JP2005202379A - 反射防止部材 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、導電性高屈折率層として酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層を用い、さらに、ゾルゲル法により積層される低屈折率層が反射率の再現性、ムラ等の表面性、及び導電性が良好な２層構成の反射防止部材を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも片面に、高屈折率層（第１層）を積層し、さらに第１層の上に低屈折率層（第２層）を積層した反射防止部材であって、前記高屈折率層（第１層）が、酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層であり、前記低屈折率層（第２層）がゾルゲル法により積層される層であって、その加水分解による重合に用いる触媒が硝酸または過塩素酸であることを特徴とする反射防止部材である。
【選択図】図１

Description

本発明は、ディスプレイの表示画面表面に設けられた偏光フィルム、あるいはディスプレイ上に適用される反射防止部材に関するものである。

多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において反射され、反射像が表示光と混合し表示画像を見にくくしている。特に、オフィスのＯＡ化に伴い、コンピュータを使用する頻度が増し、ディスプレイと相対していることが長時間化した。これにより反射像等による表示品質の低下は、目の疲労などを引き起こす要因とも考えられる。

携帯電話やカーナビゲーションシステムの普及により、室外でディスプレイを使用する機会が増える傾向にあり、また、液晶ディスプレイの省電力化に伴い、ディスプレイ表面の反射光を低減し、表示画像を明確することが要求されてきている。

これらの要求を満たす為に、ディスプレイの表面に、反射防止の光学理論に基づいて、金属酸化物などからなる高屈折率層と低屈折率層を積層させたフィルム、あるいは無機または有機フッ素化合物などの低屈折率層を積層させたフィルムを貼りつけて可視光の反射防止を行ってきた。

これらの反射防止部材は、第一に可視光の反射率低減、第二に表示品質を向上させるためにディスプレイの色味を大きく変化させることは望ましくないため着色が少ないこと、第三にディスプレイの最前面に設置されるので、汚れ付着防止（防汚性）があること、第四に加工工程上及び使用中の帯電による塵付着防止の観点から、導電性があることが求められている。

前述の有機フッ素化合物などの低屈折率層のみを積層させた反射防止部材は層数が少ないため、低コストにて、且つ、フッ素成分により汚れが付着しにくい反射防止部材ができるが、低屈折率のフィルム基材では十分な反射防止性能を持たせることが難しくなる。また、低屈折率層に導電性を付与させる為に、導電微粒子や４級アミン等を加えることにより達成できるが、低屈折率層の屈折率を上げてしまったり、また、機械強度を下げることにつながり、実質的に反射防止と導電性を同時に付与することは難しい。単層よりも反射率を低減させ、且つ、最もコストの低い反射防止膜は基材から高屈折率層、低屈折率層と順次積層させた２層になる。この場合、最表面層の低屈折率層として光学的に理想的な無機化合物は、フッ化マグネシウムに代表されるフッ素化合物が挙げられる。しかしながら、フッ素化合物をもちいると反射防止部材の密着性等の機械強度が十分でないためにほとんど用いられていない。強度を持たせる為に、フッ素化合物の代わりに酸化ケイ素が用いると機械強度は満足するも、屈折率がフッ素化合物よりも高い為に色味が青くなり、ディスプレイの表示品質を低下させる。加えてディスプレイの最表面に用いる場合には最表面に汚れ防止等を目的とした防汚層が必要となる。そこで、基材に導電性を持つ高屈折率層、その上に、防汚性を有する有機化合物を出発物質とする低屈折率層を作製させることにより、これらの問題は回避される。

ここで、基材と低屈折率層の間に作製される高屈折率層は、加工工程上及び使用中の帯電による塵付着防止の観点から、導電性があり、かつ、可視光において透明であることが求めらる。酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、及び酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物は優れた導電性を有し、導電性をもつ高屈折率層として有用である。これらをそのままＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法や、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）等によりそのまま高屈折率層として作製するか、若しくは微粒子を有機化合物に分散させた層を作製することにより達成される。

さらに、低屈折率層は低い屈折率・防汚性・機械強度の理由から、有機化合物を出発物質として作製される層が望ましい。一般的には、例えば、下記一般式（１）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、下記一般式（２）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体等により低屈折率層が挙げられる。

