CN110058330A - 一种炫彩光学膜及其制备方法和应用结构 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种炫彩光学膜及其制备方法和应用结构，由于所述有机薄膜层的折射率可以做的更小，从而有机薄膜层和无机薄膜层有更大的折射率之差，从而使得所述炫彩光学膜可以以较少的无机薄膜层和有机薄膜层的层数即可实现良好的炫彩效果和光泽度，并且由于涂层组的膜层数较少，有利于提升炫彩光学膜的制备效率，降低炫彩光学膜的整体制备难度和制备成本。另外，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以选择多种方式制备，例如可以大面积制备涂层的卷对卷工艺等，有利于进一步降低炫彩光学膜的整体制备难度和制备成本。进一步的，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以加入彩色染料、变色染料或其他功能性染料，有利于进一步提升炫彩光学膜的色彩效果。
Description
技术领域
本申请涉及光学膜制备技术领域，更具体地说，涉及一种炫彩光学膜及其制备方法和应用结构。
背景技术
炫彩光学膜，是一种具有视角依赖炫彩效果以及金属光泽的光学膜；即炫彩光学膜在不同视角的情况下，会呈现出不同的色彩或金属光泽效果，给用户带来了更加丰富的视觉效果。因此炫彩光学膜被广泛应用于家用电器、汽车及电子等行业领域。
近年来随着注塑表面装饰(In-Mold Decoration，IMD)技术的发展以及消费电子产品对外观设计要求的提高，对炫彩光学膜的性能也提出了更高的要求。
传统的炫彩光学膜通过有机薄膜染色、油墨印刷、真空沉积较厚无机膜层等工艺来获得不同的色彩或金属光泽的呈现效果，但传统染色和油墨印刷工艺整体呈现的色彩单一，传统真空沉积较厚无机膜层工艺的生产效率极其低下，难以满足下游产品对色彩效果和规模化生产的要求。
发明内容
为解决上述技术问题，本申请提供了一种炫彩光学膜及其制备方法和应用结构，以实现规模化生产以较少堆叠膜层即可实现较好的炫彩效果和光泽度的目的。
为实现上述技术目的，本申请实施例提供了如下技术方案：
一种炫彩光学膜，包括：
基材；
设置于基材表面的涂层组，所述涂层组包括N层无机薄膜层和M层有机薄膜层，且所述无机薄膜层和有机薄膜层交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；
所述有机薄膜层的折射率小于所述无机薄膜层的折射率。
可选的，所述有机薄膜层与无机薄膜层的折射率的差值的取值范围为0.2-1.5。
可选的，所述有机薄膜层的折射率小于或等于1.6。
可选的，所述有机薄膜层为经过多孔处理的有机薄膜层；
经过多孔处理的有机薄膜层中具有通孔和/或凹槽和/或发泡结构，且经过多孔处理的有机薄膜层的折射率小于或等于1.3。
可选的，所述有机薄膜层中还掺杂有彩色染料、变色染料或其他功能性染料。
可选的，所述有机薄膜层的厚度的取值范围为0.02-3μm。
可选的，还包括：
设置于所述涂层组背离所述基材一侧表面的油墨层。
一种炫彩光学膜的制备方法，包括：
基材；
在所述基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层无机薄膜层和M层有机薄膜层，且所述无机薄膜层和有机薄膜层交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；
所述有机薄膜层的折射率小于所述无机薄膜层的折射率。
可选的，所述有机薄膜层的制备方法包括：
采用可以实现“卷到卷”生产的湿法涂布工艺或真空镀膜工艺制备所述有机薄膜层。
可选的，所述真空镀膜工艺为真空蒸镀工艺；
所述湿法涂布工艺为精密线棒涂布工艺、微凹辊涂布工艺、狭缝挤出涂布工艺等。
可选的，所述有机薄膜层的制备方法包括：
