JP2015169765A - 表示装置用前面板およびその製造方法 - Google Patents
表示装置用前面板およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015169765A JP2015169765A JP2014043852A JP2014043852A JP2015169765A JP 2015169765 A JP2015169765 A JP 2015169765A JP 2014043852 A JP2014043852 A JP 2014043852A JP 2014043852 A JP2014043852 A JP 2014043852A JP 2015169765 A JP2015169765 A JP 2015169765A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inorganic
- layer
- refractive index
- organic layer
- inorganic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
反射防止フィルムは前面板に貼付するだけで反射防止性を付与することができる。しかしながら、反射防止フィルムにおいては透明基材および粘着層または接着層が存在するため、光学設計が複雑になる。また、透明基材にはうねりがあるため、平坦性が低下し、表示品位が劣化する。また、反射防止フィルムを貼付する際に異物や気泡の混入等の不具合が生じ、歩留りが低下する。また、透明基材および粘着層または接着層によって、透過率が低下する。
しかしながら、無機膜では低屈折率化が難しく、高屈折率層および低屈折率層を交互に複数積層するのが一般的である。この場合、ドライプロセスにより複数層の無機膜を積層するため、生産性が低下し、製造コストがかかる。特に、大面積の表示装置に用いられる前面板の場合には設備が大掛かりになりコストが増大する。また、ドライプロセスの場合には、反射防止層の厚みの面内分布にばらつきが生じ、反射防止性の均一性が損なわれる。
しかしながら、有機膜は無機膜と比較して膜強度が低く、耐擦傷性が低下するという問題がある。
しかしながら、反射防止性および耐擦傷性にはさらなる改善の余地がある。
本発明の表示装置用前面板は、透明基板と、上記透明基板上に直に形成され、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有する無機層と、上記無機層上に形成され、上記無機層よりも屈折率が低い有機層とを有することを特徴とするものである。
図1は、本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、表示装置用前面板1は、透明基板2と、透明基板2上に直に形成され、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有する無機層3と、無機層3上に形成され、無機層3よりも屈折率が低い有機層4とを有している。
本発明における無機層は、上記透明基板上に直に形成され、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有するものであり、有機層よりも屈折率が高い高屈折率層である。
無機酸化物、無機酸化窒化物および無機窒化物には屈折率が高いものもあるが、例えば無機層の組成、結晶性、結晶構造、膜質等を調整することにより無機層の屈折率を制御することができる。具体的には、無機層の結晶性が低くなると、屈折率が低くなる傾向がある。また、無機酸化物または無機酸化窒化物から構成される無機層の場合、無機層中の酸素含有量が多くなると、屈折率が低くなる傾向がある。
具体的には、無機層をPVD法やCVD法等のドライプロセスで形成する場合には、原料の組成、成膜時の酸素分圧や出力、基板温度、加熱温度等を調整することにより無機層の屈折率を制御することができる。より具体的には、成膜時の出力を低くすると、無機層の結晶性が低くなり、屈折率が低くなる傾向がある。基板温度を低くすると、無機層の結晶性が低くなり、屈折率が低くなる傾向がある。加熱温度を低くすると、無機層の結晶性が低くなり、屈折率が低くなる傾向がある。また、無機酸化物または無機酸化窒化物から構成される無機層の場合、原料の酸素含有量を多くすると、無機層中の酸素含有量が多くなり、屈折率が低くなる傾向がある。成膜時の酸素分圧を高くすると、無機層中の酸素含有量が多くなり、屈折率が低くなる傾向がある。
また、無機微粒子が分散媒中に分散している分散液を用いて無機層をウェットプロセスで形成する場合には、例えば無機微粒子の組成、加熱温度等を調整することにより無機層の屈折率を制御することができる。より具体的には、加熱温度を低くすると、無機層の結晶性が低くなり、屈折率が低くなる傾向がある。また、無機酸化物または無機酸化窒化物から構成される無機層の場合、無機微粒子の酸素含有量を多くすると、無機層中の酸素含有量が多くなり、屈折率が低くなる傾向がある。
中でも、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、五酸化ニオブ、酸化窒化ケイ素、窒化ケイ素が好ましい。ITOおよびIZOは汎用材料であることから、既存の設備を利用することができ、製造コストを低減することができるからである。
なお、スパッタリング法による無機層の形成方法については、「B.表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
本発明における有機層は、無機層よりも屈折率が低い低屈折率層である。
表面処理された微粒子としては、例えば特開2013−142817号公報、特開2008−9348号公報に記載されているものを挙げることができる。
ここで、微粒子の平均粒径は、有機層の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真により観察される粒子20個の平均値をいう。
また、有機層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば分散助剤、耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤等が挙げられる。
なお、有機層の形成方法については、「B.表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
本発明においては、図2に例示するように、無機層3と有機層4との間に、無機層3よりも屈折率が低く、有機層4よりも屈折率が高い第2有機層5が形成されていてもよい。第2有機層は、無機層よりも屈折率が低く、有機層よりも屈折率が高い中屈折率層である。無機層、第2有機層および有機層が順に積層されていることにより、反射防止性を高めることができる。そのため、無機層の屈折率が比較的高い場合であっても、高い反射防止性を得ることができる。
