JPH0368587A - 芳香族ポリイミドシラノール、その前駆物質及びそのポリマー - Google Patents

芳香族ポリイミドシラノール、その前駆物質及びそのポリマー

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JPH0368587A
JPH0368587A JP2154174A JP15417490A JPH0368587A JP H0368587 A JPH0368587 A JP H0368587A JP 2154174 A JP2154174 A JP 2154174A JP 15417490 A JP15417490 A JP 15417490A JP H0368587 A JPH0368587 A JP H0368587A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、−船釣に、シリコン含有化合物、このような
化合物の調製方法、及びそのポリマーに関する。より具
体的には、本発明は、シラノール末端の芳香族イミドオ
リゴマー　その異性体の調製方法、及びこのようなオリ
ゴマーとシロキサン化合物とのコポリマーに関する。本
発明はまた、前述したオリゴマーを生成するのに有用な
、シリル末端の芳香族イミド化合物及びシリル基で保護
されたアミノシリル化合物に関する。
〔従来の技術〕
ポリイミドは、電子及び航空宇宙産業において、例えば
コーティング剤、接着剤、集積回路における層間絶縁体
として、また複合材や他の構造材を形成するために、広
く用いられている。このようなポリイミドの１つは、カ
プトン（ピロメリティックジアンヒドリドとジアミノフ
ェニルエーテルとのポリマーに対するＥ、］、デュポン
・デ・ネモアスの商標）である。しかし、カプトンは、
着色しており（このことはその光学的特性を劣化させる
）、かつ原子状酸素による劣化の影響を受は易い（この
ことはそれを低空地球軌道における宇宙応用に対して不
適当にする）という欠点がある。
これまで使用されてきたカプトンに対する代替品の１つ
は、テフロン（ポリ（テトラフルオロエチレン）に対す
るＥ、１．デュポン・デ・ネモアスの商標）である。テ
フロンは良好な光学的特性を有しているけれども、接着
が悪いという重大な問題があって不利である。これまで
使用されてきた更に他の代替的な物質は、シリコーンで
ある。しかし、シリコーンは、その良好な光学的特性及
び原子状の酸素に対する耐性にもかかわらず、機械的特
性が悪いため、非実用的である。最後に、シロキサン−
ポリイミドが開発されてきている（例えばポリカスドロ
（Ｐｏｌｉｃａｓｔｒｏ）らにより、ｒ層間絶縁への応
用のためのシロキサンポリイミドｊ　（ポリメリック・
マテリアルズのＡＣ９部門の会報：サイエンス・アンド
・エンジニアリング、５９巻、１９８８年、ロサンジエ
ルス、カリフォルニア、２０９〜２１３頁）という刊行
物において記載されている）。しかし、このようなポリ
マーは着色しており、しかもポリアルキレン基の弱い結
合を含んでいる（このことはポリマーの熱酸化特性を劣
化させる）。
〔発明が解決しようとする課題〕
このため、現在、良好な光学的特性、良好な熱酸化安定
性、原子状酸素による劣化に対する耐性、良好な機械的
特性、及び良好な加工特性を兼ね備えたポリマーに対す
る要望がある。
本発明の一般的な目的は、新規なシラノール末端の芳香
族イミドオリゴマー（このオリゴマーから新規なポリ（
イミド−シロキサン）ポリマー及び他のポリマーが調製
され得る）を提供することにある。これらのポリマーは
、前述した従来のポリマーの長所のほとんど（全てでは
ないにしても）を有し、一方でそれらの前述した重大な
欠点を克服している。
〔課題を解決するための手段〕
前述した本発明の一般的な目的は、第１に、下記の式Ｉ
を有するシラノール末端の芳香族イミド化合物を調製す
ることにより達成される。
（ここで、Ｒ１及びＲ２は各々Ｃ１〜ｃ４のアルキル基
である。） を有する化合物を生成させる。
（ｂ）　（ａ）工程で生成された化合物をｎ−ブチルリ
チウムと反応させ、引き続き選択されたハロゲン化アル
キルシラン化合物との反応により、式■〒３ 式Ｉ （ここで、Ｒ，及びＲ４は各々０１〜ｃ６のアルキル基
、非置換のアリール基及び置換されたアリール基からな
る群より選択され、Ｚは２価の基である。） 式Ｉの化合物は、以下のようにして調製される：（ａ）
ブロモアニリン化合物を選択されたシリル化試薬と反応
させて下式 式■ （ここで、ＲＩ　　Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記で定義さ
れた通りである。） を有する化合物を生成させる。
（Ｃ，）　（ｂ）工程で生成された式■を有する化合物
を下式 （ここで、Ｚは２価の基である。） を有するジアンヒドリド化合物と反応させて式■式■ （ここで、Ｒ，、Ｒ４及びＺは前記で定義された通りで
ある。） を有する化合物を生成させる。
（ｄ）　（ｃ）工程で生成された式■の化合物を加水分
解して、式■の化合物を生成させる。
式Ｉの化合物は、単独重合することもできるし、例えば
シラノール化合物又は式Ｉのシラノール基と反応する他
の化合物とともに共重合することもできる。本発明に従
って好ましいコポリマーは、式Ｉの化合物を下式 Ｒ−Ｃ，〜Ｃ６のアルキル基、置換されたアリール基、
又は非置換のアリール基、 ｙ−−ｏ−又は ］）−１〜１０） を有するシリコン化合物と重合させることにより生成さ
れる。
これらのコポリマーは酸素プラズマによる浸食に対して
耐性であることが見出されている。
本発明のシラノール末端の芳香族イミドオリゴマーは、
下記の式工によって表わされる。この式は、シリコン含
有基が、芳香環にオルソ、メタ、又はパラ位で結合して