采用湿法涂布工艺或真空镀膜工艺等“卷到卷”生产工艺制备所述有机薄膜层；
经过如模板技术、纳米刻蚀技术、纳米印迹技术、溶剂挥发诱导技术或自组装技术多孔处理工艺制备所述有机薄膜层。
一种炫彩光学膜的应用结构，包括：
待贴附结构；
作为所述待贴附结构的装饰层和/或功能层的至少一层如上述任一项所述的炫彩光学膜。
从上述技术方案可以看出，本申请实施例提供了一种炫彩光学膜及其制备方法和应用结构，其中，所述炫彩光学膜的涂层组由交替设置的无机薄膜层和有机薄膜层形成，且所述有机薄膜层的折射率小于所述无机薄膜层的折射率；由于所述有机薄膜层的折射率可以做的更小，从而有机薄膜层和无机薄膜层有更大的折射率之差，以使所述涂层组可以以较少的无机薄膜层和有机薄膜层的层数即可实现良好的炫彩效果和光泽度，并且由于所述涂层组的膜层数较少，有利于提升炫彩光学膜的制备效率。
另外，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以选择多种方式制备，例如可以大面积制备涂层的卷对卷工艺等，有利于降低炫彩光学膜的整体制备难度和制备成本。
进一步的，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以加入彩色染料、变色染料或其他功能性染料，有利于进一步提升炫彩光学膜的色彩效果。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请的一个实施例提供的一种炫彩光学膜的结构示意图；
图2为本申请的另一个实施例提供的一种炫彩光学膜的结构示意图；
图3-图10为本申请的一些具体实施例提供的炫彩光学膜的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
正如背景技术所述，现有技术中的炫彩光学膜整体需要大量的膜层堆叠来实现炫彩效果，制备难度大，制备成本高。具体地，下面以两种现有技术中的炫彩光学膜结构进行说明。
现有技术中的一种炫彩光学膜是一类具有金属光泽的聚酯薄膜，该薄膜利用纳米层压技术将几百层具有不同厚度和折射率的聚酯交替层压成膜，利用光线的干涉原理呈现不同的反射色彩和金属光泽，并且色彩具有视角依赖的变化特性。但是该炫彩光学膜需要几百层膜层压形成，对生产工艺要求较高，生产过程复杂，面对市场多样化的需求，难以进行灵活调整以呈现不同的色彩个性。
现有技术中的另一种炫彩光学膜通过真空镀膜法形成，这种炫彩光学膜主要是将两种或两种以上不同种类的无机靶材分别通过真空镀膜(如真空蒸镀或磁控溅射等)的方法在基材上依次堆积成膜后形成多层层叠的炫彩光学膜。但是由于相邻的膜层的折射率相差较小，仍然需要较多的膜层才能够实现呈现出炫彩效果的要求，并且生产过程中成膜速度很慢，导致生产炫彩光学膜的周期长、生产效率低且生产成本高。
有鉴于此，本申请实施例提供了一种炫彩光学膜，如图1所示，包括：
基材10；
设置于基材10表面的涂层组20，所述涂层组20包括N层无机薄膜层21和M层有机薄膜层22，且所述无机薄膜层21和有机薄膜层22交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；
所述有机薄膜层22的折射率小于所述无机薄膜层21的折射率。
在本实施例提供的炫彩光学膜中，所述涂层组20由N层无机薄膜层21和M层有机薄膜层22形成，其中有机薄膜层22为有机薄膜层，且所述有机薄膜层22的折射率小于所述无机薄膜层21的折射率。
需要说明的是，所述炫彩光学膜中涂层组20中的无机薄膜层可以是同一种无机材料形成的薄膜层(即所述涂层组20中的无机薄膜层为同一种无机薄膜层)，也可以是不同的无机材料形成的薄膜层(即所述涂层组20中的无机薄膜层为多种不同的无机薄膜层)。
