JPH0365530A - 被膜の形成方法 - Google Patents
被膜の形成方法Info
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- C03C2217/475—Inorganic materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、陰極線管や液晶表示装置等ガラス面に文字、
画像を表示させる表示装置において、表示面における外
光反射の低減、帯電防止等に好適な被膜の形成方法に関
する。
画像を表示させる表示装置において、表示面における外
光反射の低減、帯電防止等に好適な被膜の形成方法に関
する。
ガラス板の外光反射を低減させる方法としては、米国特
許第２９９０６６２号記載のようにガラス板の表面をケ
イフッ化水素酸のシリカ過飽和水溶液を用いたエツチン
グを施すことにより該表面に微細凹凸を形成する方法、
あるいは、真空蒸着等により屈折率の異なる透明な２種
以上の膜を一定の厚さに積層して多層干渉膜を形成する
方法などがある。
許第２９９０６６２号記載のようにガラス板の表面をケ
イフッ化水素酸のシリカ過飽和水溶液を用いたエツチン
グを施すことにより該表面に微細凹凸を形成する方法、
あるいは、真空蒸着等により屈折率の異なる透明な２種
以上の膜を一定の厚さに積層して多層干渉膜を形成する
方法などがある。
しかし、前者のエツチングにより形成した微細凹凸面は
耐摩耗強度が小さく、表面を擦ることによって凹凸が崩
れ、反射防止性能が低下するために、陰極線管等の表示
面の反射防止面としては好適でない。また、後者の多層
干渉膜を形成する方法は、真空蒸着等を用いるため、比
較的大規模な装置を必要とすることと、また、膜厚の制
御も厳密に行う必要があることから、既に主たる製造工
程を終了した陰極線管のパネル面あるいは液晶表示装置
のガラス板面に形成することは、量産的に不向きである
。
耐摩耗強度が小さく、表面を擦ることによって凹凸が崩
れ、反射防止性能が低下するために、陰極線管等の表示
面の反射防止面としては好適でない。また、後者の多層
干渉膜を形成する方法は、真空蒸着等を用いるため、比
較的大規模な装置を必要とすることと、また、膜厚の制
御も厳密に行う必要があることから、既に主たる製造工
程を終了した陰極線管のパネル面あるいは液晶表示装置
のガラス板面に形成することは、量産的に不向きである
。
以上のような問題点を解決するため、本願発明者等は、
先に、主製造工程を終了した表示装置のガラス表示面に
施工するのに適した、丈夫で汚れ難い反射防止膜を形成
する方法について提案を行った（特願昭６２−２４５２
２、特願昭６２−２３２１６３）。この方法は、粒子径
５へ〜１０００ｎｍの範囲内に整粒したＭｇＦ２，５ｉ
０２等の微粒子を添加した５ｉ（ＯＲ）４（Ｒはアルキ
ル基）のアルコール溶液を被被覆面に塗布し、焼成して
微粒子の凹凸による反射防止膜を形成する方法である。
先に、主製造工程を終了した表示装置のガラス表示面に
施工するのに適した、丈夫で汚れ難い反射防止膜を形成
する方法について提案を行った（特願昭６２−２４５２
２、特願昭６２−２３２１６３）。この方法は、粒子径
５へ〜１０００ｎｍの範囲内に整粒したＭｇＦ２，５ｉ
０２等の微粒子を添加した５ｉ（ＯＲ）４（Ｒはアルキ
ル基）のアルコール溶液を被被覆面に塗布し、焼成して
微粒子の凹凸による反射防止膜を形成する方法である。
しかしながら、上記の方法による場合、塗布（スピン塗
布）の際に微粒子の凝集による放射状の筋ムラが発生し
たり、膜厚の不均一による干渉ムラが発生しやすい傾向
があるため、外観上の欠点がなく、量産性の良い反射防
止膜を形成することが難しかった。また帯電防止膜の形
成においても同様な問題の発生があった。
布）の際に微粒子の凝集による放射状の筋ムラが発生し
たり、膜厚の不均一による干渉ムラが発生しやすい傾向
があるため、外観上の欠点がなく、量産性の良い反射防
止膜を形成することが難しかった。また帯電防止膜の形
成においても同様な問題の発生があった。
本発明の目的は、上記のような従来技術の有していた課
題を解決して、主製造工程を終了した表示装置のガラス
