ
スホリンを2時間にわたって滴加する。18時間後に、
塩化水素の発生が終わった。
冷却後、まだ暖かいエステルをlQの塩化メチレン中に
取り、そしてこの混合物を塩化物がなくなるまで水で洗
浄する。塩化メチレン溶液が乾燥した後で、硫酸ナトリ
ウムを濾別しそして溶液を濃縮する。収量は379.1
g=理論の88.5%である。この生成物は樹脂状であ
る。リン含量は13,8%(理論的には14,5%)で
ありそしてOH数はくlOである。
取り、そしてこの混合物を塩化物がなくなるまで水で洗
浄する。塩化メチレン溶液が乾燥した後で、硫酸ナトリ
ウムを濾別しそして溶液を濃縮する。収量は379.1
g=理論の88.5%である。この生成物は樹脂状であ
る。リン含量は13,8%(理論的には14,5%)で
ありそしてOH数はくlOである。
なるまで水で洗浄する。塩化メチレン溶液が乾燥した後
で、硫酸ナトリウムを濾別しそして溶液を濃縮する。収
量は402.4g−理論の95.8%である。軟化は、
コフラー ホットベンチで98℃で始まり、リン含量は
13.4%(理論的には14.7%)でありそしてOH
数はOである。
で、硫酸ナトリウムを濾別しそして溶液を濃縮する。収
量は402.4g−理論の95.8%である。軟化は、
コフラー ホットベンチで98℃で始まり、リン含量は
13.4%(理論的には14.7%)でありそしてOH
数はOである。
チル
239.7g (2グラム当量)の、p−クレゾール及
びホルムアルデヒドからのノボラック(OH数 468
、核の数 約5)及び5.7g (0゜06モル)の塩
化マグネシウムを、加熱バス、撹拌機、窒素のためのガ
ス入口チューブ、滴下漏斗及び還流コンデンサーを有す
る2aのフラスコ中で窒素下で190〜200 ’Oに
加熱する。次に、253.1g(2モル)のメチルエチ
ルホスフィニルクロリドを1時間にわたって滴加する。
びホルムアルデヒドからのノボラック(OH数 468
、核の数 約5)及び5.7g (0゜06モル)の塩
化マグネシウムを、加熱バス、撹拌機、窒素のためのガ
ス入口チューブ、滴下漏斗及び還流コンデンサーを有す
る2aのフラスコ中で窒素下で190〜200 ’Oに
加熱する。次に、253.1g(2モル)のメチルエチ
ルホスフィニルクロリドを1時間にわたって滴加する。
72時間後に、塩化水素の発生が終わった。
冷却後、まだ暖かいエステルを2Qの塩化メチレン中に
取り、そしてこの混合物を、塩化物がなく240.3g
(2グラム当量)の、p−クレゾール及びホルムアル
デヒドのノボラック(OH数469、核の数 約5)及
び273.1g(2モル)の1−クロロ−1−オキソ−
ホスホリンを2におけるようにして反応させる。同様に
後処理も2におけるようにして実施する。収量は423
.2g=理論の96.1%である。軟化は134℃で始
まり、リン含量は13.1%(理論的には14.1%)
でありそしてOH数はOである。
取り、そしてこの混合物を、塩化物がなく240.3g
(2グラム当量)の、p−クレゾール及びホルムアル
デヒドのノボラック(OH数469、核の数 約5)及
び273.1g(2モル)の1−クロロ−1−オキソ−
ホスホリンを2におけるようにして反応させる。同様に
後処理も2におけるようにして実施する。収量は423
.2g=理論の96.1%である。軟化は134℃で始
まり、リン含量は13.1%(理論的には14.1%)
でありそしてOH数はOである。
エステル
240.3g (2グラム当量)の、p−クレゾール及
びホルムアルデヒドのノボラック(OH数468、核の
数 約5)及び301.1g(2モル)の1−クロロ−
1−オキソ−3−メチル−ホスホリンを2におけるよう
にして反応させる。同様に後処理も2におけるようにし
て実施する。収量は437.1g=理論の93.3%で
ある。軟化は136°Cで始まり、リン含量は12.6
%(理論的には13.2)でありそしてOH数は0であ
る。
びホルムアルデヒドのノボラック(OH数468、核の
数 約5)及び301.1g(2モル)の1−クロロ−
1−オキソ−3−メチル−ホスホリンを2におけるよう
にして反応させる。同様に後処理も2におけるようにし
て実施する。収量は437.1g=理論の93.3%で
ある。軟化は136°Cで始まり、リン含量は12.6
%(理論的には13.2)でありそしてOH数は0であ
る。
359.6g (3グラム当量)の、p−クレゾール及
びホルムアルデヒドのノボラック(OH数468、核の
数 約5)、652.6g (2モル)のリン酸トリフ
ェニル及び8.6g (0,09モル)の塩化マグネシ
ウムを、溶融の後で、調節可能なキノコ状加熱フード、
キャピラリーチューブ及び下降するコンデンサーを有す
る短いビグリューカラムを備えた2Qのフラスコ中で3
00mbarの真空下で0.5時間200℃で加熱する
。
びホルムアルデヒドのノボラック(OH数468、核の
数 約5)、652.6g (2モル)のリン酸トリフ