このような第2微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム(ZrO2、屈折率:2.10)、酸化アンチモン(Sb2O5、屈折率:1.79〜2.04)、アンチモン錫酸化物(ATO、屈折率:1.75〜2.05)、インジウム錫酸化物(ITO、屈折率:1.95〜2.00)、燐錫化合物(PTO、屈折率:1.75〜1.85)、β−Al2O5(屈折率:1.63〜1.76)、γ−Al2O5(屈折率:1.63〜1.76)、チタン酸バリウム(BaTiO3、屈折率:2.4)、酸化チタン(TiO2、屈折率:2.3〜2.7)、酸化セリウム(CeO2、屈折率:1.95〜2.20)、酸化錫(SnO2、屈折率:2.00)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO、屈折率:1.90〜2.00)、ガリウム亜鉛酸化物(GZO、屈折率:1.90〜2.00)、アンチモン酸亜鉛(ZnSb2O6、屈折率:1.9〜2.0)、酸化亜鉛(ZnO、屈折率:1.90)、酸化イットリウム(Y2O3、屈折率:1.87)、酸化ジルコニウム(ZrO2、屈折率:2.0)等が挙げられる。
表面処理された第2微粒子としては、例えば特開2013−142817号公報に記載されているものを挙げることができる。
ここで、第2微粒子の平均粒径は、第2有機層の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真により観察される粒子20個の平均値をいう。
なお、第2有機層の形成方法については、「B.表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
本発明の表示装置用前面板は、表示装置の前面に配置された際に表示装置を保護するものである。そのため、本発明における透明基板は、高い剛性を有する剛性基板である。透明基板の剛性は、表示装置を保護することが可能な程度であればよい。
圧縮応力層の厚みは特に限定されることはなく、要求特性に応じて適宜設定される。例えば、ガラスにある程度の強度を付与しながら、ガラスの切断性および生産性も確保される必要がある場合、圧縮応力層の厚みは約5μm〜10μmの範囲内に設定される。また、ガラスにさらに高い強度を付与することが求められる場合、圧縮応力層の厚みは、約10μm〜35μmの範囲内に設定されてもよく、35μm以上に設定されてもよい。圧縮応力層の厚みが約10μm〜35μmの範囲内である場合は、ガラスはある程度の切断性を有している。一方、圧縮応力層の厚みが35μm以上である場合は、仮にダイヤモンドカッター等の高性能の切断手段が用いられる場合であっても、ガラスを切断することが困難になる。そのため、圧縮応力層の厚みを35μm以上にすることが求められる場合、所望の形状に切り出された後のガラスにイオン交換処理を施すことにより、ガラスの表面に圧縮応力層が形成されることが好ましい。
このように表面に圧縮応力層が形成されたガラスの例としては、コーニング社のGorilla Glass(ゴリラガラス)や、旭硝子社のDragontrail(ドラゴントレイル)等が挙げられる。
本発明の表示装置用前面板は、例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機EL表示装置、無機EL表示装置、電子ペーパー等の表示装置に用いることができる。また、本発明の表示装置用前面板の用途としては、例えば携帯電話、タブレット端末、パーソナルコンピューター、テレビ、デジタルサイネージ、ウェアラブル端末等を挙げることができる。中でも、有機層はウェットプロセスにより形成可能であるため、大面積であっても均一な層を容易に形成することができ、製造コストを低減することができるので、本発明の表示装置用前面板は大面積の表示装置に好適である。特に、テレビが好ましく、大型テレビがより好ましい。
本発明の表示装置用前面板は、後述の表示装置用前面板の製造方法により製造されたものであることが好ましい。すなわち、無機層はスパッタリング法により形成されたものであることが好ましく、有機層および第2有機層はウェットプロセスで形成されたものであることが好ましい。
本発明の表示装置用前面板の製造方法は、透明基板上に直に、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有する無機層をスパッタリング法により形成する無機層形成工程と、上記無機層上に有機層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、上記無機層よりも屈折率が低い有機層を形成する有機層形成工程とを有することを特徴とする。
図3(a)〜(b)は本発明の表示装置用前面板の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図3(a)に示すように、透明基板2上に直に、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有する無機層3をスパッタリング法により形成する無機層形成工程を行う。次に、図3(b)に示すように、無機層3上に有機層用硬化性樹脂組成物を塗布し、紫外線照射により硬化させて有機層4を形成する有機層形成工程を行う。
本発明においては、透明基板上に直に、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有する無機層をスパッタリング法により形成する無機層形成工程を行う。
これらの無機層の屈折率を調整する方法は、単独で適用してもよく、複数を組み合わせてもよい。
また、スパッタガスとしては、酸素の他に、例えばアルゴン、ヘリウム、窒素等が挙げられるが、通常はアルゴンが用いられる。
成膜時の圧力としては、上記の酸素分圧を満たすことができれば特に限定されるものではない。圧力を高くすると酸素分圧が高くなり無機層の屈折率が低くなる傾向がある。一方で圧力が高すぎると成膜速度が遅くなる。
本発明においては、上記無機層上に有機層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、上記無機層よりも屈折率が低い有機層を形成する有機層形成工程を行う。
有機層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
本発明においては、上記有機層上に第2有機層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、上記有機層よりも屈折率が低い第2有機層を形成する第2有機層形成工程を行ってもよい。