同样的，所述炫彩光学膜中涂层组20中的有机薄膜层可以是同一种有机材料形成的薄膜层(即所述涂层组20中的有机薄膜层为同一种有机薄膜层)，也可以是不同的有机材料形成的薄膜层(即所述涂层组20中的有机薄膜层为多种不同的有机薄膜层)。
由于所述涂层组20中包括有机薄膜层，而有机薄膜层的折射率可以相较于无机薄膜层而言做的更加接近于1，可以增加有机薄膜层22和无机薄膜层21的折射率之差，以使所述涂层组可以以较少的无机薄膜层和有机薄膜层的层数即可实现良好的炫彩效果和光泽度，并且由于所述涂层组的膜层数较少，有利于提升炫彩光学膜的制备效率。
另外，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以选择多种方式制备，例如可以大面积制备涂层的卷对卷工艺等，有利于降低炫彩光学膜的整体制备难度和制备成本。
进一步的，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以加入彩色染料、变色染料或其他功能性染料，有利于进一步提升炫彩光学膜的色彩效果。
本实施例提供的炫彩光学膜具有金属光泽，并且可以选择性的反射可见光同时呈现视角依赖的炫彩效果，为一种光学装饰膜，广泛应用于电子、家电、汽车、交通、建筑、包装和防伪等领域。
经过实验发现，本申请实施例提供的炫彩光学膜即使不使用任何金属材料作为反射层，同样可以达到较高的反射率(50％以上)，因此，在将本申请实施例提供的炫彩光学膜应用于采用5G通信标准的通信设备上时，可以有效地减少对设备终端的信号屏蔽。
下面对本申请实施例提供的炫彩光学膜各个膜层的可选种类和光学参数进行简单说明。
对于基材10而言，可选的，所述基材10可以是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基材、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)基材、热塑性聚氨酯(TPU)基材、聚碳酸酯(PC)基材、聚甲基丙烯酸酯(PMMA)基材和聚烯烃(PO)基材中的一种或任意几种。即所述基材10可以为单独成分的基材10，也可以为多种成分混合或不同成分薄膜叠加形成的基材10。本申请对所述基材10的具体种类并不做限定，具体视实际情况而定。
可选的，所述基材10的厚度的取值范围为10-500μm，透光率的取值优选大于50％，雾度优选小于10％，以提升所述基材10的光线透过率。本申请对所述基材10的透光率和雾度的具体取值并不做限定，具体视实际情况而定。
在本申请的一些实施例中，所述基材10优选为表面经过电晕或底涂处理的基材10，以提高基材10的附着力。本申请对电晕或底涂处理的具体工艺种类并不做限定，具体视实际情况而定。
对于无机薄膜层21而言，无机薄膜层21的折射率的取值一般需要大于1.6。所述无机薄膜层21可以为ZnO(氧化锌)、Al2O3(三氧化二铝)、Sb2O3(三氧化二锑)、TiO2(二氧化钛)、ZrO2(氧化锆)等无机半导体材料中的一种或两种及两种以上的复合材料形成的无机膜层。所述无机薄膜层21可以直接附着在基材10表面，也可以附着在有机薄膜层22上。所述无机薄膜层21的厚度的取值范围可选为0.01-1μm。在本申请的一个优选实施例中，所述无机薄膜层21的厚度的取值范围可选为0.03-0.5μm。在本申请的另一个优选实施例中，所述无机薄膜层21的厚度的取值范围可选为0.04-0.1μm。所述无机薄膜层21可以通过真空镀膜(如真空蒸镀和磁控溅射等)或湿法涂布等工艺制备形成。
对于有机薄膜层22而言，所述有机薄膜层22的厚度的取值范围为0.02-3μm。所述有机薄膜层与无机薄膜层的折射率的差值的取值范围为0.2-1.5，所述有机薄膜层22为有机高分子薄膜层。所述有机薄膜层22的折射率小于1.6。更优选地，所述有机薄膜层22为经过多孔处理的有机薄膜层22，经过多孔处理的有机薄膜层22中具有通孔和/或凹槽和/或发泡结构，且经过多孔处理的有机薄膜层的折射率小于或等于1.3，更加接近1，增加了与无机薄膜层21的差距，从而可以利用数量更少的膜层实现炫彩效果，有利于降低整体膜层厚度和炫彩光学膜的制备工序和制备难度，提升炫彩光学膜的制备效率。