いることを意味している。
メタ及びパラ異性体が好ましい。
（ここで、Ｒ１及びＲ４は前記で定義された通り、Ｘ−
ハロゲン、０ＨＳＯＲＳＮＲＲ，又はウレイド、 式Ｉ （ここで、Ｒ，及びＲ４は各々Ｃ８〜Ｃ６のアルキル基
、非置換のアリール基及び置換されたアリール基からな
る群より選択され、Ｚは２価の基である。） 式Ｉの化合物の合成は、本発明に従って下記の式■及び
■の化合物（これらもまた本発明に従って新規な化合物
である）によって達成される。
３ 式■ （ここで、Ｒ１及びＲ２は各々Ｃｌ−Ｃ４のアルキル基
；Ｒ１及びＲ４は前記で定義された通りである。） 式■ （ここで、Ｒ，、Ｒ４及びＺは前記で定義された通りで
ある。） 式Ｉの化合物を生成させるための一連の反応は、メタ及
びパラ異性体について本質的に同一である。
しかし、この反応シーケンスを達成するために用いられ
る化学プロセスは、下記でより詳細に議論されるように
、２つの異性体で異なっている。
式■の化合物の合成は、ブロモアニリン（化合物１）を
シリル化試薬と反応させ、対応するシリル化ブロモアニ
リン化合物（化合物２）（この化合物ではアミノ基の窒
素原子がアルキルシリル基で保護されている）を生成さ
せることから始まる。
（１） （２−） （ここで、Ｒ１及びＲ２は各々Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基
である。） 次に、化合物２中の臭素を、シリル化試薬との反応によ
り、シラン含有基と置換し、化合物３（この化合物は前
記の式Ｈに対応する）を生成させる。
（ここで、Ｒ１及びＲ２は前記で定義された通りであり
；Ｒ３及びＲ４は各々Ｃ０〜Ｃ６のアルキル基、非置換
のアリール基又は置換されたアリール基である。） 次いで、化合物３を、ジアンヒドリド化合物（化合物４
）と反応させ、ジシリル末端のイミドオリゴマー（化合
物５）（この化合物は前記の弐■に対応する）を生成さ
せる。
（ここで、ＲＩ　　Ｒ２、Ｒ３、Ｒａ及びＺは前記で定
義された通りである。） 化合物４及び５に関しては、Ｚは２価の基として定義さ
れる。Ｚとして好ましい基は、−Ｃ（ＣＦ３　）２　　
　Ｃｏ５ＳＯ２、Ｏ，又ハシアミノ−ジアンヒドリド付
加物である。後者の用語は、ジアミンを過剰のジアンヒ
ドリドと反応させることにより得られる、アンヒドリド
が末端に形成されたイミドを意味することを意図してい
る。
例えば、化合物４は、下記に示すように、ジアミンと反
応できる。
（３） （４） ↓ （ここで、Ｚは前記で定義された通りであり、Ｍは２価
の基である。） 注記したように、Ｍは、フェニレン又はアルキレン例え
ばエチレンのような、２価の基である。
最後に、ジシリル末端の化合物５は、ジシラノール末端
のイミドオリゴマー（化合物６）（この化合物は前記の
式工に対応する）まで加水分解される。
（ここで、Ｒｓ　、Ｒ４及びＺは前記で定義された通り
である。） さて、前記で示された反応シーケンスのより具体的な詳
細に転じて、最初に式Ｉのメタ異性体の調製を議論し、
引き続き式■のパラ異性体の調製を議論する。式Ｉのメ
タ異性体の調製に関しては、前述した化合物１から化合
物２への変換において、出発物質（化合物１）が３−ブ
ロモアニリンであり、シリル化試薬が１．１，４．４−
テトラメチル−１，４−ビス（Ｎ、Ｎ−ジエチル−アミ
ノ）−ジシラブタンのようなジシラン化合物である。使
用できる他のシリル化試薬は、クロロトリメチルシラン
、いずれかのトリアルキルクロロシラン、又はいずれか
のトリアリールクロロシランを含むが、これらに限定さ
れるものではない。次に、化合物２のメタ異性体から化
合物３（すなわち式■）のメタ異性体への変換において
、シリル化は、化合物２のメタ異性体をｎ−ブチルリチ
ウムと反応させ、引き続きクロロジメチルシランのよう
なハロゲン化シラン化合物との反応により、達成される
。式■の化合物を生成させるためのこの方法は、この技
術において新規であると思われる。次いで、化合物３の
メタ異性体を、４．４’−（ヘキサフルオロイソプロピ
リデン）−ビスフタリックアンヒドリドのようなジアン
ヒドリドに対して過剰に加え、還流して、化合物５（す
なわち式■）のメタ異性体を生成させる。
式■のイミド化合物を生成するこの方法は、化合物３中
の窒素を保護するアルキルシリル基がジアンヒドリド（
化合物４）との反応に先立って除去されず、この変換が
シラン（Ｓ　１−Ｈ）基がある状態で行われるため、こ
の技術において新規であると思われる。最後に、ジシラ
ン化合物５（メタ異性体）を、ｐＨ７のリン酸緩衝溶液
中、５％パラジウム／カーボンの存在下で、加水分解し
、化合物６のメタ異性体を生成する。−船釣に、式Ｉの
化合物のメタ異性体は、パラ異性体よりも、合威し取り
扱うのが容易である。これは、パラ異性体と比較して、
化合物５を生成するための化合物３（メタ）がより活性
であり、化合物６（メタ）がより安定で精製するのが容
易なためである。
式Ｉのパラ異性体の調製に関しては、前述した化合物１
のパラ異性体から化合物２のパラ異性体への変換におい
て、出発物質（化合物１）が４−ブロモアニリンであり
、そしてシリル化は最初に化合物１をｎ−ブチルリチウ
ムと反応させ、引き続きクロロトリメチルシランのよう
なハロゲン化シラン化合物との反応により、達成される
。次に、化合物２のパラ異性体から化合物３（すなわち
式■）のパラ異性体への変換において、シリル化は最初
に化合物２のパラ異性体をｎ−ブチルリチウムと反応さ
せ、引き続きクロロジメチルシランのようなハロゲン化
シラン化合物との反応により、達成される。式■の化合
物を生成させるためのこの方法は、この技術において新
規であると思われる。次いで、化合物３のパラ異性体を
、４．４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）−ビ
