JPH0372439A - アルケニルエーテル類の製造法 - Google Patents

アルケニルエーテル類の製造法

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JPH0372439A
JPH0372439A JP1338934A JP33893489A JPH0372439A JP H0372439 A JPH0372439 A JP H0372439A JP 1338934 A JP1338934 A JP 1338934A JP 33893489 A JP33893489 A JP 33893489A JP H0372439 A JPH0372439 A JP H0372439A
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alkyl group
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formula
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JP1338934A
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Tokuyuki Onishi
徳幸 大西
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アルケニルエーテル類の製造法に関する。更
に詳しくはα、β−不飽和エーテル、共役二重結合を有
する不飽和エーテル、ヒドロキシアルケニルエーテル、
共役二重結合を有するヒドロキシアルケニルエーテルの
製造法に関する。
〔従来技術と問題点〕
従来のα、β不飽和エーテルの製造法については、たと
えば、ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー
(J、 Org、 Ohem、、 23.670(19
58))につぎのような合成法が記載されている。
(3)         (4) (5) 0< (7) すなわち、(3)式の2−エチルヘキシルアルデヒドと
(4)式の2−エチルブチルアルコールとかう(5)式
の1−クロル−2−エチルへキシル−2′−エチルブチ
ルエーテルを経由して、(6)式の1−アセトキシ−2
−エチルへキシル−2′−エチルブチルエーテルを合成
し、腋アセトキシエーテルを230℃の気相反応で脱酢
酸を行い、(7)式の2−エチルへキセニルー2−エチ
ルブチルエーテルを合成スる。また、一般にα、β不飽
和エーテルの合成法は、特開昭57−185232号な
どに示されるごとく、アセタールを300〜800℃の
高温下気相で接触熱分解させる方法が多い。
しかしながら、これらの従来のα、β不飽和エーテルの
製造法は、アルデヒドから2段階ないし3段階の工程が
必要であシ、また、気相反応で高温を必要とする欠点が
ある。
従来の共役二重結合を有した不飽和エーテルの製造法に
ついては、たとえばジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス(J、 Polym、 8ci、、 Part人
−1,Mol、 9.164 (1971) )につぎ
のような合成法が記載されている。
0H OH,−0H=OH−OHO+EtOH−110H,−
0H(OBt)OH,−0H(OEt)。
すなわち、不飽和アルデヒドとアルコールとからアルカ
リ触媒存在下、3−アルコキシアセタールを経由して酸
性触媒下、液相にて脱アルコールを行い、共役二重結合
を有した不飽和エーテルを合成する。しかしながら、こ
れらの従来の共役二重結合を有した不飽和エーテルの製
造法は、アルデヒドから2段階の工程が必要であり1工
業的にはアルデヒドからの工程数が少なく反応条件が温
和な製造法が望筐れる。
従来のヒドロキシアルケニルエーテルの合成を、ビニル
エーテルを例としてあげてみるとアセチレンにアルカン
ジオールを付加せしめる方法〔米国峙許第342984
5号、あるいはAnn、 Ohem、 601゜s 1
 (1956) )が知られている。しかしながら、か
かる方法による場合には、反応に高温高圧を要し、ジビ
ニル化合物(OH=OHOAOOH=OH) Toるい
は環状アセタールのごとき副生物の生成量が多く、工業
的碌手段としては不適当である。
一方、酢酸第二水銀の存在下にエタンジオールとアルキ
ルビニルエーテルとを反応せしめる方法が(J、 Am
、 Ohem、 Soc、、 79.2828 (19