なお、第2有機層のその他の点については、上記「A.表示装置用前面板」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
本実施例において使用した材料は下記の通りである。
・透明基板:強化ガラス 旭硝子社製Dragontrail サイズ100mm×100mm 厚み0.7mm
・有機層用硬化性樹脂組成物A:JSR社製TU2205 屈折率1.35
・有機層用硬化性樹脂組成物B:JSR社製KZ6719 屈折率1.65
まず、透明基板上に無機層としてITOを厚み1000Åで成膜した。ITO膜の屈折率は波長550nmにおいて1.70であった。次に、無機層上に有機層用硬化性樹脂組成物Aを所定の膜厚になるようにスピンコーティングした後、N2雰囲気下で露光照度30mWの高圧水銀ランプを用いて30秒間露光し、230℃で20分間乾燥し、前面板を作製した。
実施例1において、無機層としてIZOを厚み1000Åで成膜したこと以外は、実施例1と同様にして前面板を作製した。IZO膜の屈折率は波長550nmにおいて1.73であった。
実施例1において、無機層としてSiNを厚み1000Åで成膜したこと以外は、実施例1と同様にして前面板を作製した。SiN膜の屈折率は波長550nmにおいて1.60であった。
まず、透明基板上に無機層としてITOを厚み1000Åで成膜した。この際、実施例1よりも成膜時の酸素分圧を低くした。ITO膜の屈折率は波長550nmにおいて1.85であった。次に、無機層上に有機層用硬化性樹脂組成物Bを所定の膜厚になるようにスピンコーティングした後、N2雰囲気下で露光照度30mWの高圧水銀ランプを用いて30秒間露光し、230℃で20分間乾燥し、前面板を作製した。
実施例4において、無機層としてNb2O5を厚み1000Åで成膜したこと以外は、実施例4と同様にして前面板を作製した。Nb2O5膜の屈折率は波長550nmにおいて2.35であった。
実施例1において、無機層の代わりに、有機層用硬化性樹脂組成物Bを用いて高屈折率層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして前面板を作製した。
(耐擦傷性)
得られた前面板について、各荷重の条件で#0000のスチールウールを10往復させた後の傷つき有無を目視評価した。
◎:荷重600g以上で傷つき無し
○:荷重400g以上で傷つき無し
×:荷重400g未満で傷つき有り
得られた前面板について、無機層および有機層の形成面とは反対側の面に黒テープを貼付し、コニカミノルタ社製の分光測色計CM−2500dで反射率を測定した。この際、光源にはD65を用い、正反射光を含むSCI方式で測定を行った。
◎:反射率 0.5%未満
○:反射率 1.0%未満
×:反射率 1.0%以上
2 … 透明基板
3 … 無機層
4 … 有機層
5 … 第2有機層
Claims (4)
- 透明基板と、
前記透明基板上に直に形成され、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有する無機層と、
前記無機層上に形成され、前記無機層よりも屈折率が低い有機層と
を有することを特徴とする表示装置用前面板。 - 前記無機層がインジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、五酸化ニオブ、酸化窒化ケイ素または窒化ケイ素を含有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置用前面板。
- 前記無機層と前記有機層との間に、前記無機層よりも屈折率が低く、前記有機層よりも屈折率が高い第2有機層が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表示装置用前面板。
- 透明基板上に直に、無機酸化物、無機酸化窒化物または無機窒化物を含有する無機層をスパッタリング法により形成する無機層形成工程と、
前記無機層上に有機層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて、前記無機層よりも屈折率が低い有機層を形成する有機層形成工程と
を有することを特徴とする表示装置用前面板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014043852A JP2015169765A (ja) | 2014-03-06 | 2014-03-06 | 表示装置用前面板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014043852A JP2015169765A (ja) | 2014-03-06 | 2014-03-06 | 表示装置用前面板およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015169765A true JP2015169765A (ja) | 2015-09-28 |
Family
ID=54202562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014043852A Pending JP2015169765A (ja) | 2014-03-06 | 2014-03-06 | 表示装置用前面板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015169765A (ja) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004252437A (ja) * | 2003-01-29 | 2004-09-09 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止部材 |
JP2005099757A (ja) * | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Asahi Glass Co Ltd | 反射防止膜 |
JP2005114876A (ja) * | 2003-10-03 | 2005-04-28 | Mitsui Chemicals Inc | 反射防止フィルム |
JP2005148501A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Mitsui Chemicals Inc | 導電性積層体および、それを用いたディスプレイ用光学フィルター、電磁波シールドならびに建築用窓材 |