スフタリックアンヒドリドのような選択されたジアンヒ
ドリド中に溶解し、還流して化合物５（すなわち式■）
のパラ異性体を生成させる。前述したように、式■のイ
ミド化合物を生成するこの方法は、化合物３中の保護用
のアルキルシリル基がジアンヒドリド（化合物４）との
反応に先立って除去されず、この変換がシラン（Ｓ　１
−Ｈ）基がある状態で行われるため、この技術において
新規であると思われる。
最後に、ジシラン化合物５（パラ異性体）を、ｐＨ７の
リン酸緩衝溶液中、５％パラジウム／カーボンの存在下
で、加水分解し、化合物６のパラ異性体を生成させる。
式Ｉの化合物は、ポリマー及びコポリマーを生成するの
に有用である。特に有用なコポリマーの一つは、式■の
化合物のパラ異性体をシロキサン化合物（７）と反応さ
せて、式■のポリ（イミド−シロキサン）ポリマー（こ
こで、シリコン原子は芳香環にパラ位で結合され、Ｙは
酸素である）を生成させることにより生成される。
換のアリール基、又は置換されたアリール基、ｐ−１〜
１０） 式■ （ここで、Ｒ，、Ｒ４、Ｚ、及びｐは前記で定義された
通り、 Ｙ−一〇−又は （７） （ここで、Ｘ−ハロゲン、０ＨＳＯＲ，ＮＲＲ。
又はウレイド、 Ｒ−Ｃ，〜Ｃ６のアルキル基、非置換のアリール基、又
は置換されたアリール基、 Ｒ３及びＲ４−Ｃ，〜Ｃ６のアルキル基、装置ｎ＝１か
ら約１０００） 式■のポリマー（ここで、シリコン原子が芳香環にメタ
位で結合され、Ｙが−ＳｉＲ，Ｒ４−である）は、式Ｉ
の化合物のメタ異性体をシラン化合物（８）と反応させ
ることにより生成される。
（８） （ここで、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、及びｐは前記で定義された
通りである。） 化合物（７）及び（８）は、下記−竣成で表わすことが
できる。
（ここで、Ｒ３、Ｒ４、Ｘｌ及びｐは前記で定義された
通り、 Ｙは一〇−又は である。） 式■のブロックコポリマーは、公知の方法により生成さ
れる（例えばマーカー（Ｍｅｒｋｅｒ）らによる「ポリ
（テトラメチル−ｐ−シラフェニレン−シロキサン）と
ポリジメチル−シロキサンとのランダム及びブロックコ
ポリマー」という表題の刊行物（ジャーナル・オブ・ポ
リマー・サイエンス、パートＡ、２巻、１９６４年、３
１〜４４頁）において記載されている）。式■のコポリ
マーは、イミドポリマーとシロキサンポリマーの両者の
最良の特性を持っている。芳香族イミド結合はこの構造
体の熱的及び機械的特性を向上させ；シロキサン部分は
この構造体の加工性を非常に改善させる。加えて、公知
のポリイミド−シロキサンにおいて見られるポリアルキ
レン結合を取り除いていることにより、式■のコポリマ
ーは、改善された熱酸化安定性を有している。更に、式
■のコポリマーは、高い光学的透過性を有する（すなわ
ち無色である）。このことは太陽電池の高い効率のため
には不可欠である。これらのコポリマーは、実施例５に
記載されているように、原子状酸素及び紫外線に対する
良好な耐性をも有している。このことは低空地球軌道に
おける宇宙応用に対して不可欠である。
式工の化合物は、シラノール化合物を重合するための公
知の方法を用いて、単独重合することもできる（例えば
、前記で参照された、マーカーらによる「ポリ（テトラ
メチル−ｐ−シリフェニレン−シロキサン）とポリジメ
チル−シロキサンとのランダム及びブロックコポリマー
」という表題の刊行物において記載されている）。式Ｉ
の化合物のホモポリマーは、シロキサン基に対して多量
のイミドを有する。このことは、高い融点、良好な溶媒
耐性、及び優れた機械的特性（引張り強度）が要求され
るところで、これらのホモポリマーを有用な材料にさせ
る。
式Ｉの化合物の合成における有用性に加えて、本発明に
従って新規な式■の化合物は、置換されたアミンとして
使用することができ、例えば水と反応させて対応するア
ミンを生成させることができる。新規な式■の化合物は
、例えばビニル基又は他の不飽和基を含む化合物との付
加反応によって、イミド−シラン化合物及びポリマーを
生成するために代替的に使用することができる。後者の
化合物は、室温加硫（ｒｏｏｍ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒ
ｅ　ｖｕｌｃａｎｉ−ｚａｔｉｏｎ　（ＲＴＶ））シス
テム及び他の応用における架橋剤として有用である。
〔実施例〕
本発明の実際の例は下記に記載されている。次に示す一
般的な操作は、全ての例に対して用いられた。
実施例の一般的な説明 全ての反応は乾燥−窒素雰囲気下で標準的な合成手法を
用いて行われた。空気感応性の反応は、シュライバーと
ドライゼン（Ｓｈｒｉｖｅｒ　ａｎｄ　Ｄｒｅｉｚｄｅ
ｎ）により「空気感応性の化合物の取扱いＪ　　（Ｗｉ
ｌｅｙ＆　５ｏｎｓ、１９８８年）という標題の書籍に
おいて記載された装置を用いて行われた。ゲル・パーミ
ェーション・クロマトグラムは、ポリスチレン標準で標
準化されたスタイラゲル（Ｓｔｙｒａｇｅｌ）カラムを
備えたウォーターズ（Ｗａｔｅｒ３）・クロマトグラフ
ィー・システムを用いて取られた。プロトンＮＭＲスペ
クトルは２００ＭＨｚでブルーカー（Ｂｒｕｋｅｒ）　
Ａ　Ｃ２００スベリトロメータ上に記録された。ＣＤＣ
ｌｌ５溶媒中の残存プロトンは、ＮＭＲスペクトル中に
テトラメチルシランの余分のシリコンビークが加わると
いう錯綜状態のせいで、７．２７ｐｐｍ＋のレファレン
スとして用いられた。カーボン−ｉ３ＮＭＲスペクトル
は、５０．３２３ＭＨｚで同一の装置上に記録された。
これらのスペクトルは、溶媒ＣＤＣρ３の炭素ピークに
対してレファレンスされた。液体及びポリマーのＩＲス
ペクトルは、ＮａＣｊｌ板上の薄膜から取られた。固体