并且需要说明的是，无机薄膜层和有机薄膜层折射率差距越大，所述炫彩光学膜的炫彩效果和光泽度越好。
为了进一步增加炫彩光学膜的显示效果，可选的，所述有机薄膜层中还掺杂有彩色染料、变色材料或其他功能性染料。
与无机薄膜层21的设置位置类似的，所述有机薄膜层22可以直接附着在基材10上，还可以附着在无机薄膜层21上。
所述有机薄膜层22可以通过连续精密的卷对卷(Roll-To-Roll)工艺实现制备，与现有的炫彩光学膜相比极大地提高了生产效率，并且极大地降低了炫彩光学膜的生产成本。此外，由于所述涂层组20中包括有机薄膜层，因此所述炫彩光学膜的附着力较无机涂层更强。
另外，有机薄膜层和无机薄膜层相互叠加形成的炫彩光学膜可以大幅度提高整个膜层的柔韧性，较高的柔韧性有利于炫彩光学膜的后续加工，扩宽其应用场景，提高其适用性。
进一步的，可以通过真空镀膜法和湿法涂布法来制备有机薄膜层22。其中，真空镀膜法优选真空蒸镀法；湿法涂布法可以采用精密线棒涂布法、微凹辊涂布法和狭缝挤出涂布法等，优选采用精密线棒涂布法和微凹辊涂布法，更优选采用精密线棒涂布法。用精密线棒涂布可以将制备的有机薄膜层的厚度控制在纳米级别，并且涂布精度可以达到±2％。这样就可以更加精准地通过调节有机薄膜层22或无机薄膜层21的膜层厚度对炫彩光学膜反射效果做自由设计和调整。
在上述实施例的基础上，在本申请的另一个实施例中，如图2所示，所述炫彩光学膜还包括：
设置于所述涂层组20背离所述基材10一侧表面的油墨层30。
所述油墨层30可以是普通的彩色油墨层，也可以是变色油墨层(例如遇水变色油墨层、感温变色油墨层和光学变色油墨层等)，还可以是磁性油墨层等功能性油墨层。所述油墨层30可以极大地丰富终端的呈现效果。
在上述实施例的基础上，在本申请的又一个实施例中，所述炫彩光学膜的结构参考图3-图10，在图3中，无机薄膜层21与所述基材10接触，所述涂层组20中包括两层无机薄膜层21和一层有机薄膜层22；
在图4中，有机薄膜层22与所述基材10接触，所述涂层组20中包括两层有机薄膜层22和一层无机薄膜层21；
在图5中，无机薄膜层21与所述基材10接触，所述涂层组20中包括两层无机薄膜层21和一层有机薄膜层22；在涂层组20背离所述基材10一侧还设置有油墨层30；
在图6中，有机薄膜层22与所述基材10接触，所述涂层组20中包括两层有机薄膜层22和一层无机薄膜层21；在涂层组20背离所述基材10一侧还设置有油墨层30；
在图7中，无机薄膜层21与所述基材10接触，所述涂层组20中包括M层无机薄膜层21和N层有机薄膜层22，M与N的差值为1，即除了基材10和最外层的无机薄膜层21外，其他膜层结构为交替设置的无机薄膜层21和有机薄膜层22，且无机薄膜层21和有机薄膜层22的膜层数量均为大于2的偶数；且大于2的无机薄膜层和有机薄膜层可以为不同的无机薄膜层和有机薄膜层；
在图8中，有机薄膜层22与所述基材10接触，所述涂层组20中包括M层无机薄膜层21和N层有机薄膜层22，N与M的差值为1，即除了基材10和最外层的有机薄膜层22外，其他膜层结构为交替设置的无机薄膜层21和有机薄膜层22，且无机薄膜层21和有机薄膜层22的膜层数量均为大于2的偶数；且大于2的无机薄膜层和有机薄膜层可以为不同的无机薄膜层和有机薄膜层；
在图9中，无机薄膜层21与所述基材10接触，所述涂层组20中包括M层无机薄膜层21和N层有机薄膜层22，M与N的差值为1，即除了基材10和最外层的无机薄膜层21外，其他膜层结构为交替设置的无机薄膜层21和有机薄膜层22，且无机薄膜层21和有机薄膜层22的膜层数量均为大于2的偶数；且大于2的无机薄膜层和有机薄膜层可以为不同的无机薄膜层和有机薄膜层；在涂层组20背离所述基材10一侧还设置有油墨层30；