JP2005202379A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止部材 |
JP2006126628A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Dainippon Printing Co Ltd | リバーシブル型光学用部材 |
JP2008132768A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Toyobo Co Ltd | 積層フィルム及びそれを得るための接着性改質基材フィルム |
JP2012088683A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示用前面板、表示用前面板の製造方法、表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2012189986A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示用前面板および表示装置 |
-
2014
- 2014-03-06 JP JP2014043852A patent/JP2015169765A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004252437A (ja) * | 2003-01-29 | 2004-09-09 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止部材 |
JP2005099757A (ja) * | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Asahi Glass Co Ltd | 反射防止膜 |
JP2005114876A (ja) * | 2003-10-03 | 2005-04-28 | Mitsui Chemicals Inc | 反射防止フィルム |
JP2005148501A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Mitsui Chemicals Inc | 導電性積層体および、それを用いたディスプレイ用光学フィルター、電磁波シールドならびに建築用窓材 |
JP2005202379A (ja) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止部材 |
JP2006126628A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Dainippon Printing Co Ltd | リバーシブル型光学用部材 |
JP2008132768A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Toyobo Co Ltd | 積層フィルム及びそれを得るための接着性改質基材フィルム |
JP2012088683A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示用前面板、表示用前面板の製造方法、表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2012189986A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示用前面板および表示装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3323609B1 (en) | Optical laminate | |
KR101415466B1 (ko) | 투명 도전성 필름 | |
KR101812962B1 (ko) | 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치 | |
KR101555411B1 (ko) | 투명 도전성 필름 및 그 용도 | |
KR102315469B1 (ko) | 하드 코트 필름, 광학 적층체 및 화상 표시 장치 | |
JP7057864B2 (ja) | 反射防止フィルムおよび画像表示装置 | |
US20140300979A1 (en) | Half mirror front plate | |
JP2017049469A (ja) | 表示装置用前面保護板および表示装置 | |
KR102027593B1 (ko) | 화상 표시 장치, 방현성 필름 및 방현성 필름의 제조 방법 | |
JP2016045230A (ja) | 表示装置用前面板およびその製造方法 | |
TWI643740B (zh) | 光學積層體及其製造方法 | |
CN108093651A (zh) | 触摸传感器及其制造方法 | |
KR101489475B1 (ko) | 나노 무기 소재 결정 박막이 기판 표면에 형성된 적층 구조 | |
TW202306757A (zh) | 光學積層體及圖像顯示裝置 | |
JP2015169765A (ja) | 表示装置用前面板およびその製造方法 | |
JP6337454B2 (ja) | 表示装置用前面板およびその製造方法 | |
JP6550705B2 (ja) | 表示装置用前面板の多面付け基板 | |
KR102350469B1 (ko) | 눈부심 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 | |
JP6394176B2 (ja) | 表示装置用前面板およびその製造方法 | |
JP2016190010A (ja) | 前面板用ガラス板、およびそれを用いた遊技機 | |
JP2017042989A (ja) | 光学積層体 | |
KR101989916B1 (ko) | 인덱스매칭 필름 | |
JP6561573B2 (ja) | 反射防止積層体およびその製造方法 | |
JP6136376B2 (ja) | 色調補正フィルム及びこれを用いた透明導電性フィルム | |
JP2015208987A (ja) | 色調補正フィルム及びこれを用いた透明導電性フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170816 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170822 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180227 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20181120 |