57) )に記載されている。この方法の主生成物は、
ジオキソランレよびジビニルエーテルで、l、2−ヒド
ロキシエチルビニルエーテルは副生成物として生成し、
この方法をヒドロキシアルケニルエーテルの製造法とす
ることができない。
共役二重結合を有するヒドロキシアルケニルエーテルは
、共役二重結合を有しているため機能性七ノマーとして
期待することができる。しかし、その合成法に関しては
いまだ確立された技術としての囁示は見当たらない。本
発明者は上記の共役二重結合を有するヒドロキシアルケ
ニルエーテルの合成法を鋭意研究を重ねた結果、α位に
アルキル置換基を有する不飽和アルデヒドを原料として
、アルカンジオール、グリコール、ヒドロキノンとを酸
性触媒下、直接部分的アセタール化を行うと、温和な反
応条件下で非常に高選択的に共役二重結合を有するヒド
ロキシアルケニルエーテルを得ることを見出した。
すなわち、本発明の目的は上記記載で明らかなごとく、
アルデヒドから一工程で温和な反応条件でアルケニルエ
ーテルの製造法を提供することにある。更に詳しくは、
α、β不飽和エーテル、共役二重結合を有する不飽和エ
ーテル、ヒドロキシアルケニルエーテル、共役二重結合
を有するヒドロキシアルケニルエーテルの製造法を提供
することにちる。
〔課題を解決するための手段〕
■ 本発明のアルケニルエーテル類の製造法は、一般式 %式%(1) で表わされるアルデヒドと、一般式 R” −OH ・・・・・・・・(2) で表わされるアルコールを酸性触媒下、液相で反応させ
、一般式 %式% (3) で表わされるアルケニルエーテル類を得ることを特徴と
する。
〔式(1)、(2)釦よび(3)において、R1は炭素
数2〜8のアルキル基、R4は水素、またはR1とR4
はR−OH,−OH=基を示し、R1は炭素数1〜6の
アルキル基、Rsは炭素数4〜24の鎖状もしくは分岐
状のアルキル基もしくは炭素数4〜15のシクロアルキ
ル基(好筐しくは炭素数4〜6のアルキル基、よう好ま
しくはシクロヘキシル基)または炭素数5〜10の直鎖
状、分岐状のオキシアルキル基もしくは炭素数4〜15
(好ましくは4〜6)のオキシシクロアルキル基あるい
は−(C!H,−0H−0)。HR′ 基(rc/は水素もしくはメチル基、nは2〜20の整
数値を示し、Vは炭素数2〜8のアルキル基もしくはR
−OH=OH−基(Rば1〜8のアルキル基を表す)を
示す。〕 更に詳しくのべると、りぎの態様を示すことができる。
■ 一般式 %式% (11) で表わされるアルデヒドと一般式 R”−OH ・・・・・・・・(2−1) で表わされるアルコールとをモル比0.1:1〜10:
1で、酸性触媒の存在下、液相で反応させ一般式 で表わされるα、β−不飽和エーテルを得る製造法。
〔ここで Blは炭素数2〜8のアルキル基、BRは炭
素数1〜6のアルキル基、R8は炭素数4〜24の鎖状
もしくは分岐状アルキル基または炭素数4〜15のシク
ロアルキル基(好ましくは炭素数4〜6、よう好ましく
はシクロヘキシル基)を示丸〕■ −数式 ■ −数式 R−OH,−0H=O−OHO 8 ・・・・・・・・(1−2) で表わされるアルデヒドと、−数式 %式%) で表わされるアルコールとを酸性触媒下、液相で反応さ
せ、−数式 %式%(32) で表わされる共役二重結合を有する不飽和エーテルを得
る製造法。
〔ここで、Bは炭素数1〜6のアルキル基、R3は炭素
数1〜6のアルキル基、R3は炭素数4〜24のアルキ
ル基または炭素数4〜15のシクロアルキル基(好まし
くは炭素数4〜6、よシ好ましくはシクロヘキシル基で
ある)を示す。〕R10H−OHO 恥 ・・・・・・・・(1−1) で表わされるアルデヒドと一般式 %式%(22) ) (23) で表わされるジオールとを、モル比0.05:1〜10
:1で酸性触媒下、液相で反応させ一般式%式%( (33) で表わされるヒドロキシアルケニルエーテルを得る製造
法。
〔ここで、R1は炭素数2〜8のアルキル基、R8は炭
素数2〜6のアルキル基、B′は水素原子もしくはメチ
ル基、nは2〜20の整数値、人は炭素数5〜10の直
鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基を示す。〕 ■ −数式 で表わされるアルデヒドと一般式 80人OH ・・・・・・・・(2−2) もしくは HO(OH,0HO)nH B′ ・・・・・・・・(2−3) で表すされるジオールとを、モル比0.05:1〜10
:1で酸性触媒下、液相で反応させ一般式%式%(34