在图10中，有机薄膜层22与所述基材10接触，所述涂层组20中包括M层无机薄膜层21和N层有机薄膜层22，N与M的差值为1，即除了基材10和最外层的有机薄膜层22外，其他膜层结构为交替设置的无机薄膜层21和有机薄膜层22，且无机薄膜层21和有机薄膜层22的膜层数量均为大于2的偶数；且大于2的无机薄膜层和有机薄膜层可以为不同的无机薄膜层和有机薄膜层；在涂层组20背离所述基材10一侧还设置有油墨层30。
下面以具体的实施例对本申请实施例提供的炫彩光学膜的性能进行说明，仍然参考图3，图3所示的炫彩光学膜的基材10为PET薄膜基材10，厚度为50μm，在基材10上真空蒸镀一层0.02μm的TiO2层作为无机薄膜层21，无机薄膜层21上通过精密涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，在有机薄膜层22上再真空蒸镀一层0.02μm的TiO2薄膜作为无机薄膜层21，最终得到的炫彩光学膜呈现蓝紫色光泽。
为了调节炫彩光学膜呈现不同的光泽，在50μm的PET薄膜基材10上真空蒸镀一层0.06μm的高折射率的TiO2层作为无机薄膜层21，无机薄膜层21上形成0.15μm厚度的有机薄膜层22，在有机薄膜层22上再真空蒸镀一层0.06μm的TiO2层作为无机薄膜层21，得到的炫彩光学膜呈现橙红色光泽。
继续参考图4，图4所示的炫彩光学膜的基材10为PET薄膜基材10，厚度为50μm，在基材10上精密涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，在有机薄膜层22上真空蒸镀一层0.04μm的高折射率TiO2层作为无机薄膜层21，在无机薄膜层21上再涂布一层0.15μm厚度的低折射率层，得到的炫彩光学膜呈现蓝紫色光泽。
为了使得炫彩光学膜呈现不同的光泽，通过调节有机薄膜层22的厚度为0.20μm，调节无机薄膜层21的厚度为0.08μm的方式，得到呈现橙红色光泽的炫彩光学膜。
继续参考图5，图5所示的炫彩光学膜在图3的基础上，在最上层叠加一层0.50μm的红色油墨层，得到的炫彩光学膜除了可以显示红色油墨的本色之外，还可以呈现紫色光泽。
为了使得炫彩光学膜呈现不同的光泽，通过调节无机薄膜层21的厚度为0.06μm的方式，得到了可以呈现红色油墨的本色之外，还可以呈现橙色光泽的炫彩光学膜。
继续参考图6，图6所示的炫彩光学膜在图4的基础上，在最上层叠加一层0.50μm的红色油墨层，得到的炫彩光学膜除了可以显示红色油墨的本色之外，还可以呈现紫色光泽。
为了使得炫彩光学膜呈现不同的光泽，通过调节有机薄膜层22的厚度为0.20μm，调节无机薄膜层21的厚度为0.08μm的方式，得到了可以呈现红色油墨的本色之外，还可以呈现橙色光泽的炫彩光学膜。
继续参考图7，图7所示的炫彩光学膜的基材10为50μm的PET薄膜基材10，基材10上真空蒸镀一层0.02μm的无机薄膜层21，无机薄膜层21上通过涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，然后重复上述步骤形成多组无机薄膜层21和有机薄膜层22交替设置的结构(重复次数为偶数，且重复次数大于或等于2)，最后在最外层再真空蒸镀一层0.02μm的无机薄膜层21，得到的炫彩光学膜呈现蓝色光泽。
为了使得炫彩光学膜呈现不同的光泽，通过调节无机薄膜层21的厚度为0.07μm的方式，得到呈现橙红色光泽的炫彩光学膜。
继续参考图8，图8所示的炫彩光学膜的基材10为50μm的PET薄膜基材10，基材10上涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，在有机薄膜层22上真空蒸镀一层0.03μm的无机薄膜层21，然后重复上述步骤形成多组无机薄膜层21和有机薄膜层22交替设置的结构(重复次数为偶数，且重复次数大于或等于2)，最后在最外层再涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，得到的炫彩光学膜呈现蓝紫色光泽。