表示面への施工に適した、丈夫で汚れ難く、外観上の欠
点の少ない被膜の形成方法を提供することにある。
題を解決して、主製造工程を終了した表示装置のガラス
表示面への施工に適した、丈夫で汚れ難く、外観上の欠
点の少ない被膜の形成方法を提供することにある。
上記目的は、粒子径を５与〜１１０００ｎの範囲内で整
粒したＭｇＦ２．Ｓｉｎ、等の微粒子を添加した５ｉ（
ＯＲ）、溶液を被被覆表示面にスピン塗布する時に、該
表示面を１０°〜６０°（水平状態をＯｏとした時の角
度）傾斜させた状態でスピン塗布を行い、その後例えば
１００〜２００℃の温度で焼成して−Ｍｇ Ｆｚ ＋
５１０２等の微粒子が該表示面に接着した、表面に微細
な凹凸を有する膜を形成することによって達成すること
ができる。
粒したＭｇＦ２．Ｓｉｎ、等の微粒子を添加した５ｉ（
ＯＲ）、溶液を被被覆表示面にスピン塗布する時に、該
表示面を１０°〜６０°（水平状態をＯｏとした時の角
度）傾斜させた状態でスピン塗布を行い、その後例えば
１００〜２００℃の温度で焼成して−Ｍｇ Ｆｚ ＋
５１０２等の微粒子が該表示面に接着した、表面に微細
な凹凸を有する膜を形成することによって達成すること
ができる。
ＭｇＦ２．Ｓｉｎ、等の微粒子を添加した５Ｌ（ＯＲ）
４溶液をガラス表示面にスピン塗布する時、該表示面を
水平（角度０”）とした状態でスピン塗布する場合には
、遠心力が回転方向に対して直角方向に働き、液が回転
方向に対して直角方向に移動するため、凝集した微粒子
の移動軌跡が放射状の筋ムラを形成する。また、回転中
心部の膜厚が薄く形成され、周辺部の膜厚が、風圧の影
響によって、厚く形成されるため、干渉ムラが発生しや
すい。これらの状況は溶液の組成、粘度および装置の風
圧の影響等を修正することによっである程度改善するこ
とができるが、十分ではない。
４溶液をガラス表示面にスピン塗布する時、該表示面を
水平（角度０”）とした状態でスピン塗布する場合には
、遠心力が回転方向に対して直角方向に働き、液が回転
方向に対して直角方向に移動するため、凝集した微粒子
の移動軌跡が放射状の筋ムラを形成する。また、回転中
心部の膜厚が薄く形成され、周辺部の膜厚が、風圧の影
響によって、厚く形成されるため、干渉ムラが発生しや
すい。これらの状況は溶液の組成、粘度および装置の風
圧の影響等を修正することによっである程度改善するこ
とができるが、十分ではない。
これに対して、表示面を１０°〜６０’の角度に傾斜さ
せた状態で溶液のスピン塗布を行う場合には、液の流れ
について、遠心力の他に重力が働き、回転方向に直角で
ない方向にも液の移動が行われるため、放射状筋ムラの
発生がなく、また、厚さの均一な膜が形成されることに
なる。
せた状態で溶液のスピン塗布を行う場合には、液の流れ
について、遠心力の他に重力が働き、回転方向に直角で
ない方向にも液の移動が行われるため、放射状筋ムラの
発生がなく、また、厚さの均一な膜が形成されることに
なる。
なお、ＭｇＦｚｇ ５ｉＯｚ微粒子塗布による反射防止
効果は（イ）表面凹凸面での拡散反射による防眩効果、
（ロ）塗布層の屈折率が下地ガラスの屈折率よりも小さ
いことによる反射低減効果および（ハ〉空気の屈折率を
１．ＭｇＦ２およびＳｉｎ、の屈折率をそれぞれ１．３
８，１．４８とした時の塗布層の屈折率がＭｇＦ２．Ｓ
ｉｏ２の体積分率に従って連続的に変化することによる
反射低減効果によるものである。
効果は（イ）表面凹凸面での拡散反射による防眩効果、
（ロ）塗布層の屈折率が下地ガラスの屈折率よりも小さ
いことによる反射低減効果および（ハ〉空気の屈折率を
１．ＭｇＦ２およびＳｉｎ、の屈折率をそれぞれ１．３
８，１．４８とした時の塗布層の屈折率がＭｇＦ２．Ｓ
ｉｏ２の体積分率に従って連続的に変化することによる
反射低減効果によるものである。
また、Ｓｉ（ＯＲ）４は焼成時に分解してＳｉｏ２膜を
形成するが、該形成膜はガラス面に強く接着する性質を
有しているので、ＭｇＦ２．Ｓｉｎ２微粒子被覆の際に
接着剤として作用し、強固な被覆を形成することができ
る。
形成するが、該形成膜はガラス面に強く接着する性質を
有しているので、ＭｇＦ２．Ｓｉｎ２微粒子被覆の際に
接着剤として作用し、強固な被覆を形成することができ