ェニル及び8.6g (0,09モル)の塩化マグネシ
ウムを、溶融の後で、調節可能なキノコ状加熱フード、
キャピラリーチューブ及び下降するコンデンサーを有す
る短いビグリューカラムを備えた2Qのフラスコ中で3
00mbarの真空下で0.5時間200℃で加熱する
。
キャピラリーチューブを経て通過する窒素の流れが良好
な完全な混合を保証する。次に、282゜3g (3モ
/L−)(’)7z/−ルを、200−210℃の温度
で20から3mbarへの低下する真空下で1.5時間
にわたってカラム及びコンデンサーから留去する。引き
続いて250℃で3 m b、 atの真空下で1時間
で加熱を完了する。
な完全な混合を保証する。次に、282゜3g (3モ
/L−)(’)7z/−ルを、200−210℃の温度
で20から3mbarへの低下する真空下で1.5時間
にわたってカラム及びコンデンサーから留去する。引き
続いて250℃で3 m b、 atの真空下で1時間
で加熱を完了する。
冷却後、反応生成物を2aの塩化メチレン中に取り、そ
してこの混合物を塩化物がなくなるまで水で洗浄する。
してこの混合物を塩化物がなくなるまで水で洗浄する。
塩化メチレン溶液が乾燥した後で、硫酸ナトリウムを濾
別しそして溶液を濃縮する。
別しそして溶液を濃縮する。
収量は694.9g−理論の95.2%である。
軟化は、コアラ−ホットベンチで75℃で始まり、リン
含量は8.4%(理論的には8.5%)でありそしてO
H数はOである。
含量は8.4%(理論的には8.5%)でありそしてO
H数はOである。
C,I′R形組形紙載物造、加工及び試験表1中に述べ
た量で(重量%でのデータ)、用いられる成分を、二軸
スクリュー押出機中で溶融し、混合し、押出物に押出し
そして粒状化する。
た量で(重量%でのデータ)、用いられる成分を、二軸
スクリュー押出機中で溶融し、混合し、押出物に押出し
そして粒状化する。
戊形紙載物は、例えば、ベルネル(Werner)&プ
ライデレル(Pfleidarer)からのZSK32
押出機を用いて275〜285°Cの材料温度、130
rpmのスクリュー速度及び8 k g / hのスル
ーブツトで製造することができる。
ライデレル(Pfleidarer)からのZSK32
押出機を用いて275〜285°Cの材料温度、130
rpmのスクリュー速度及び8 k g / hのスル
ーブツトで製造することができる。
適切な乾燥(例えば120℃で4時間まで)の後で、こ
れらの成形組成物を、慣用の射出成形機で260℃の材
料温度、80℃の金型温度及び9分より長くない溶融保
持時間で、形のある物品または標準のテストバーに射出
成形し、そして以下のテストにかけるニ ーリン含量の測定(元素分析、%P) −保険業者試験室(Underwriter Labo
ratories)明細に従う燃焼試験(UL94) 表2は得られたデータを示す。
れらの成形組成物を、慣用の射出成形機で260℃の材
料温度、80℃の金型温度及び9分より長くない溶融保
持時間で、形のある物品または標準のテストバーに射出
成形し、そして以下のテストにかけるニ ーリン含量の測定(元素分析、%P) −保険業者試験室(Underwriter Labo
ratories)明細に従う燃焼試験(UL94) 表2は得られたデータを示す。
考lニテストデータ
滴下する
2.0
燃焼によって
滴下する
n−p・
4 2.0 燃焼によって n、p。
滴下する
実施例 1 2.1 滴下しない v
−i4 2.0 滴下しない v−052,
3滴下しない V−O 61,9滴下しない V−O 71,3滴下しない v−0 81,4滴下しない V−O (n、p、−不合格) 表1及び2の実施例1〜8は、ポリフェノールのホスフ
ィン酸エステル、滴下防止剤及びホウ酸亜鉛の本発明に
よる混合物が、UL94による評価VO11,6mm厚
さの試験標本での無滴下によって証明される防炎性を有
する、それのポリアミド混合物を与えることを示す。他
のリン化合物のそしてハロゲン及び/または窒素化合物
の同時の使用は、V−0/1.6mmのために必要とさ
れる本発明によるホスフィン酸エステルの量を減らすこ
とを可能にする。
−i4 2.0 滴下しない v−052,
3滴下しない V−O 61,9滴下しない V−O 71,3滴下しない v−0 81,4滴下しない V−O (n、p、−不合格) 表1及び2の実施例1〜8は、ポリフェノールのホスフ
ィン酸エステル、滴下防止剤及びホウ酸亜鉛の本発明に
よる混合物が、UL94による評価VO11,6mm厚
さの試験標本での無滴下によって証明される防炎性を有
する、それのポリアミド混合物を与えることを示す。他
のリン化合物のそしてハロゲン及び/または窒素化合物
の同時の使用は、V−0/1.6mmのために必要とさ
れる本発明によるホスフィン酸エステルの量を減らすこ
とを可能にする。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1)100重量部のポリアミド成形組成物あだり、