のＩＲスペクトルはＫＢｒ感光乳剤中で観察された。全
てのＩＲスペクトルは、ニコレット（Ｎｉｃｏｌｅｔ）
　Ｍ　Ｘ−１フ一リエ変換ＮＭＲスペクトロメータ上に
記録された。熱分析は、デュポン９５１ＴＧＡ及び９１
０ＤＳＣ上で、１０９０データ・アクイジション・ステ
ーションを用いて行われた。
実施例１ この実施例は、式Ｉの化合物（ここで、Ｒ１−Ｒ４＝　
−ＣＨｓ　、Ｚ　−Ｃ（ＣＦ　ｓ　）　２−であり、シ
リコン原子が芳香環にパラ位で結合している）の合成に
用いられた一連の工程を記述している。
Ａ、Ｎ、Ｎ−ビス（トリメチルシリル）−４−ブロモア
ニリンの調製 ブラット（Ｊ、Ｒ，Ｐｒａｔｔ）らにより、「有機シリ
コン化合物。ＸＸ、　　トリメチルシリル基で保護して
いるアニリン中間体を経由する芳香族ジアミンの合成」
　（ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（
Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｉ、）　、４０巻、８号、１９
７５年、１０９０〜１０９４頁）という表題の刊行物に
おいて記載されている一般的な操作は、ここに記載され
るようにいくつかの修正を伴った。０℃まで冷却された
、ｐ−ブロモアニリン（１０６，０ｇ５０．８２モル）
のテトラヒドロフラン（５００ｍｌ）溶液に、１時間か
けてｎ−ブチルリチウム（８２５ｍｌ　、　１　、３モ
ル）を加えた。
この反応混合物は茶色に変ったが、均一溶液のままであ
った。この反応混合物を２時間還流してメタル化を完了
させ、氷の温度まで冷却し、次いで反応温度が１５℃を
超えないようにクロロトリメチルシラン（１８０ｍｌ　
、　１　、４モル）を加えた。この反応混合物を室温ま
で暖め、−晩還流した。シュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）
法によりろ過し、ガスクロマトグラム（Ｇ　Ｃ）を取っ
た。溶媒を蒸発し、残留物を蒸留して３種の留分を得た
。留分１−沸点２５〜８９℃１０　、５ＴＯｒｒｑ　２
２．Ｏｇ　（、：の初留分を廃棄シｔ：、）：留分２−
沸点９０〜ｂ によれば純度９５％（不純物はモノーＴＭＳ付加物であ
る）；留分３−沸点１０８〜１０９℃／　０　、５Ｔｏ
ｒｒ。
１２２．４ｇ５ＧＣによれば純度９９％；生成物の留分
２及び３は、合計で７９％の収率になった。ＩＲ（Ｎａ
ＣＪ７板’）　　；　２９４０．１４７０．１２５０．
１２２０．９４０゜９００、８６０゜ＨＩ　ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＲ３）　：７．９（ｄｄ。
ＡＡ’ＭＭ、４Ｈ）、　０．５（ｓ、１８Ｈ）。
で仕上げた。このサンプルのＧＣ分析では、メタル化が
完了していることが示されていた。全て０℃で、反応フ
ラスコ内の内容物をダブルニードル法を用いて、ジメチ
ルクロロシラン（８，０ｍ１）　／エーテル（４０ｍｌ
）へ移した。この反応混合物を室温まで暖め、−晩撹拌
した。次いで、この反応混合物を同容のへキサンで希釈
し、シュレンク装置を用いてろ過し、溶媒を蒸発させた
。残留物をＧＣ及びＮＭＨによって分析し、蒸留して９
２〜９８℃１０　、４Ｔｏｒｒで沸騰する留分（１２，
２ｇ、　８０％）を得た。
ＨＬ　ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１ｌ　ｓ　）　：７．ｆｉ（ｄ
ｄ、ＡＡ’ＭＭ、４Ｈ）。
４．８（ｓｅｐｔｅｔ、ＩＨ）、　０．８５（ｄ、８Ｈ
）、　０．５（ｓ、１８Ｈ）。Ｃ１Ｃ１３Ｎ　（ＣＤ　
ＣＪＩ’　ｓ　）　；１４９．１２．１３４．２８．１
３１４４゜１２９．７２．２．１５．−３．５８゜０℃
で、前記Ａ工程で調製された化合物（１５，８ｇ、　０
．０５２モル）／エーテル（１４０ｍｌ）に、ｎ−ブチ
ルリチウム（ヘキサン中２．１Ｍ溶液２８ｍ１．０．０
５５モル）を加えた。この反応混合物をこの温度で１時
間撹拌した。少量のサンプルを取り出し、水中前記Ｂ工
程で調製された、ビス−トリメチルシリル基で保護され
たシリルアミン（５，０ｇ、　０．０１７モル）を、ヘ
キサフルオロ−イソプロピリデン−４，４’−ビスフタ
リックアンヒドリド（６Ｆ−ジアンヒドリド）（３ｌ１
ｇ、０．００７モル）とともに、Ｎ−メチルピロリジノ
ン（ＮＭＰ）　　（１０ｍｌ）及びトルエン（４０ｍｌ
）中に溶解した。この反応混合物をディーンースターク
（Ｄｅａｎ−９ｔａｒｋ）　トラップを用いて１２時間
還流し、−晩冷却した。反応をモニターするために、３
メートルのキャピラリーカラムによるＧＣ分析を用いた
。翌日、この反応混合物を水（１００ｍｌ）中に注ぎ、
塩化メチレン（１００ｍｌ）で抽出し、Ｎａ２ＳＯ４上
で乾燥した。この溶液を蒸発させ、すりつぶした（１：
Ｌメタノール／水混合溶液５０ｍ１）。得られた固体（
３，２ｇ、　８２％）は、２７０℃以下では溶融しなか
ったが、非常に溶解しやすく、目標とする構造がＩＲ及
びＮＭＲ分析によって確認された。Ｉ　Ｒ（Ｋ　Ｂ　ｒ
　）　；２９７０．２１２０゜１７８０、１７２０．１
３７０，１２５０．１２２０．１１９０．１１５０゜１
１００、８７０．７２０ｏＨＩ　ＮＭＲ（ＤＭＳ　Ｏ−
ｄ　６　）；９．０−８．０（Ｉｍ、１４Ｈ）、　５．
０（ｓｅｐｔｅｔ、２Ｈ）、　０．８５（ｄ、１２Ｍ）
。
Ｄ、　Ｎ、Ｎ“−ビス［４−（ジメチルヒドロキシシリ
ル）調製 前記Ｃ工程で調製された、６Ｆ−ジイミドジシラ＞　（
１５，０ｇ、　０．０２１モル）　／　Ｔ　ＨＦ　（８
０ｍｌ）　ニ、ｐＨ７の緩衝水溶液（１６ｍｌ、リン酸
塩タイプ）とパラジウム／カーボン（５％金属、ｌ　Ｏ
Ｏｉｇ）とを加えた。反応後、薄層クロマトグラフィー
（ＴＬＣ）（２：１塩化メチレン／ＴＨＦＳＲｆジシラ