る。
以下、本発明を反射防止膜の形成方法の例について、実
施例および比較例によって具体的に説明する。なお、こ
こでは陰極線管を対象とした場合について説明する。
施例および比較例によって具体的に説明する。なお、こ
こでは陰極線管を対象とした場合について説明する。
まず、陰極線管のフェース面を通常の方法によって清浄
化した後スピン塗布機に設置し、第１表実施例１〜３お
よび比較例に示した塗布条件（塗布液組成、スピン塗布
時のフェース面傾斜角度、スピン塗布回転数）で塗布を
行った。なお、このとき、塗布は、第１図に示す如く陰
極線管１をスピン塗布機（図示せず）に設置後、第１表
に示す角度θに傾斜させ１回転し、その状態でフェース
面１ａに塗布液を肩下するという手順によって行った。
化した後スピン塗布機に設置し、第１表実施例１〜３お
よび比較例に示した塗布条件（塗布液組成、スピン塗布
時のフェース面傾斜角度、スピン塗布回転数）で塗布を
行った。なお、このとき、塗布は、第１図に示す如く陰
極線管１をスピン塗布機（図示せず）に設置後、第１表
に示す角度θに傾斜させ１回転し、その状態でフェース
面１ａに塗布液を肩下するという手順によって行った。
塗布終了後、１５０℃３０分間の焼成を行い、
完成品とした。
（ν人１分も）
得られた反射防止膜の膜特性は第１表の膜特性の欄に示
した通りで、塗布時の傾斜角θを１０゜〜６０’の範囲
とした実施例１〜３の膜は、いずれも、放射状の筋ムラ
は認められず、干渉ムラも認められないか認められても
極めて僅かであり。
した通りで、塗布時の傾斜角θを１０゜〜６０’の範囲
とした実施例１〜３の膜は、いずれも、放射状の筋ムラ
は認められず、干渉ムラも認められないか認められても
極めて僅かであり。
また反射率についても優れた特性を有していることが知
られた。これに対して、傾斜角度θをＯ。
られた。これに対して、傾斜角度θをＯ。
とした比較例の場合、反射率特性は実施例１〜３の場合
とほぼ同等であるが、放射状の筋ムラおよび強い干渉ム
ラが認められ、また、回転中心部が膜薄となる状態が観
察された。このことは傾斜角度Ｏを６０°をこえて行っ
た場合も同様な欠点となった。
とほぼ同等であるが、放射状の筋ムラおよび強い干渉ム
ラが認められ、また、回転中心部が膜薄となる状態が観
察された。このことは傾斜角度Ｏを６０°をこえて行っ
た場合も同様な欠点となった。
なお、上記実施例においては、反射防止膜の形成につい
て説明したが１本願はこれに限定されるものではなく、
また被塗工面を予め傾斜、回転させた状態で溶液を滴下
するという手順について説明したが、水平・回転の状態
で溶液を滴下し、溶液が乾燥しないうちにすばやく傾斜
させても同等の結果が得られる。
て説明したが１本願はこれに限定されるものではなく、
また被塗工面を予め傾斜、回転させた状態で溶液を滴下
するという手順について説明したが、水平・回転の状態
で溶液を滴下し、溶液が乾燥しないうちにすばやく傾斜
させても同等の結果が得られる。
さらに塗布時の回転数としては２００ｒ、ｐ、ｍ。
に限定されるものではなく、溶液の粘度、形成する膜厚
等をもとに決定すればよい。
等をもとに決定すればよい。
以上述べてきたように、表示装置表示面の反射防止膜等
の被膜の形成方法を本発明提示の形成方法とすることに
よって、従来技術の有していた課題を解決して、主要製
造工程の終了した表示装置の表示面に適用でき、しかも
、放射状筋ムラ、干渉ムラ等の欠点の発生を大幅に改善
した、丈夫でしかも十分な反射防止効果等を有する被膜
を形成することのできる形成方法を提供することができ
た。
の被膜の形成方法を本発明提示の形成方法とすることに
よって、従来技術の有していた課題を解決して、主要製
造工程の終了した表示装置の表示面に適用でき、しかも
、放射状筋ムラ、干渉ムラ等の欠点の発生を大幅に改善
した、丈夫でしかも十分な反射防止効果等を有する被膜
を形成することのできる形成方法を提供することができ
た。
第１図は本発明を説明するための陰極線管の正面図であ
る。
る。
Claims (1)
- １、Ｒをアルキル基とするＳｉ（ＯＲ）＿４のアルコー
ル溶液に粒子径５〜１０００ｎｍの範囲内に整粒された