A)3〜20重量%の、式(1)
[式中、
nは、1と20の間の、好ましくはlとlOの間の整数
であり、 Rは、1〜4の炭素原子を有するアルキレン基、5〜9
の炭素原子を有するシクロアルキレン基でありまたは、
もしn=1ならば、また直接結合、スルホニル若しくは
カルボニル基若しくは酸素若しくは硫黄であり、 R1及びR2は、水素、ハロゲン、1−12の炭素原子
を有するアルキル基、5〜9の炭素原子を有するシクロ
アルキルまたは6〜10の炭素原子を有するアリール基
であり、そして R1及びR1は、1〜4の炭素原子を有するアルキル基
及び/または6〜10の炭素原子を有するアリール基で
あり、そしてまたR1及びR1が、アルキル基の場合に
は、単結合または二重結合によって結合され、そしてリ
ン原子を経由して形成される環が、1〜4の炭素原子を
有するアルキル基R1を保持することも可能である] のポリフェノールのホスフィン酸エステル、B)Bl)
0.1〜3重量%、好ましくはO13〜1.0重量%の
ポリフルオロエチレン及び/または B2)0.1〜5重量%、好ましくは1〜2.5重量%
のアラミド を含有して成るシリーズからの、6重量%より多くない
総量の滴下防止剤、 C)0.5〜15重量%、好ましくは3〜12重量%の
、防炎補強剤としてのホウ酸亜鉛(水和物)、 そしてもし適切ならば、 D)0〜40重量%、好ましくは15〜30重量%の無
機充填剤及び/または補強剤及び/または顔料、 E)0〜30重量%、好ましくは5〜20重量%のその
他の防炎剤、例えば窒素化合物、/)ロゲン化合物及び
/またはその他のリン化合物、F)0〜10重量%、好
ましくは1〜5重量%の加工助剤、及び G)0〜20重量%の、ポリアミドのための慣用の添加
物、例えばUv、光及び熱安定剤、衝撃強さを改良する
ための公知の薬剤/適合性を改良するための薬剤及び/
またはブレンドポリマーを含有して成る群からのその他
の添加物を含む、ホスフィン酸エステルを基にした熱可
塑性の防炎の滴下しないポリアミド成形11或物。
であり、 Rは、1〜4の炭素原子を有するアルキレン基、5〜9
の炭素原子を有するシクロアルキレン基でありまたは、
もしn=1ならば、また直接結合、スルホニル若しくは
カルボニル基若しくは酸素若しくは硫黄であり、 R1及びR2は、水素、ハロゲン、1−12の炭素原子
を有するアルキル基、5〜9の炭素原子を有するシクロ
アルキルまたは6〜10の炭素原子を有するアリール基
であり、そして R1及びR1は、1〜4の炭素原子を有するアルキル基
及び/または6〜10の炭素原子を有するアリール基で
あり、そしてまたR1及びR1が、アルキル基の場合に
は、単結合または二重結合によって結合され、そしてリ
ン原子を経由して形成される環が、1〜4の炭素原子を
有するアルキル基R1を保持することも可能である] のポリフェノールのホスフィン酸エステル、B)Bl)
0.1〜3重量%、好ましくはO13〜1.0重量%の
ポリフルオロエチレン及び/または B2)0.1〜5重量%、好ましくは1〜2.5重量%
のアラミド を含有して成るシリーズからの、6重量%より多くない
総量の滴下防止剤、 C)0.5〜15重量%、好ましくは3〜12重量%の
、防炎補強剤としてのホウ酸亜鉛(水和物)、 そしてもし適切ならば、 D)0〜40重量%、好ましくは15〜30重量%の無
機充填剤及び/または補強剤及び/または顔料、 E)0〜30重量%、好ましくは5〜20重量%のその
他の防炎剤、例えば窒素化合物、/)ロゲン化合物及び
/またはその他のリン化合物、F)0〜10重量%、好
ましくは1〜5重量%の加工助剤、及び G)0〜20重量%の、ポリアミドのための慣用の添加
物、例えばUv、光及び熱安定剤、衝撃強さを改良する
ための公知の薬剤/適合性を改良するための薬剤及び/
またはブレンドポリマーを含有して成る群からのその他
の添加物を含む、ホスフィン酸エステルを基にした熱可
塑性の防炎の滴下しないポリアミド成形11或物。
2)弐■及び■
酸素、硫黄またはスルホニル若しくはカルボニル基を表
し、 R1は、水素、ハロゲンまたは1〜12の炭素原子を有
するアルキル基を表し、 R1は、水素、ハロゲンまたは1〜4の炭素原子を有す
るアルキル基を表し、そして R3及びR4は、メチル、エチル若しくはフェニル基を
表すか、または−緒にブチリデン若しくはアルキルブチ
リデン基を表すコ のものをホスフィン酸エステルとして含むことを特徴と
する、上記lに記載の成形組成物。
し、 R1は、水素、ハロゲンまたは1〜12の炭素原子を有
するアルキル基を表し、 R1は、水素、ハロゲンまたは1〜4の炭素原子を有す
るアルキル基を表し、そして R3及びR4は、メチル、エチル若しくはフェニル基を
表すか、または−緒にブチリデン若しくはアルキルブチ
リデン基を表すコ のものをホスフィン酸エステルとして含むことを特徴と
する、上記lに記載の成形組成物。