Ｓｉ（ＯＲ）_４ （１）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’_ｍＳｉ（ＯＲ）_４−ｍ （２）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
ここで、一般式（１）及び（２）のような化合物からの最も簡易的な重合・共重合・積層方法として、ゾルゲル法と呼ばれる方法が広く用いられている。ゾルゲル法における重合体を用いて共重合体を作製する方法は、加水分解によって作製され、その加水分解の触媒として酸またはアルカリが用いられる。さらに重合の均一性から鑑みて、酸触媒を用いることが望ましく、酸解離定数の大きな酸が任意に用いられるが、一般的には安全性、臭気性、着色性、沸点等の理由から塩酸が広く用いられている。

しかしながら、第２層の作製において触媒として広く用いられる塩酸を用いると高屈折率層である酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ、または酸化インジウム−酸化セリウムが溶解し、可視光の反射率の制御が難しくなり、さらに、溶解によるムラ等面性が悪くなり、さらに導電性の低下まで引き起こすおそれがあった。

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであって、導電性高屈折率層として酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層を用い、さらに、ゾルゲル法により積層される低屈折率層が反射率の再現性、ムラ等の表面性、及び導電性が良好な２層構成の反射防止部材を提供する。

上記課題を解決する為に、請求項１にかかる発明は、基材の少なくとも片面に、高屈折率層（第１層）を積層し、さらに第１層の上に低屈折率層（第２層）を積層した反射防止部材であって、前記高屈折率層（第１層）が、酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層であり、前記低屈折率層（第２層）がゾルゲル法により積層される層であって、その加水分解による重合に用いる触媒が硝酸または過塩素酸であることを特徴とする反射防止部材である。

請求項２にかかる発明は、前記低屈折率層（第２層）が、下記一般式（１）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、下記一般式（２）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体を含むマトリックス中に、平均粒径０．５〜２００ｎｍ、屈折率１．１０〜１．３４の低屈折シリカ微粒子を含むことを特徴とする請求項１記載の反射防止部材である。

Ｓｉ（ＯＲ）_４ （１）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’_ｍＳｉ（ＯＲ）_４−ｍ （２）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）

請求項３にかかる発明は、前記低屈折率層（第２層）が、組成物Ａと組成物Ｂに加え、さらに下記一般式（３）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｃを含むことを特徴とする請求項１または２記載の反射防止部材である。

Ｒ’’_ｎＳｉ（ＯＲ）_４−ｎ （３）
（但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）

請求項４にかかる発明は、前記高屈折率層（第１層）の厚みが６〜３０ｎｍの範囲であり、かつ前記低屈折率層（第２層）の厚みが１００〜１４０ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止部材である。

請求項５にかかる発明は、前記高屈折率層（第１層）が導電性を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止部材である。

請求項６にかかる発明は、前記組成物Ａと前記組成物Ｂのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ＝１：０．０１〜１、または、前記組成物Ａと前記組成物Ｂと前記組成物Ｃのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ：前記組成物Ｃ＝１：０．０１〜０．４：０．０１〜０．６であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止部材である。

請求項７にかかる発明は、前記低屈折シリカ微粒子の添加量が、５〜９５ｗｔ％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止部材である。

請求項８にかかる発明は、前記基材と第１層との間に硬質有機樹脂層が設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止部材である。

本発明は、基材上の少なくとも片面に導電性高屈折率層として酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層を積層し、該導電性高屈折率層上に、低屈折シリカ微粒子を含む低屈折率コーティング剤からなる低屈折率層をゾルゲル法により形成する反射防止部材において、該ゾルゲル法における重合触媒として硝酸または過塩素酸を用いることにより以下のような利点がある。ロットによる視感反射率Ｙの変動が少ないことから反射率の再現性が良く、色差が少ない為ムラ等が見えにくくの良好な面性を有し、さらに、導電性が良好な２層構成の反射防止部材になる。

以下、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明するが、これに限るものではない。

図１は、本発明の反射防止部材の一例を示した断面図である。図１の反射防止部材１は、フィルム基材２、硬質有機樹脂層３、反射防止層４から構成されている。更に反射防止層４は、高屈折率層（第１層）４ａと、低屈折率層（第２層）４ｂからなる。

本発明における基材２は、ガラスや種々の有機高分子からなる基材を挙げることができる。一般的に、ポリエチレンレテフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリル（ＰＭＭＡ）、ナイロン（Ｎｙ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロール（ＴＡＣ）等のプラスチックフィルムが汎用されている。