ＭｇＦ＿２、ＳｉＯ＿２等の微粒子を添加した液をガラ
ス表面にスピン塗布した後焼成することからなる被膜の
形成方法において、ガラス表面を１０°〜６０°の範囲
の角度に傾斜した状態で上記液をスピン塗布することを
特徴とする被膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1199403A JPH0365530A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1199403A JPH0365530A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 被膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0365530A true JPH0365530A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16407213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1199403A Pending JPH0365530A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 被膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0365530A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05113505A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | 低反射膜付陰極線管およびその製造方法 |
| WO1997048107A1 (fr) * | 1996-06-11 | 1997-12-18 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Film conducteur transparent, film conducteur transparent de reflexion faible, et affichage |
| JP2009134148A (ja) * | 2007-11-30 | 2009-06-18 | First:Kk | 段差対応パネルスタンド |
| JPWO2012070658A1 (ja) * | 2010-11-26 | 2014-05-19 | 国立大学法人東北大学 | 高分子薄膜、高分子積層膜の製造方法、その製造方法で製造された高分子薄膜、および高分子積層膜 |
| CN114873933A (zh) * | 2022-06-13 | 2022-08-09 | 深圳市东方硅源科技有限公司 | 防眩光ag玻璃及其制备工艺 |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP1199403A patent/JPH0365530A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO1997048107A1 (fr) * | 1996-06-11 | 1997-12-18 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Film conducteur transparent, film conducteur transparent de reflexion faible, et affichage |
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| CN114873933A (zh) * | 2022-06-13 | 2022-08-09 | 深圳市东方硅源科技有限公司 | 防眩光ag玻璃及其制备工艺 |
| CN114873933B (zh) * | 2022-06-13 | 2024-01-16 | 深圳市东方硅源科技有限公司 | 防眩光ag玻璃及其制备工艺 |
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