3)式(IV)及び(V)
[式中、
nは、2と15の間の、好ましくは2と10の間の整数
を表し、 Rは、単結合、メチレン、イングロビリデン、1式中、 nは、2と8の間の整数であり、 Rは、上で述べた意味を有し、 R1は、水素またはメチル基を表し、モしてR,は、同
様に水素またはメチル基を表す]のものをホスフィン酸
エステルとして含むことを特徴とする、上記l及び2に
記載の成形組成物。
を表し、 Rは、単結合、メチレン、イングロビリデン、1式中、 nは、2と8の間の整数であり、 Rは、上で述べた意味を有し、 R1は、水素またはメチル基を表し、モしてR,は、同
様に水素またはメチル基を表す]のものをホスフィン酸
エステルとして含むことを特徴とする、上記l及び2に
記載の成形組成物。
4)ポリアミド6またはポリアミド66をポリアミドと
して用いることを特徴とする、上記lないし3に記載の
成形組成物。
して用いることを特徴とする、上記lないし3に記載の
成形組成物。
5)成分A)が5〜15重量%の量で存在することを特
徴とする、上記lないし4に記載の成形組成物。
徴とする、上記lないし4に記載の成形組成物。
6)a分B)が0.3〜2.5重量%の量で存在するこ
とを特徴とする、上記上ないし5に記載の成形組成物。
とを特徴とする、上記上ないし5に記載の成形組成物。
7)FR分C)が3〜12重量%の量で存在することを
特徴とする、上記lないし6に記載の成形組成物。
特徴とする、上記lないし6に記載の成形組成物。
8)顔料、無機充填剤、補強剤例えばガラス繊維、安定
剤、流動剤、離型剤、帯電防止剤及び/または他の防炎
剤並びに衝撃改質剤を付加的に含むことを特徴とする、
上記lないし7に記載の成形組成物。
剤、流動剤、離型剤、帯電防止剤及び/または他の防炎
剤並びに衝撃改質剤を付加的に含むことを特徴とする、
上記lないし7に記載の成形組成物。
9)ノボラックのリン酸エステル、メラミン化合物及び
適当な塩素含有脂肪族化合物を他の防炎剤として用いる
ことを特徴とする、上記lないし8に記載の成形組成物
。
適当な塩素含有脂肪族化合物を他の防炎剤として用いる
ことを特徴とする、上記lないし8に記載の成形組成物
。
10)成分A)、B)及びC)そしてもし適切ならばD
)、E)、F)及びG)を公知の方法で混合し、そして
この混合物を、200℃〜330℃の温度で慣用の装置
中で溶融コンパウンディングまたは溶融押出にかけるこ
とを特徴とする、上記1ないし9に記載の組成のポリア
ミド成形組戊物の製造方法。
)、E)、F)及びG)を公知の方法で混合し、そして
この混合物を、200℃〜330℃の温度で慣用の装置
中で溶融コンパウンディングまたは溶融押出にかけるこ
とを特徴とする、上記1ないし9に記載の組成のポリア
ミド成形組戊物の製造方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)100重量部のポリアミド成形組成物あたり、 A)3〜20重量%の、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 nは、1と20の間の、好ましくは1と10の間の整数
であり、 Rは、1〜4の炭素原子を有するアルキレン基、5〜9
の炭素原子を有するシクロアルキレン基でありまたは、
もしn=1ならば、また直接結合、スルホニル若しくは
カルボニル基若しくは酸素若しくは硫黄であり、 R_1及びR_2は、水素、ハロゲン、1〜12の炭素
原子を有するアルキル基、5〜9の炭素原子を有するシ
クロアルキルまたは6〜10の炭素原子を有するアリー
ル基であり、そして R_3及びR_4は、1〜4の炭素原子を有するアルキ
ル基及び/または6〜10の炭素原子を有するアリール
基であり、そしてまたR_3及びR_4が、アルキル基
の場合には、単結合または二重結合によって結合され、
そしてリン原子を経由して形成される環が、1〜4の炭
素原子を有するアルキル基R_5を保持することも可能
である] のポリフェノールのホスフィン酸エステル、B)B1)
0.1〜3重量%、好ましくは0.3〜1.0重量%の
ポリフルオロエチレン及び/または B2)0.1〜5重量%、好ましくは1〜 2.5重量%のアラミド を含有して成るシリーズからの、6重量%より多くない
総量の滴下防止剤、 C)0.5〜15重量%、好ましくは3〜12重量%の
、防炎補強剤としてのホウ酸亜鉛(水和物)、 そしてもし適切ならば、 D)0〜40重量%、好ましくは15〜30重量%の無
機充填剤及び/または補強剤及び/または顔料、 E)0〜30重量%、好ましくは5〜20重量%のその
他の防炎剤、例えば窒素化合物、ハロゲン化合物及び/
またはその他のリン化合物、F)0〜10重量%、好ま
しくは1〜5重量%の加工助剤、及び G)0〜20重量%の、ポリアミドのための慣用の添加
物、例えばUV、光及び熱安定剤、衝撃強さを改良する
ための公知の薬剤/適合性を改良するための薬剤及び/