为了使得炫彩光学膜呈现不同的光泽，通过调节有机薄膜层22的厚度为0.2μm，调节无机薄膜层21的厚度为0.06μm的方式，得到呈现橙红色光泽的炫彩光学膜。
继续参考图9，图9所示的炫彩光学膜的基材10为50μm的PET薄膜基材10，基材10上真空蒸镀一层0.02μm的无机薄膜层21，无机薄膜层21上通过涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，然后重复上述步骤形成多组无机薄膜层21和有机薄膜层22交替设置的结构(重复次数为偶数，且重复次数大于或等于2)，然后在最外层再真空蒸镀一层0.02μm的无机薄膜层21；最后在无机薄膜层21背离基材10一侧叠加0.50μm厚度的红色油墨层，得到的炫彩光学膜除了可以显示红色油墨的本色之外，还可以呈现紫色光泽。
为了使得炫彩光学膜呈现不同的光泽，通过调节无机薄膜层21的厚度为0.07μm的方式，得到除了可以显示红色油墨的本色之外，还可以呈现橙色光泽的炫彩光学膜。
继续参考图10，图10所示的炫彩光学膜的基材10为50μm的PET薄膜基材10，基材10上涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，在有机薄膜层22上真空蒸镀一层0.03μm的无机薄膜层21，然后重复上述步骤形成多组无机薄膜层21和有机薄膜层22交替设置的结构(重复次数为偶数，且重复次数大于或等于2)，然后在最外层再涂布低折射率的有机高分子光学涂液得到0.15μm厚度的有机薄膜层22，最后在有机薄膜层22背离基材10一侧叠加0.50μm的红色油墨层，得到的炫彩光学膜除了可以显示红色油墨的本色之外，还可以呈现紫色光泽。
为了使得炫彩光学膜呈现不同的光泽，通过调节有机薄膜层22的厚度为0.02μm，调节无机薄膜层21的厚度为0.06μm的方式，得到除了可以呈现红色油墨的本色之外，还可以呈现橙色光泽的炫彩光学膜。
下面对本申请实施例提供的炫彩光学膜的制备方法进行描述，下文描述的炫彩光学膜的制备方法可与上文描述的炫彩光学膜的相关内容对应参照。
相应的，本申请实施例还提供了一种炫彩光学膜的制备方法，包括：
基材；
在所述基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层无机薄膜层和M层有机薄膜层，且所述无机薄膜层和有机薄膜层交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；
所述有机薄膜层的折射率小于所述无机薄膜层的折射率。
可选的，所述有机薄膜层的制备方法包括：
采用可以实现“卷到卷”生产的湿法涂布工艺或真空镀膜工艺制备所述有机薄膜层。
可选的，所述真空镀膜工艺为真空蒸镀工艺；
所述湿法涂布工艺为精密线棒涂布工艺、微凹辊涂布工艺、狭缝挤出涂布工艺等。
可选的，所述有机薄膜层的制备方法包括：
采用湿法涂布工艺或真空镀膜工艺等“卷到卷”生产工艺制备所述有机薄膜层；
经过如模板技术、纳米刻蚀技术、纳米印迹技术、溶剂挥发诱导技术或自组装技术多孔处理工艺制备所述有机薄膜层。
相应的，本申请实施例还提供了一种炫彩光学膜的应用结构，包括：
待贴附结构；
作为所述待贴附结构的装饰层和/或功能层的至少一层如上述任一实施例所述的炫彩光学膜。
本实施例提供的炫彩光学膜的应用结构可应用于电子、家电、汽车、交通、建筑、装饰、包装和防伪中的一种。