ン−０，７、Ｒｆジシラノール−０，２〉が行われた。
反応は一晩撹拌され、完了したように見えた。ジシラノ
ール生成物の自己縮合を防止するために、この段階では
非常に注意が払われるべきである。このジシラノールを
ろ過により単離し、Ｎａ２Ｓ○４上で乾燥した。得られ
た黄色の溶液を加熱せずに約３０ｍ１まで濃縮し、ただ
ちにシリカゲルのカラムにかけた（１００％ＣＨＣＮ３
溶出液中の最初の画分、ＣＨＣρ、中の５％ＴＨＦから
の生成物画分）。
得られた画分をＴＬＣにより分析し、生成物画分を加熱
せずに注意深く濃縮した。残留物をトルエンを用いてす
りつぶし、淡黄色の固体を得た（７．。
ｇ、　４４％）　、　　Ｉ　Ｒ（−ニー　））　　；　
３５００（ｂｒｄ）、　　２９５０゜１７４０、１７７
０．１３７５．１７５０．８８０．８４０゜ＨＩ　ＮＭ
Ｒ；８．０３（ｄ、２Ｈ）、　７．９１（ｓ、２Ｈ）、
　７．９９（ｄ、２Ｈ）、　７．７４（ｄ。
４Ｈ）、　７．４２（ｄ、４Ｈ）、　１．９５（ｂｒｄ
　ｓ、２Ｈ）、　０．４２（ｓ、１２Ｈ）。
Ｃ１Ｃ１３Ｎ　、　１６Ｂ、０３．１Ｂ５．８９．１３
９．９５．１３９．１５゜１３５．８８．１３４．０２
．１３２．６２．１３２．３１．１２６．２１゜１２５
．７２（２炭素）、　１２５．３９．１２４．１８．１
２３．３４（ｑｕａｒｔｅｔ、Ｊ（Ｃ，Ｆ）−２８７Ｈ
ｚ）、　８４．１５（ｓｅｐｔｅｔ、Ｊ（Ｃ，Ｐ）−２
６）１ｚ）、　０．０２゜ 実施例２ この実施例は、式Ｉの化合物（ここで、Ｒ１−Ｒ，−−
ＣＨｓ　、Ｚ−−Ｃ（ＣＦ３　）２−であり、シリコン
原子が芳香環にメタ位で結合している）の合成に用いら
れた一連の工程を記述している。
３−ブロモアニリン（７７ｇ、　０．４５モル）を過剰
の１．１．４．４−テトラメチル−１，４−ビス（Ｎ、
Ｎ−ジエチルアミノ）ジシラブタン（１５０ｇ）に加え
た。後者は、グッゲンハイム（Ｔ、Ｌ、Ｇｕｇｇｅｎｈ
ｅｆａ＋）の方法により生成することができる（「置換
されたアニリンの１゜１．４．４−テトラメチル−１，
４−ビス（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ジシラエチレンに
よる保護」（テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒ３）　、　２５巻。
１２号、　１９８４年、　１２５３〜１２５４頁）とい
う表題の刊行物に記載されている）。反応混合物を１９
０℃まで８時間にわたって加熱し、この温度で一晩撹拌
した。反応混合物を蒸留して、生成物を無色の液体とし
て得た（１０９．３ｇ　、理論値の７０％、沸点９４〜
９８”Ｃ／　０．２５Ｔｏｒｒ）。この化合物は、更に
特性評価することなしに、次の反応（Ｂ工程）へ引き継
いだ。
ンの調製 前記Ａ工程で調製された、保護されたブロモアニリン（
１５ｇＳＯ，０４８モル）をジエチルエーテル（１２５
ｍｌ）に溶解し、０℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチウ
ム／ヘキサン（３０ｍＬ　Ｏ，０８３モル）をこの溶液
に３０分かけて加えた。この反応混合物を更に３０分間
撹拌し、次いで０℃で、メタル化された保護されたアニ
リンの反応混合物を、ダブルニードル法によりクロロジ
メチルシラン（９ｍｌ、　０．０８モル）／エーテル（
５０ｍｌ）に加えた。この反応混合物を室温まで暖め、
次いでシュレンツ法により口過し、明黄色の溶液を得た
。この混合物を濃縮し、蒸留して、９２〜９４℃で沸騰
する留分を得た（８．４ｇ、理論値の６２％）。ＨＩ　
ＮＭＲ（ＣＤＣＩＩｓ　）：　７．４−７．０（ｒａ、
４Ｈ）、４．５５（ｍ、ＩＨ）、１．ＯＯ（ｍ、４Ｈ）
、　０．４８（ＩＩｌ、８Ｈ＞。
０Ｊ７（＋、１２Ｈ）　、　Ｃ１Ｃ１３Ｎ　；　１４８
．８８．１３７．８３゜１２８．７１．１２８．５８．
１２５．６７、１２３．９Ｂ、　８．４Ｂ、　０．０８
゜−３，７７゜Ｓ　ｉ２９ＮＭＲ（ＣＤＣｊ）　ｓ　）
　　；　１３．４９゜−１７，２２゜ＩＲに−ト）　　
；　２９５４．　２９１６．　２８ｇ９゜２１１８、１
５８１．１５Ｂ２．１２５０．９１０．７８９．７８０
゜メチルシランアニリン（５，０ｇ）を、４．４’−（
ヘキサフルオロプロピリデン）ビスフタリックアンヒド
リド（３，０２ｇ、　０．０６８モル）／トルエン（５
０ｍｌ）に加えた。この反応混合物をディーンースター
クトラップを用いて２０時間還流した。この反応混合物
を濃縮し、粗生成物をフラッシュ・カラム・クロマトグ
ラフィーにかけた（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキ
サン溶出液）。薄い黄色の固体の重量は２．２１　ｇで
あった（理論値の４５％）。ＨｌＮＭＲ（ＣＤ　Ｃｌ３
　ｓ　）　　；　８．１０−７．９５（煩、８）１）、
　７゜６７−７．３９（ｉ、８）１）、　４．５７（ｓ
ｅｐｔｅｔ、２Ｈ，Ｊ−３，８Ｈｚ）、　０．４２（ｄ
１２Ｈ，Ｊ−３，８Ｈ２）。Ｃ１Ｃ１３Ｎ　（ＣＤＣｊ
７　＊　）（Ｈｌデカップル’）　　；　１Ｂ５．９３
．１Ｂ５．７５．１３９．８０，１３８．８６゜１３５
．７０．１３３．８９．１３２．５４．１３２．２６．
１３１．７２゜１３０．８５．１２８．５７．１２７．
１８．１２５．０９．１２３．８９゜１２８．９５（ｑ
ｕａｒｔｅｔ、Ｉ（Ｃ，Ｆ）＝２８８．８）、　６８．
２０Ｃ５ｅｐｔｅｔ。
Ｊ”２８．２Ｈ２）、−４，１７、Ｓ　ｉ　２９ＨＭＲ
（ＣＤ　ＣＲ、）　；−１ｆｉ、４１．　　Ｉ　Ｒ（Ｋ
　Ｂ　ｒ　）　　；　２９４２．２１２２．１７ｇ２゜
１７２０、１３Ｂ９．１２５３．　ｆｉｌｌ、　８９５
．７２１゜前記Ｂ工程で調製された、過剰の保護された
ジＤ、　Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシジメチルシリ
ル）前記Ｃ工程で調製された、ジイミドジシラン（２，
０ｇ、　０．００２８モル）をＴＨＦ（２０ｍｌ）に溶
解した。これに、ｐＨ７のリン酸緩衝溶液（ＬＯｍｌ）
と５％パラジウム／カーボン（１５０℃１ｇ）を加えた
。この反応混合物を６時間撹拌した。この反応混合物の
ＴＬＣ分析（シリカゲル／クロロホルム−ＴＨＦ溶出液
）は、加水分解が完了していることを示していた。この
反応混合物をシーライト（ｃｅｌｉｔｅ）を通してろ過
し、エーテル中に溶解し、ＮａＣｊ７飽和水溶液で洗浄
してＮａ２５ｏ４上で乾燥した。
乾燥エーテル溶液を濃縮し、薄い黄色の固体１．４ｇ（
理論値の８８％）を得た。ＩＲ（ＫＢｒ）；３５００（
ｂｒｄ）、　　２９４５．１７８２．１７２０．１３７
３．１２５４゜８９２、７２Ｌ　ＨＬ　ＮＭＲ（ＣＤ　
Ｃｆｌ　３）　；８．１２−７．８２（ａ＋、６Ｈ）、
　７．６８−７．３２（＋ｇ、８）（）、　０．４４（
ｓ、１２Ｈ）。Ｃ１３ＨＭＲ（ＣＤ　Ｃｆｌ　ｓ　）　
　；　１ＢＢ、１８．１８６．０７．１４１．２５゜１
３９．０ｇ、　１３５．８７．１３３．Ｌ９．１３２．
３３．１３１．０４゜１３０．８０，１２８．７５．１
２７．５７，１２６．１９（Ｑ、Ｊ（Ｃ，Ｆ）−２８７
，３Ｈｚ）、１２５．２６，１２４．０６．８７．８１
（ｎ）、−０，１５゜ＳｉＳｉ２９Ｎ　　（ＣＤ　Ｃｆ
ｌ　　ｓ　　）　　；　−６，７４４゜実施例３ この実施例は、式■のコポリマー（ここで、Ｒ１及びＲ
４は各々−ＣＨ３、 Ｚ−−Ｃ（ＣＦ３　）２−であり、シリコン原子が芳香
環にパラ位で結合しており、Ｙは酸素である）の調製を
記述している。
前記の実施例１、Ｄ工程で調製された６Ｆ−ジイミドジ
シラノールモノマー（３，８２８ｇ、　０．００５２８
モル）を−晩乾燥しく５０℃／　（１，０５Ｔｏｒｒ）
　、次いでドライボックス中に置いた。このモノマーを
、マグネチックスターラーを用いて、クロロベンゼン（
ＬＯｍｌ）に溶解した。この反応混合物を、テトラメチ
ルビスウレイドシロキサン（ＮＭＲで分析されたストッ
ク溶液１２．５ｍｌ、０．００５１５モル）を２０時間
かけてゆっくりと加えている間、室温でゆっくりと撹拌
した。翌日、この反応溶液をＮＭＲに一ト／ロック溶媒
なし）によって分析し、ウレイド部分をわずかに過剰に
含むことを見出した。本発明のシラノールモノマー（５
０ｍｇ）を等量ずつ２つにわけて２４時間かけて加え、
反応混合物をボックスから取り出してクロロベンゼン溶
液をメタノール中で沈殿させることにより仕上げ、メタ
ノール（１００ｍｌ）中でもう一度沈殿させた。黄色の
ポリマーをろ過し、塩化メチレン（２５ｍｌ）中に溶解
し、メタノール（２００ｍｌ）中でもう一度沈殿させた
。黄色の固体の重量は１．９ｇ（４８％）であった。Ｉ
Ｒ（薄膜）　；２９５０．１７４０．１３４０．１２Ｂ
０．１１７５．１０８０゜８００゜ＨＩ　ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＤ３）　　；　８．００（ｄ、２Ｈ，Ｊ−７，７Ｈｚ
）、　７．９２（ｓ、２Ｈ）、　７．８４（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝７．７Ｈｚ）、　７．６９（ｄ、４Ｈ，Ｊ−８Ｊ）
Ｉｚ）、　７．３９（ｄ、４Ｈ，Ｊ−８，３Ｈｚ）、　
０Ｊ４（ｓ。
１２Ｈ）、　０．０７２（ｓ、Ｌ２Ｈ）。Ｔｇ　（ＤＳ
Ｃ）；１３０℃。
粘度、　０．２９１　、重量平均分子量／数平均分子量
すなわちＭｗ／　Ｍ　ｎ　（Ｇ　Ｐ　Ｃ）　　；　４２
０００／　２８０００゜実施例４ この実施例は、式■のコポリマー（ここで、Ｒ３及びＲ
４は各々−−ＣＨ，、 Ｚ　−−Ｃ（ＣＦｉ　）　２−であり、シリコン原子が
芳香環にメタ位で結合しており、Ｙは単結合である）の
調製を記述している。
前記の実施例２、Ｄ工程で調製された６Ｆ−ジイミドジ
シラノールモノマー（２，０ｇ　、　０．００２７モル
）を、ドライボックス中でクロロベンゼン（１５ｍｌ）
に溶解した。これに、２つに分けたジメチルビスウレイ
ドシラン（１，２ｇ　、　０．００２７モル）を加えた
。
これは、ヘダヤ・ら（Ｈｅｄａｙａ　ｅｔ　ａｔ、）の
方法により生成される（「Ｄ２−メタ−カルボラン−シ
ロキサン。■、Ｉ状の高分子量ポリマーの合成」　（ジ
１９７７年、２２２９〜２２３８頁。）という表題の刊
行物に記載されている）。この反応混合物を２時間撹拌
し、次いで少量のサンプルを取り出しＮＭＲによって分
析した。ＮＭＲではウレイドモノマーがないことが明ら
かであり、したがって更にジメチルビスウレイドモノマ
ー少１（１５０ｍｇ）を加えた。反芯温合物を１時間撹
拌した。ＮＭＲでは過剰のウレイドが示され、ジシラノ
ール（８０ｍｌ）を加えた。
反応混合物を１時間撹拌した。この混合物のＮＭＲでは
、ウレイドがないことが示されていた。次いで、この反
応混合物をウレイドモノマーで逆滴定した（１００ｍｇ
、　１４時間、シリンジポンプ）。翌日、反応混合物を
ボックスから取り出し、メタノール中で沈殿させ、メタ
ノールで洗浄し、クロロホルム中に溶解し、再びメタノ
ール中で沈殿させ、乾燥しく６０℃、８時間）、薄い黄
色の固体を得た（１．８ｇ、理論値の８３％）。Ｇ　Ｐ
　Ｃ，８８０００／４１０００゜ＵＶ−Ｖ　ｒ　Ｓ　（
１，２−ジクロロエタン）；３８０ｎｍで５０％カット
オフ。Ｉ　Ｒ（Ｋ　Ｂ　ｒ　）　　；　２９５７．１７
８２゜１７２４、１３７３．１３Ｂ８．１２５８．１０
４４．７９５゜ＨＩ　ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃｌ３３　）　　
：　８．０３−７．８３（＋、８Ｈ）、　７．８４−７
．３４（ｉ、８Ｈ）、　０．３２（ｓ、１２Ｈ）、　０