) で表わされる共役二重結合を有するヒドロキシアルケニ
ルエーテルを得る製造法。
〔ここで、Rは炭素数1〜8のアルキル基s ”1は炭
素数1〜6のアルキル基、Wは水素原子もしくはメチル
基、nは2〜20の整数値、人は炭素数5〜10の直鎖
状、分岐状もしくは環状のアルキレン基を示す。〕 本発明の製造法に使用するアルデヒドは、前記■、■に
おいては、たとえば2−メチルバレルアルデヒド、2−
メチルペンチルアルデヒド、2−メチルブチルアルデヒ
ド、2−メチルヘキシルアルデヒド、2−エチルブチル
アルデヒド、2−エチルヘキシルアルデヒドなど、また
、前記■、■に訃いては、2−エチルヘキセナール、2
−メチルペンテナール、2−メチルヘキセナールなどの
α位に置換基をもつ高級アルデヒドをあげることができ
る。
本発明に使用するアルコールの具体例としてつぎのもの
をあげることができる。
前記■、■に釦ける一般式 %式%) で示されるアルコールとしては、炭素数4〜24の高級
アルコール、たとえばヘキサノール、2−エチルブチル
アルコール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノー
ル、ペンタノール、シクロヘキサノールなどがあげられ
る。
また、前記■、■に訃けるアルコール、すなわち、一般
式 %式%(22) もしくは、一般式 HO(OH,0I(O)nH−・・・・・・・(2−3
)R′ で表わされるジオールとしては、ヘキサメチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール
、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール
、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
等のジオール、あるいはフェノール類としてヒドロキノ
ン、レゾルシンおよびそれらのアルキル置換体をあげる
ことができる。
(2−2)式の人は炭素数5〜10の直鎖状、分岐状も
しくは環状のアルキレン基である。Aの炭素数が4以下
のもの(たとえばエタンジオール、1.4ブタンジオー
ルなど)シよびカテコールを使用すると、環状アセター
ルが主成分として生成して好ましくない。
本発明に使用する触媒は、酸性触媒であシ、たとえば、
塩化第二鉄、塩化第一錫、塩化第二錫、塩化アルミニウ
ム、塩化亜鉛、塩化ニッケル、塩化コバルト、塩化カル
シウム、陽イオン交換樹脂、活性白土、モレキュラーシ
ーブス、パラトルエンスルフォン酸、硫酸、塩酸、N−
ヒドロキシベンゼンスルフォンアミドなどをあげること
ができる。
本発明の製造法にかけるアルデヒドとアルコールとのモ
ル比は、前記■、■にかける0、5:1〜10:1.好
ましくは1:1〜3:1である。
また、前記■、■にかけるアルデヒドとジオールとのモ
ル比は0.05:1〜10:1、好1しくは0.1:1
〜2:1である。
触媒の使用量はアルデヒドに対して、0.01〜10%
、好ましくは0.05〜2係である。N−ヒドロキシベ
ンゼンスルホンアミドは1〜2%、塩化第二鉄は0.0
5〜0.1%、好ましくは0.05〜065%が適当で
ある。鉱油に可溶な触媒は鉱油に対して、0.01〜5
重量俤、好ましくは0.05〜2重量係の量で添加され
、この添加量よシも少ないと触媒活性がなく、多すぎる
とアルデヒドの縮合がかこb1アルデヒドのロスになっ
てしまう。
さらに好ましくは、反応途中で再度触媒を添加するのが
望ましい。
本発明の反応温度は、使用するアルデヒド、アルコール
によシ異なるが、いずれもアルデヒドとアルコールの反
応液の還流状態で、連続的に生成水を抜き出すことによ
シ反応は進行し、使用するアルデヒドとアルコールは水
にはほとんど溶解しないために生成水の分離のための共
沸溶媒を特に使用する必要はないが、その使用を妨げる
ものではない。また、反応圧力は反応系が液相であれば
常圧、減圧または加圧のいずれで行ってもいいが、通常
操作の容易な常圧反応で充分である。
〔実施例〕
以下実施例にて本発明を説明する。
実施例1 2−エチルヘキシルアルデヒド64重量部、ヘキサノー
ル50重量部、N−ヒドロキシベンゼンスルフォンアミ
ド1.1重量部を4つロフラスコに仕込み、かくはんし
ながらリフラックス状態で加熱をおこない連続的に生成
水を抜き出しながら、4時間保持し反応を行せしめたと
ころ、ヘキサノ−ルの反応率は93.1%、2−エチル
へキセニルヘキシルエーテルの選択率は97.4%、残
シ2.6俤がアセタールと与った。