これらのフィルム基材２を構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させた物も使用することができる。

また、このフィルム基材２としては、単層、あるいは、複数の有機高分子を積層したものでもよい。また、その厚みは特に限定されるものではないが、５０〜２００μｍが好ましい。

本発明では、硬質有機樹脂層３を設けることができる。硬質有機樹脂層３としては、基材２の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、基材がフィルム基材である場合の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制することができ、反射防止部材の機械的強度が改善できる。

硬質有機樹脂層３は、電離放射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使用でき、特に紫外線硬化型であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系や、有機珪素系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂等が好適である。

硬質有機樹脂層３は、基材１と屈折率が同等若しくは近似していることがより好ましい。膜厚は３〜２０μｍの範囲であれば十分な機械強度が発現するが、透明性、塗工精度、取り扱いから、より望ましくは５〜１５μｍの範囲が好ましい。

本発明における反射防止層４は、高屈折率層（第１層）４ａと低屈折率層（第２層）４ｂを、順次、所定の膜厚で積層させることにより機能を発現するものである。単層構成の反射防止部材よりも反射率が低く、且つ、反射防止部材自身の着色を少なく抑えるには、高屈折率層（第１層）の光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９０〜２．１５の範囲であり、かつ低屈折率層（第２層）の光の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．４０の範囲にあるとよい。また、高屈折率層（第１層）の厚みが６〜３０ｎｍの範囲であり、より望ましくは６〜１２ｎｍの範囲である。さらに、低屈折率層（第２層）の厚みは１００〜１４０ｎｍの範囲内であり、より望ましくは１１０〜１３０ｎｍの範囲であるとよい。

本発明の高屈折率層（第１層）を形成する材料としては、高屈折率であり、可視光において透明、かつ優れた導電性を有すると言う観点から、酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層がよい。

前記高屈折率層（第１層）の形成方法としては、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等のＰＶＤ法並びにＣＶＤ法の様な公知の方法が挙げられる。

前記高屈折率層（第１層）の膜厚は、６〜３０ｎｍの範囲であり、より望ましくは６〜１２ｎｍの範囲であり、これよりも薄くなると、帯電防止及び反射防止の機能を発現しなく、また、これよりも厚くなるとフィルムに着色が生じる。

また、必要であれば、第１層の形成前に基材若しくは硬質有機樹脂層に密着性向上させる前処理を行ってもよい。前処理方法として、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング法、アルカリ処理法、酸処理法、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等を挙げることができる。特に、アルカリ処理が有効である。アルカリ処理法に使用するアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、それらに更にアルコール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水溶液等を挙げることができる。アルカリ処理の条件は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合、０．１〜１０Ｎの濃度の水溶液として使用することが望ましく、更には、１〜２Ｎの濃度が望ましい。また、アルカリ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましくは、２０〜８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．０１〜１０時間、好ましくは、０．１〜１時間である。

本発明の低屈折率層（第２層）は、一般式（１）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、下記一般式（２）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体を含むマトリックス中に、平均粒径０．５〜２００ｎｍ、屈折率１．１０〜１．３４の低屈折シリカ微粒子を含むことを特徴とする。また低屈折率層（第２層）は、防汚性を有することを特徴とする。

Ｓｉ（ＯＲ）_４ （１）
（但し、Ｒはアルキル基である）
Ｒ’_ｍＳｉ（ＯＲ）_４−ｍ （２）
（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
また、組成物Ａと組成物Ｂに加え、さらに下記一般式（３）で示される有機珪素化合物を加えても良い。

Ｒ’’_ｎＳｉ（ＯＲ）_４−ｎ （３）
（但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）
前記組成物Ａに用いられる一般式（１）Ｓｉ（ＯＲ）_４（但し、Ｒはアルキル基である）で表される有機珪素化合物としては、Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_４、Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｓｉ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｓｉ〔ＯＣＨ（ＣＨ_３）_２〕_４、Ｓｉ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。

前記組成物Ｂに用いられる一般式（２）Ｒ’_ｍＳｉ（ＯＲ）_４−ｍ（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）で表される有機珪素化合物としては、ＣＦ_３（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３ＣＦ_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_６（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_８（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_９（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３、ＣＦ_３（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３ＣＦ_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_６（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_８（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_９（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。