综上所述，本申请实施例提供了一种炫彩光学膜及其制备方法和应用结构，其中，所述炫彩光学膜的涂层组由交替设置的无机薄膜层和有机薄膜层形成；由于所述有机薄膜层的折射率可以做的更小，从而有机薄膜层和无机薄膜层有更大的折射率之差，以使所述涂层组可以以较少的无机薄膜层和有机薄膜层的层数即可实现良好的炫彩效果和光泽度，并且由于所述涂层组的膜层数较少，有利于提升炫彩光学膜的制备效率。
另外，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以选择多种方式制备，例如可以大面积制备涂层的卷对卷工艺等，有利于降低炫彩光学膜的整体制备难度和制备成本。
进一步的，相较于无机薄膜层，有机薄膜层可以加入彩色染料、变色染料或其他功能性染料，有利于进一步提升炫彩光学膜的色彩效果。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (12)
1.一种炫彩光学膜，其特征在于，包括：
基材；
设置于基材表面的涂层组，所述涂层组包括N层无机薄膜层和M层有机薄膜层，且所述无机薄膜层和有机薄膜层交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；
所述有机薄膜层的折射率小于所述无机薄膜层的折射率。
2.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述有机薄膜层与无机薄膜层的折射率的差值的取值范围为0.2-1.5。
3.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述有机薄膜层的折射率小于或等于1.6。
4.根据权利要求3所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述有机薄膜层为经过多孔处理的有机薄膜层；
经过多孔处理的有机薄膜层中具有通孔和/或凹槽和/或发泡结构，且经过多孔处理的有机薄膜层的折射率小于或等于1.3。
5.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，所述有机薄膜层中还掺杂有彩色染料、变色染料或其他功能性染料。
6.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，所述有机薄膜层的厚度的取值范围为0.02-3μm。
7.根据权利要求1所述的炫彩光学膜，其特征在于，还包括：
设置于所述涂层组背离所述基材一侧表面的油墨层。
8.一种炫彩光学膜的制备方法，其特征在于，包括：
基材；
在所述基材表面形成涂层组，所述涂层组包括N层无机薄膜层和M层有机薄膜层，且所述无机薄膜层和有机薄膜层交替设置；M和N均为大于或等于1的整数；
所述有机薄膜层的折射率小于所述无机薄膜层的折射率。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述有机薄膜层的制备方法包括：
采用可以实现“卷到卷”生产的湿法涂布工艺或真空镀膜工艺制备所述有机薄膜层。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述真空镀膜工艺为真空蒸镀工艺；
所述湿法涂布工艺为精密线棒涂布工艺、微凹辊涂布工艺、狭缝挤出涂布工艺等。
11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述有机薄膜层的制备方法包括：
采用湿法涂布工艺或真空镀膜工艺等“卷到卷”生产工艺制备所述有机薄膜层；
经过如模板技术、纳米刻蚀技术、纳米印迹技术、溶剂挥发诱导技术或自组装技术多孔处理工艺制备所述有机薄膜层。
12.一种炫彩光学膜的应用结构，其特征在于，包括：
待贴附结构；
作为所述待贴附结构的装饰层和/或功能层的至少一层如权利要求1-7任一项所述的炫彩光学膜。
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