またはブレンドポリマーを含有して成る群からのその他
の添加物 を含む、ホスフィン酸エステルを基にした熱可塑性の防
炎の滴下しないポリアミド成形組成物。 2)式II及びIII ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、 nは、2と15の間の、好ましくは2と10の間の整数
を表し、 Rは、単結合、メチレン、イソプロピリデン、酸素、硫
黄またはスルホニル若しくはカルボニル基を表し、 R_1は、水素、ハロゲンまたは1〜12の炭素原子を
有するアルキル基を表し、 R_2は、水素、ハロゲンまたは1〜4の炭素原子を有
するアルキル基を表し、そして R_3及びR_4は、メチル、エチル若しくはフェニル
基を表すか、または一緒にブチリデン若しくはアルキル
ブチリデン基を表す] のものをホスフィン酸エステルとして含むことを特徴と
する、請求項1記載の成形組成物。 3)式(IV)及び(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) [式中、 nは、2と8の間の整数であり、 Rは、上で述べた意味を有し、 R_2は、水素またはメチル基を表し、そしてR_6は
、同様に水素またはメチル基を表す]のものをホスフィ
ン酸エステルとして含むことを特徴とする、請求項1及
び2記載の成形組成物。 4)ポリアミド6またはポリアミド66をポリアミドと
して用いることを特徴とする、請求項1ないし3に記載
の成形組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3925792A DE3925792A1 (de) | 1989-08-04 | 1989-08-04 | Flammgeschuetzte, nicht tropfende polyamidformmassen |
DE3925792.4 | 1989-08-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0376757A true JPH0376757A (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=6386493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2201564A Pending JPH0376757A (ja) | 1989-08-04 | 1990-07-31 | 防炎の滴下しないポリアミド成形組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5021488A (ja) |
EP (1) | EP0416259B1 (ja) |
JP (1) | JPH0376757A (ja) |
DE (2) | DE3925792A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007211368A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Anzai Keitoku | クリキュラサポーター |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4102104A1 (de) * | 1991-01-25 | 1992-07-30 | Bayer Ag | Flammgeschuetzte, nicht tropfende polyamidformmassen |
DE4123041A1 (de) * | 1991-07-12 | 1993-01-14 | Bayer Ag | Thermoplastische polycarbonatformmassen mit flammwidrigen eigenschaften |
JPH06279673A (ja) * | 1993-01-07 | 1994-10-04 | Bayer Ag | 無ハロゲン、耐炎性ポリアミド成形材料 |
JP3665383B2 (ja) * | 1995-05-12 | 2005-06-29 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 樹脂組成物 |
US20020086927A1 (en) * | 1999-07-23 | 2002-07-04 | De Schryver Daniel A. | Flame retardant compositions |
DE10241376A1 (de) * | 2002-09-06 | 2004-03-18 | Clariant Gmbh | Kompaktierte Flammschutzmittelzusammensetzung |
DE10241375A1 (de) * | 2002-09-06 | 2004-03-18 | Clariant Gmbh | Granulare Flammschutzmittelzusammensetzung |