．０７（ｓ、８Ｈ）　、　Ｃ１３Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ
ｆｆ　３　）　　；　１ＢＢ、１８．１８８．００．１
４１．４８゜１３９．０８．　Ｌ３５．８５．１３３．
１８．１３２．７１．１３２．４１゜１３０゜９１．１
３０．７７、１２８．６Ｂ、　ｔ２８．２４．　ｔ２５
．ｔｏ（ｑＪ（Ｃ，Ｐ）＝２８３．３Ｈｚ）、　１２５
．２９．１２４．０Ｂ、　８７．８１（ａ＋）。
０、ｅ５．−１．２８　　。　Ｓ　　ｉ２９ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣ夏　、）；−２，４２，−１８，５５。
実施例５ この実施例は、実施例３で１戊されたコポリマーを試験
して、その酸素プラズマ（このプラズマは原子状酸素を
含んでいる）による浸食に対する耐性を決定することを
記述している。
試験用の４つの試料を、実施例３のコポリマーの層を４
つのグラファイト／エポキシ基板（１インチ（２，５４
ｃｍ）　ｘ　２インチ（５，０８ｃｍ）　Ｘ　Ｏ，３１
０〜０Ｊ７０インチ（０，７８７〜０．９４０ｃｍ）の
寸法を有し、ニーニスポリメリック（Ｕ、Ｓ、Ｐｏｌｙ
Ｉｇｅｒｌｃ）から得られる、Ｅ　４２−１／　ＧＹ７
０）の各々の上に形成することにより調製した。コーテ
ィングの厚さは、０．００１６インチ（０，００４（７
））であった。基板は、溶媒キャスティングによりコー
トされた。プラズマの曝露の前に、下記に記述される曝
露後の測定と同じ方法で、各試料の重量及び光学的測定
を行った。
試料を一度に２つプラズマブレツブＵ　（ｐｌａｓｍａ
Ｐｒｅｐ　　Ｉｆ）プラズマアッシャ−内に置いた。各
々の曝露の間にプラズマが一致することを保証するため
に、−片のカプトン（Ｋａｐｔｏｎ）を各試料ベアとと
もに入れた。第１の曝露によるカプトンの浸食量が第２
の曝露によるそれと一致するならば、プラズマの環境は
両方のペアについて一致していると仮定できる。両方の
曝露によるカプトンの浸食量は、低空地球軌道において
等価な原子状酸素の影響レベルを決定するために用いた
。サンプルを、アッシャ−内で７２時間、原子状酸素に
曝露した。
これは、５　Ｘ　１０”ａｔ／　ａｍ　２という等価な
影響に対応する。アッシャ−内の圧力は、おおよそ２５
マイクロメータであった。
サンプルは、脱水によりカプトンサンプルの重量測定の
正確さを増すために、プラズマの曝露に先立って真空下
に４８時間放置した。サンプルは、脱水後に、ｉｏ−’
　ｇまで正確な天秤上で重量測定した。曝露後に、サン
プルをアッシャ−から取り出し、速やかに重量測定して
、アッシング後のサンプルの重量損失を決定した。最後
の光学的特性評価はパーキン・エルマー・ラムダ９　Ｕ
Ｖ／Ｖ　Ｉ　Ｓ／ＮＩＲスペクトロフォトメータを用い
て行い、プラズマブレツブ■プラズマアッシャ−内での
原子状酸素への曝露後の反射率及び透過率を決定した。
重量損失についての試験結果を下記の第１表に示す。表
かられかるように、酸素プラズマへの曝露後に、実質的
な試料の重量損失はない。これらの結果は、酸素プラズ
マ（例えば外界の低空地球軌道において遭遇するような
酸素プラズマ）による浸食に対して耐性を有する保護コ
ーティング及び構造材を提供するのに、本発明のコポリ
マーが適していることを示している。しかし、これらの
試料は、酸素プラズマ（これは、その光学的性能を劣化
させ、それを光学的コーティングとしては不適当にする
）への曝露後に、太陽光の正透過率に変化を来たすこと
が注意を引いた。
第　　１　　表 プラズマ浸食結果 式■を有する本発明の他のコポリマー（ここで、Ｒ３、
Ｒ，、Ｚ、及びＹは、これより前に特定された他の種類
である）は、この実施例において特定された具体的なコ
ポリマーと同様な、酸素プラズマによる浸食に対する耐
性を示すことが期待される。
実施例６ 調製する一つの方法を示している。
丸底フラスコ（１００ｍｌ）内で、実施例２で調製され
たジシラノール（５，０ｇ、　０．００８７モル）を乾
燥トルエン（２０ｍｌ）中に溶解した。この溶液に、触
媒のｎ−ヘキシルアミン−２−エチルヘキソエートを加
えた。この反応混合物を２４時間還流し、メタノール（
２００ｍｌ）中へ注ぎ、真空中で乾燥することにより処
理した。このポリマーの１ｉ量は４．２ｇ（８８％）で
あり、その構造に一致するＮＭＲ及びＩＲを有していた
。Ｇ　Ｐ　Ｃ（Ｍ　ｗ　／　Ｍ　ｎ　）　；４８０００
／　２９０００゜以上のように本発明の典型的な具体例
が記載されているが、当業者はその開示は単に典型的で
あるだけであり、様々な他の選択、適用及び修正が本発
明の範囲内でなされ得ることを注意すべきである。した
がって、本発明は、ここに示された特定の具体例に限定
されず、特許請求の範囲によってのみ限定される。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ 式 I （ここで、Ｒ＿３及びＲ＿４は各々Ｃ＿１〜Ｃ＿６のア
    ルキル基、非置換のアリール基及び置換されたアリール
    基からなる群より選択され、Ｚは２価の基である。） を有する化合物。
  2. （２）（ａ）シリコン含有基が、芳香環にパラ位で結合
    している、 （ｂ）Ｒ＿３及びＲ＿４が各々メチル、かつ（ｃ）Ｚが
    −Ｃ（ＣＦ＿３）＿２− である請求項（１）記載の化合物。
  3. （３）（ａ）シリコン含有基が、芳香環にメタ位で結合
    している、 （ｂ）Ｒ＿３及びＲ＿４が各々メチル、かつ（ｃ）Ｚが
    −Ｃ（ＣＦ＿３）＿２− である請求項（１）記載の化合物。
  4. （４）以下の工程、 （ａ）ブロモアニリン化合物を選択されたシリル化試薬
    と反応させて下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｒ＿１及びＲ＿２は各々Ｃ＿１〜Ｃ＿４のア