実施例2 2−エチルブチルアルデヒド50重量部、2−エチルブ
チルアルコール50重量部、塩化第二鉄0.1重量部を
実施例1と同様の操作を行ったところ、2−エチルブチ
ルアルコールの反応率93.6係、2−エチルブテニル
−2−エチルブチルエーテルの選択率67.2qb、残
1732.8%がアセタールとなった。
実施例3 2−エチルヘキシルアルデヒド186重量部、ラウリル
アルコール185重量部、パラトルエンスルフォン酸0
.4重量部を実施例1と同様の操作を行ったところ、ラ
ウリルアルコールの反応率97.8%、2−エチルへキ
セニルラウリルエーテルの選択率は100%、アセター
ルの生成は認められなかった。
実施例4 2−エチルヘキシルアルデヒド154重量部、オクタノ
ール128重量部、塩化アルミニウム(13重量部を実
施例1と同様の操作を行ったところ、オクタノールの反
応率88.3%、2−エチルへキセニルオクチルエーテ
ルの選択率92.6%、WAD7.4係がアセタールと
なった。
実施例5 2−エチルヘキシルアルデヒド154重量部、シクロヘ
キサノール100重量部、パラトルエンスルフォン酸0
.3重量部を実施例1と同様の操作を行ったところ、シ
クロヘキサノールの反応率86.8%、2−エチルへキ
セニルシクロヘキシルエーテルの選択4100%で、ア
セタールの生成は認められなかった。
比較例1 実施例2の2−エチルブチルアルデヒドの代わシにn−
ヘキサナールを使用した場合100%アセタールが生成
し、アルケニルエーテルの生成は認められなかった。
比較例2 実施例1と同じアルデヒド、アルコール、触媒としてF
e(J、を用い、ドライアイス−アセトンで冷やして約
−30℃で反応するとアセタールが優勢に生成した。
実施例6 2−メチルバレルアルデヒド120重量部、ヘキサノー
ル100重量部、パラトルエンスルフォン酸(12重量
部を4つロフラスコに仕込み、かくはんしながらリフラ
ックス状態で加熱を行ない、連続的に生成水を抜き出し
ながら、4時間保持し反応を行なわしめたところヘキサ
ノールの反応率は84.6%、2−メチルペンテニルヘ
キシルエーテルの選択率は、87.3%、残、912.
7%がアセタールとなった。
実施例7 2−メチルヘキシルアルデヒド134重量部、シクロヘ
キサノール100重量部、塩化亜鉛0.2重量部を実施
例6と同様の操作を行ったところ、シクロヘキサノール
の反応率85.0%、2−メチルヘキセニルシクロヘキ
シルエーテルの選択率92.0%、残ji)8.0%が
アセタールとなった。
実施例8 2−メチルバレルアルデヒド120重量部、ラウリルア
ルコール185重量部、塩化アルミニウム0.3重量部
を実施例6と同様の操作を行ったところ、ラウリルアル
コールの反応率97.5%、2−メチルペンテニルラウ
リルエーテルの選択率100%、アセタールの生成は認
められなかった。
比較例3 実施例6の2−メチルバレルアルデヒドの代わシにn−
ヘキサナールを使用した場合100%アセタールが生成
しアルケニルエーテルの生成はみとめられなかった。
比較例4 実施例6と同じ操作を、ドライアイス−アセトンで冷し
て約−30℃で反応するとアセタールが優勢に生成した
実施例9 2−エチルヘキセナール63 i量s−、2−x チル
ヘキサノール64重量部、パラトルエンスルフォン酸0
.1重量部を4つロフラスコに仕込み、かくはんしなが
らリフラックス状態で加熱をかとない、連続的に生成水
を抜き出しながら、5時間保持し反応を行いせしめたと
ころ、2−エチルヘキサノールの反応率88.2%、1
− (2’−エチルヘキソキシ)−2−エチル−1,3
−へキサジエン生成の選択率は91%であった。
実施例10 2−メチルペンテナール49重量部、ヘキサノール50
重量部、塩化アルミニウム0.1重量部を実施例9と同
様の操作を行ったところ、ヘキサノールの反応率は91
.0%、1−ヘキソキシ−2−メチル−1,3−ペンタ
ジェンの選択率は92.5%であった。
実施例11 2−メチルヘキセナール56重量部、シクロヘキサノー
ル50重量部、N−ヒドロキシベンゼンスルフォンアミ
ド1重量部を実施例9と同様の操作を行ったところ、シ
クロヘキサノ−、ルの反応率は94.3%、1−シクロ
ヘキソキシ−2−メチル−1,3−へキサジエン生成の
選択率は95.6%であった。
実施例12 2−エチルヘキサナール128重量部、ヘキサメチレン
グリコール118重量部、パラトルエンスルフォン酸0
.2重量部を4つロフラスコに仕込み、かくはんしなが
らリフラックス状態で加熱をかとない、連続的に生成水
を抜き出しながら、2時間保持して反応を)となわしめ