前記組成物Ｃに用いられる一般式（３）Ｒ’’_ｎＳｉ（ＯＲ）_４−ｎ（但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）で表される有機珪素化合物としては、ビニル基含有珪素化合物〔ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等〕、アミノ基含有珪素化合物〔Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン等〕、エポキシ基含有珪素化合物〔３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等〕、クロル基含有珪素化合物〔３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン等〕、メタクリロキシ基含有珪素化合物〔３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、アクリロキシ基含有珪素化合物〔３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、イソシアナート基含有珪素化合物〔３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等〕等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。

本発明における前記一般式（１）と、一般式（２）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体を用いて共重合体を作製する方法、又は一般式（１）と一般式（２）に、さらに一般式（３）で表される有機珪素化合物、若しくはその重合体を用いて共重合体を作製する方法は、ゾルゲル（ｓｏｌ−ｇｅｌ）法であり、加水分解によって作製するにあたっての触媒は硝酸若しくは過塩素酸である。前記硝酸または過塩素酸を用いることによって、下地に当たる酸化インジウム、酸化インジウムー酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウムー酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層に対する酸による溶解が最小限に押さえられ、結果、反射率の再現性、ムラ等の表面性、及び導電性が良好な反射防止部材を得ることができる。

前記組成物Ａと前記組成物Ｂのモル比は、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ＝１：０．０１〜１の範囲内であることが好ましい。また、さらに組成物Ｃを含む場合、前記組成物Ａと前記組成物Ｂと前記組成物Ｃのモル比は、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ：前記組成物Ｃ＝１：０．０１〜０．４：０．０１〜０．６であることが好ましい。

前記組成物Ｂがこの範囲より少ないと防汚性が低下し、多いと機械強度が弱くなる。また、前記組成物Ｃがこの範囲より少ないと密着性が低下し、多いと機械強度が弱くなる。

前記の有機珪素化合物から成るマトリックス中に、屈折率が１．１０〜１．３４である低屈折シリカ微粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。低屈折シリカ微粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｎｍの範囲内であれは良い。

この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、低屈折シリカ微粒子が凝集しやすくなってしまう。

前記コーティング溶液は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２―メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。

前記低屈折率コーティング剤は、ウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により表面処理を行ったハードコート層上に塗工される。塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、さらに加熱を行い塗膜を硬化させる。

本発明について、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限るものではない。
＜基材及び第１層の調整＞
基材としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を用い、それぞれライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（共栄社製）８０重量部と光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバガイギー製）５重量部をメチルエチルケトン中に混合溶解し、バーコート法によりおよそ１０μｍ塗工し、オーブンにて溶媒除去後、超高圧水銀ランプにより発生した紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量にて照射し硬化させ、ＴＡＣ基材上に硬質有機樹脂層を作製した。

前記フィルムをそれぞれ、真空槽にいれ、１０−３Ｐａまで排気し、１００ｍＬ／ｍｉｎの流量にてＡｒガスを該真空槽に導入し、圧力を１．０Ｐａに調整した。酸化インジウム−酸化スズをターゲットとして、ターゲットに電圧を印加してスパッタリングにより、該硬質有機樹脂層上に５５０ｎｍにおける屈折率が１．９９の酸化インジウム−酸化スズ層を８ｎｍの膜厚にて成膜し、第１層とした。
＜実施例１＞
低屈折率層（第２層）の組成物ＡとしてＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４を８９ｍｏｌ％、組成物ＢとしてＣＦ_３（ＣＦ_２）_７（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を５ｍｏｌ％、組成物ＣとしてＯＣＮ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を１ｍｏｌ％で混合したマトリックスに対して、平均粒径６５ｎｍ、屈折率１．３２の低屈折シリカ微粒子を５０ｗｔ％添加し、さらに１．０Ｎ−ＨＮＯ３を６０ｗｔ％加えて触媒に用いた低屈折率コーティング剤を作製した。上記酸化インジウム−酸化スズ層の上にスピンコート法を用いてコーティング溶液を１２０ｎｍの膜厚にて塗布し、１２０℃で１分間乾燥を行うことにより、第２層を形成し、反射防止部材を作製した。得られた反射防止部材について後述の光学特性及び電気特性の評価を行った。