DE102005004892B4 (de) * | 2005-02-03 | 2008-11-13 | Lanxess Deutschland Gmbh | Mit kugelförmigem Glas gefüllte thermoplastische Polyamide |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1276007A (en) * | 1969-04-15 | 1972-06-01 | Ici Ltd | Polyamides |
ZA738245B (en) * | 1972-10-25 | 1974-09-25 | Hoechst Ag | Flame resistant thermoplastic polyesters |
DE2447727A1 (de) * | 1974-10-07 | 1976-04-08 | Hoechst Ag | Schwerentflammbare polyamidformmassen |
DE2542009A1 (de) * | 1975-09-20 | 1977-03-24 | Hoechst Ag | Bromhaltige phosphinsaeureester |
US4208221A (en) * | 1978-12-04 | 1980-06-17 | Copeland Corporation | Stator core stripping |
DE3219047A1 (de) * | 1982-05-21 | 1983-11-24 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Selbstverloeschende thermoplastische formmassen |
GB8307407D0 (en) * | 1983-03-17 | 1983-04-27 | Ici Plc | Flame retardant polyamide compositions |
CA1232391A (en) * | 1983-08-01 | 1988-02-02 | Charles S. Ilardo | Flame retardant polyamide compositions |
DE3443154A1 (de) * | 1984-11-27 | 1986-05-28 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Selbstverloeschende thermoplastische polyamid-formmassen |
DE3808493A1 (de) * | 1988-03-15 | 1989-09-28 | Bayer Ag | Aromatische polyamide als flammschutzmittel-synergisten mit antidripping-wirkung fuer aliphatische polyamidformmassen und ihre verwendung |
-
1989
- 1989-08-04 DE DE3925792A patent/DE3925792A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-07-21 DE DE90114017T patent/DE59005078D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-07-21 EP EP90114017A patent/EP0416259B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-23 US US07/556,345 patent/US5021488A/en not_active Expired - Fee Related
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007211368A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Anzai Keitoku | クリキュラサポーター |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3925792A1 (de) | 1991-02-07 |
US5021488A (en) | 1991-06-04 |
EP0416259B1 (de) | 1994-03-23 |
EP0416259A1 (de) | 1991-03-13 |
DE59005078D1 (de) | 1994-04-28 |
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