たところ、ヘキサメチレングリコールの反応率は85%
でアシ、ヘキサメチレングリコールモノ2−エチルへキ
セニルエーテルの生成の選択率は65%であった。
実施例13 2−エチルヘキサナール128重量部、トリエチレング
リコール150重量部、塩化第二鉄0.5重量部を用い
て実施例12と同様の操作を行ったところ、トリエチレ
ングリコールの反応率は88係でアう、トリエチレング
リコールモノ2−エチルへキセニルエーテルの生成の選
択率は73.5%であった。
実施例14 2−メチルバレルアルデヒド100重量部、ジプロピレ
ングリコール134重量部(アイソマー含有)、塩化ア
ルミニウム0.4重量部を用いて実施例12と同様の操
作を行ったところ、ジプロピレングリコールの反応率は
81%でsb、ジプロピレングリコールモノ2−メチル
ペンテニルエーテルの生成の選択率は76%であった。
比較例5 ヘキサナール100重量部、ジプロピレングリコール1
34重量部(アイソマー含有)、塩化アルミニウム0.
4重量部を用いて実施例12と同様の操作を行ったとこ
ろ、環状アセタールが主成分として生成し、ヒドロキシ
アルケニルエーテルの生成は確認できなかった。
実施例15 2−エチルヘキセナール126i量部、ジエチレングリ
コール106重量部、塩化第二鉄1.2重量部を4つロ
フラスコに仕込み、かくはんしながらリフラックス状態
で加熱をかとない連続的に生成水を抜き出しながら5時
間保持し反応をかとなわしめたところ、ジエチレングリ
コールの反応率88係で6D、ジエチレングリコールモ
ノ2−エチル−1,3−へキサジェニルエーテルの生成
の選択率は77%であった。
実施例16 2−エチルヘキセナール128重量部、トリエチレング
リコール150重量部、塩化アルミニウム1.2重量部
を用いて実施例15と同様の操作を行ったところ、トリ
エチレングリコールの反応率86%でアシ、トリエチレ
ングリコールモノ2−エチル−1,3−へキサジェニル
エーテルの生成の選択率は80%であった。
〔発明の効果〕
本発明の効果は、従来アルデヒドから2〜3工程で合成
されたα、β不飽和エーテルをわずか一工程で合成を可
能にしたことである。さらに、従来300〜800℃な
ど高温下の気相反応であったのが、200℃以下の温和
な条件で反応を可能にしたことである。また、共役二重
結合を有した不飽和エーテルも同様に一工程で得られる
本発明の製造法は、α位にアルキル置換基を有するアル
デヒドを原料として、アルカンジオール、グリコール筐
たはヒドロキノンとを酸性触媒下、直接アセタール化を
行うと、温和な反応条件下で非常に高選択的にヒドロキ
シアルケニルエーテルを得る。
本発明の製造法は、機能性七ノマーとして期待できる共
役二重結合を有するヒドロキシアルケニルエーテルを、
工業的にも入手の容易な不飽和アルデヒドとジオールを
原料として、アルデヒドのりフラックス温度(200℃
以下)という温和な条件下で高選択的に合成するもので
ある。
本発明の製造法はアルケニルエーテルを好選択率で生成
する工業的にすぐれた方法である。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    1) で表わされるアルデヒドと、一般式 R^3−OH・・・・・・・・(2) で表わされるアルコールとを、酸性触媒下、液相で反応
    させ、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    3) で表わされる化合物を得ることを特徴とするアルケニル
    エーテル類の製造法。 〔式(1)、(2)および(3)において、R^1は炭
    素数2〜8のアルキル基でR^4は水素、またはR^1
    とR^4はR−OH_2−CH=基を示し、R^2は炭
    素数1〜6のアルキル基、R^3は炭素数4〜24の鎖
    状もしくは分岐状アルキル基もしくは炭素数4〜15の
    シクロアルキル基または炭素数5〜10の直鎖状、分岐
    状のオキシアルキル基もしくは炭素数4〜15のオキシ
    シクロアルキル基、あるいは▲数式、化学式、表等があ
    ります▼基 (R′は水素もしくはメチル基、nは2〜20の整数値
    を示し、R^5は炭素数2〜8のアルキル基もしくはR
    −CH=CH−基(Rは1〜8のアルキル基を表す)を
    示す。〕 (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    1−1) で表わされるアルデヒドと一般式 R^2^′−OH・・・・・・・・(2−1)で表わさ