    ルキル基である。） を有する化合物を生成させる工程、 （ｂ）（ａ）工程で生成された化合物をｎ−ブチルリチ
    ウムと反応させ、引き続き選択されたハロゲン化アルキ
    ルシラン化合物との反応により、式II▲数式、化学式、
    表等があります▼ 式II （ここで、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は前記で
    定義された通りである。） を有する化合物を生成させる工程、 （ｃ）（ｂ）工程で生成された式ｎの化合物を下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｚは前記で定義された通りである。）を有す
    るジアンヒドリド化合物と反応させて式III▲数式、化
    学式、表等があります▼ 式III （ここで、Ｒ＿３、Ｒ＿４及びＺは前記で定義された通
    りである。） を有する化合物を生成させる工程、 （ｄ）（ｃ）工程で生成された式IIIの化合物を加水分
    解して、式 I の化合物を生成させる工程を具備した、
    請求項（１）に記載された式 I の化合物の生成方法。
  5. （５）式II ▲数式、化学式、表等があります▼ 式II （ここで、Ｒ＿１及びＲ＿２は各々Ｃ＿１〜Ｃ＿４のア
    ルキル基であり、Ｒ＿３及びＲ＿４は各々Ｃ１〜Ｃ＿６
    のアルキル基、非置換のアリール基及び置換されたアリ
    ール基からなる群より選択される。） を有する化合物。
  6. （６）以下の工程、 （ａ）プロモアニリン化合物を選択されたシリル化試薬
    と反応させて下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｒ＿１及びＲ＿は前記で定義された通りであ
    る。） を有する化合物を生成させる工程、 （ｂ）（ａ）工程で生成された化合物をｎ−ブチルリチ
    ウムと反応させ、引き続き選択されたハロゲン化アルキ
    ルシラン化合物との反応により、式IIを有する化合物を
    生成させる工程 を具備した、請求項（５）に記載された式IIの化合物の
    生成方法。
  7. （７）式III ▲数式、化学式、表等があります▼ 式III （ここで、Ｒ＿３及びＲ＿４は各々Ｃ＿１〜Ｃ＿６のア
    ルキル基、非置換のアリール基及び置換されたアリール
    基からなる群より選択され、Ｚは２価の基である。） を有する化合物。
  8. （８）以下の工程、 （ａ）プロモアニリン化合物を選択されたシリル化試薬
    と反応させて下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｒ＿１及びＲ＿２は各々Ｃ＿１〜Ｃ＿４のア
    ルキル基である。） を有する化合物を生成させる工程、 （ｂ）（ａ）工程で生成された化合物をｎ−ブチルリチ
    ウムと反応させ、引き続き選択されたハロゲン化アルキ
    ルシラン化合物との反応により、式II▲数式、化学式、
    表等があります▼ 式II （ここで、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４は前記で
    定義された通りである。） を有する化合物を生成させる工程、 （ｃ）（ｂ）工程で生成された式IIの化合物を下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｚは前記で定義された通りである。）を有す
    るジアンヒドリド化合物と反応させて式IIIを有する化
    合物を生成させる工程 を具備した、請求項（７）に記載された式IIIの化合の
    生成方法。
  9. （９）請求項（１）に記載された式 I の化合物の単独
    重合により生成されるポリマー。
  10. （１０）請求項（１）に記載された式 I の化合物を下
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ｒ＿３及びＲ＿４は前記で定義された通り、
    Ｘ＝ハロゲン、ＯＨ、ＯＲ、ＮＲＲ、又はウレイド、 Ｒ＝Ｃ＿１〜Ｃ＿６のアルキル基、置換されたアリール
    基、及び非置換のアリール基からなる群より選択される
    、 Ｙ＝−Ｏ−又は ▲数式、化学式、表等があります▼ ｐ＝１〜１０） を有する化合物と反応させることにより生成されるコポ
    リマー。
  11. （１１）基板の表面に、請求項（１０）に記載されたコ
    ポリマーの層を形成する工程を具備した、酸素からなる
    プラズマによる浸食から基板表面を保護するための方法
    。
JP2154174A 1989-06-14 1990-06-14 芳香族ポリイミドシラノール、その前駆物質及びそのポリマー Expired - Lifetime JPH0747596B2 (ja)

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US07/365,868 US5021585A (en) 1989-06-14 1989-06-14 Aromatic polyimide silanol compounds, precursors and polymers thereof
US365,868 1989-06-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0368587A true JPH0368587A (ja) 1991-03-25
JPH0747596B2 JPH0747596B2 (ja) 1995-05-24

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