以下に、本発明の比較例について説明する。
＜比較例１＞
低屈折率層（第２層）の組成物ＡとしてＳｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４を８９ｍｏｌ％、組成物ＢとしてＣＦ_３（ＣＦ_２）_７（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を５ｍｏｌ％、組成物ＣとしてＯＣＮ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を１ｍｏｌ％で混合したマトリックスに対して、平均粒径６５ｎｍ、屈折率１．３２の低屈折シリカ微粒子を５０ｗｔ％添加し、さらに１．０Ｎ−ＨＣｌを６０ｗｔ％加えて触媒に用いた低屈折率コーティング剤を作製した。上記酸化インジウム−酸化スズ層の上にスピンコート法を用いてコーティング溶液を１２０ｎｍの膜厚にて塗布し、１２０℃で１分間乾燥を行うことにより、第２層を形成し、反射防止部材を作製した。得られた反射防止部材について後述の光学特性及び電気特性の評価を行った。
＜光学特性＞
（反射率測定）
実施例１及び比較例１で得られた反射防止部材のフィルム面をサンドペーパーでこすり、艶消しの黒色塗料を塗布した後、入射角５゜にて積層面の可視光における反射率（Ｃ光源、２度視野）をそれぞれ５点ずつ測定し、視感反射率Ｙ（ＪＩＳ Ｚ ８７２２に準拠）及び色度（Ｌ＊ａ＊ｂ＊；ＪＩＳ Ｚ ８７２９に準拠）を求めた。そして、任意の１つの試料からの色差ΔＥ＊ａｂ（ＪＩＳ Ｚ ８７３０に準拠）を計算した。
＜電気特性＞
実施例１及び比較例１で得られた反射防止部材の積層面をそれぞれ５点ずつＪＩＳ Ｋ６９１１に準拠し、測定した。

上記で得られた試料について、上記の評価（測定）方法に基づいて分光特性及び電気特性を評価した。表１に分光特性評価結果、並びに表２に電気特性評価結果を示す。

本発明の反射防止部材の構成の一例を示す断面図である。

符号の説明

１ 反射防止部材
２ 基材
３ 硬質有機樹脂層
４ 反射防止層
４ａ 導電性を有する高屈折率である第１層
４ｂ 防汚性を有する低屈折率である第２層

Claims (8)

1. 基材の少なくとも片面に、高屈折率層（第１層）を積層し、さらに第１層の上に低屈折率層（第２層）を積層した反射防止部材であって、前記高屈折率層（第１層）が、酸化インジウム、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム−酸化セリウム、若しくはこれらの混合物を含有する層であり、前記低屈折率層（第２層）がゾルゲル法により積層される層であって、その加水分解による重合に用いる触媒が硝酸または過塩素酸であることを特徴とする反射防止部材。
2. 前記低屈折率層（第２層）が、下記一般式（１）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ａと、下記一般式（２）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｂの共重合体を含むマトリックス中に、平均粒径０．５〜２００ｎｍ、屈折率１．１０〜１．３４の低屈折シリカ微粒子を含むことを特徴とする請求項１記載の反射防止部材。
   Ｓｉ（ＯＲ）_４ （１）
   （但し、Ｒはアルキル基である）
   Ｒ’_ｍＳｉ（ＯＲ）_４−ｍ （２）
   （但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）
3. 前記低屈折率層（第２層）が、組成物Ａと組成物Ｂに加え、さらに下記一般式（３）で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Ｃを含むことを特徴とする請求項１または２記載の反射防止部材。
   Ｒ’’_ｎＳｉ（ＯＲ）_４−ｎ （３）
   （但し、Ｒ’’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）
4. 前記高屈折率層（第１層）の厚みが６〜３０ｎｍの範囲であり、かつ前記低屈折率層（第２層）の厚みが１００〜１４０ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止部材。
5. 前記高屈折率層（第１層）が導電性を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止部材。
6. 前記組成物Ａと前記組成物Ｂのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ＝１：０．０１〜１、または、前記組成物Ａと前記組成物Ｂと前記組成物Ｃのモル比が、前記組成物Ａ：前記組成物Ｂ：前記組成物Ｃ＝１：０．０１〜０．４：０．０１〜０．６であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止部材。
7. 前記低屈折シリカ微粒子の添加量が、５〜９５ｗｔ％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止部材。
8. 前記基材と第１層との間に硬質有機樹脂層が設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止部材。

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