    れるアルコールとをモル比0.1:1〜10:1で、酸
    性触媒の存在下、液相で反応させ一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    3−1) で表わされるα,β−不飽和エーテルを製造する請求項
    (1)記載のアルケニルエーテル類の製造法。 (ここで、R^1は炭素数2〜8のアルキル基、R^2
    は炭素数1〜6のアルキル基、R^3は炭素数4〜24
    の鎖状もしくは分岐状アルキル基または炭素数4〜15
    のシクロアルキル基を示す。) (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    1−2) で表わされるアルデヒドと、一般式 R^3−OH・・・・・・・・(2−1) で表わされるアルコールを酸性触媒下、液相で反応させ
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    3−2) で表わされる共役二重結合を有する不飽和エーテルを製
    造する請求項(1)記載のアルケニルエーテル類の製造
    法。 (ここで、Rは炭素数1〜6のアルキル基、R^2は炭
    素数1〜6のアルキル基、R^3^′は炭素数4〜24
    のアルキル基または炭素数4〜15のシクロアルキル基
    を示す。)(4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    1−1) で表わされるアルデヒドと、一般式 HOAOH・・・・・・・・(2−2) もしくは、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    2−3) で表わされるジオールとを、モル比0.05:1〜10
    :1で酸性触媒下、液相で反応させ一般式▲数式、化学
    式、表等があります▼・・・・・・・・(3−3) もしくは、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    3−4) で表わされるヒドロキシアルケニルエーテルを製造する
    請求項(1)記載のアルケニルエーテルの製造法。 (ここで、R_1は炭素数2〜8のアルキル基、R_2
    は炭素数2〜6のアルキル基、R′は水素原子もしくは
    メチル基、nは2〜20の整数値、Aは炭素数5〜10
    の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基を示す。 ) (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    1−2) で表わされるアルデヒドと、一般式 HOAOH・・・・・・・・(2−2) もしくは ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
    2−3) で表わされるジオールとを、モル比0.05:1〜10
    :1で酸性触媒下、液相で反応させ一般式▲数式、化学
    式、表等があります▼・・・・・・・・(3−4) もしくは ▲数式、化学式、表等があります▼・・(3−5) で表わされる共役二重結合を有するヒドロキシアルケニ
    ルエーテルを製造する請求項(1)記載のアルケニルエ
    ーテルの製造法。 (ここで、Rは炭素数1〜8のアルキル基、R_2は炭
    素数1〜6のアルキル基、R′は水素原子もしくはメチ
    ル基、nは2〜20の整数値、Aは炭素数5〜10の直
    鎖状、分岐状もしくは環状のアルキレン基を示す。)
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007008074A (ja) * 2005-07-01 2007-01-18 Nikka Kk 洗浄パッド構造および印刷シリンダ洗浄装置
JP2012502092A (ja) * 2008-09-12 2012-01-26 フイルメニツヒ ソシエテ アノニム 活性アルデヒドおよびケトンを放出できるジビニルエーテル誘導体および芳香表面への使用方法
JP2012020954A (ja) * 2010-07-13 2012-02-02 Fujifilm Corp ビニルエーテル化合物の製造方法

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