JPH0364477A

JPH0364477A - 常圧処理装置

Info

Publication number: JPH0364477A
Application number: JP1201650A
Authority: JP
Inventors: Yasuro Ikeda; 康郎池田
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1989-08-02
Filing date: 1989-08-02
Publication date: 1991-03-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は半導体装置の製造工程で用いられる常圧処理装
置に関する。

〔従来の技術〕

第３図に、従来のスルーザラオール形常圧処理装置の模
式断面図を示す。

第３図において、スルーザラオール形常圧処理装置は、
作業室１００（主としてクリーンルーム）と機械室を区
切るパーティション１０］にはめ込む形で設置され、作
業室１００（クリーンルーム側）に作業面を設けていた
。また、装置本体は被処理物３］１を装着する装着台３
０６と処理室３０７および装着台３０６から処理室３０
７に被処理物を搬送する搬送装置（図示せず）を一つの
筐体に納めた構造をしていた。被処理物３１１は、まず
作業者］０４によって装着台３０６の上に装着され、次
に搬送装置によって処理室３０７に搬送され処理室３０
７内で処理される。

装置内部はクリーンフィルター３０３や空調ファン３１
０からなる空気調和器（以下空調器という）３０２で塵
埃の無い層流か作られ、被処理物３１１への塵埃の付着
が防止されている。また、処理室３０７から有毒あるい
は危険なカスが漏洩する可能性があるため、装置内の空
気は、排気調整バルブ３０８の付いた排気管３０９から
強制排気される。

以上のように、従来のスルーザラオール形常圧処理装置
は、装置本体が、処理室を含む一つの箱形の筐体からな
る構造をしていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のスルーザラオール形常圧処理装置は、装
置本体か、処理室を含む一つの箱形の筐体からなる構造
をしていた為、以下のような問題点が発生していた。

第３図の例において、処理室３０７で行なう処理におい
て、シランやフォスフイン等の有毒カスや有機溶剤等を
使用するなと、安全性を重視し装置外部への刃ス漏洩を
防止しなければならない場合には、排気調節バルブ３０
８の開度を増加させ、装置内部の圧力を機械室の圧力に
比べて低く〈陽圧に）する必要がある。しかし、この様
に装置内部の圧力を機械室の圧力に比べて低くすると、
装置内部の圧力は作業室］００の圧力に比べても低くな
り、作業室１００から装置内に向かって空気の流れが生
ずる。特に、作業者１．０４が被処理物３１１を装着台
３０６に装着する際には、作業者１０４から発生する塵
埃か被処理物３１１に吹きかかる形となり、被処理物３
１１が塵埃で汚染される原因となる。

この様に作業者１０４から発生ずる塵埃によって被処理
物３］１が汚染されるのを防止するためには、第３図の
従来例とは逆に、装置内部の圧力を作業室の圧力に比べ
て高く（陽圧に）する必要がある。第４図は排気調節バ
ルブ３０８の開度を減少させ、装置内部の圧力を作業室
の圧力に比べて高く（陽圧に）した例である。この例で
は、装置内部から作業者１（Ｍに向かって、クリーンフ
ィルター３０３で濾過された清浄な空気の流れが生じる
ため、作業者１０４から発生する塵埃は被処理物３１１
に吹きかかることは無く、被処理物３１１が塵埃で汚染
されることは無い。しかし、処理室３０７から危険なガ
スが漏洩した場合、機械室たけてなく、作業室１００に
も漏洩し拡散する可能性かあり、安全上問題があるとい
う欠点があった以上のように、従来のスルーザラオール形常圧処理装置
は、装置本体が、処理室３０７を含む一つの箱形の筐体
からなる構造をしており、装置内部の圧力が一つの値に
決ってしまうため、作業者１０４から発生する塵埃によ
る被処理物汚染防止とガス漏洩防止とを両立できないと
いう欠点があった。

」二連した従来のスルーサラオール形常圧処理装置は、
装置本体が、処理室を含む一つの箱形の筐体からなる構
造をしており、装置内部の圧力が一つの値に決ってしま
うため、作業者から発生する塵埃による被処理物汚染防
止とガス漏洩防止とを両立てきないという欠点があるの
に対し、本発明は、装置を前室部と処理室部に分け、そ
の間ムこ開閉可能なドアを持つ隔壁を設け、前室部と処
理室部の圧力をそれぞれ独立に制御することにより、被
処理物を前室部の装着台に装着する時には、前室部の圧
力を作業室の圧力より高くする事により作業者から発生
ずる塵埃による被処理物汚染を防止し、被処理物を処理
室内で処理する時には、処理室部の圧力を装置外部の圧
力に比べて低くする事により、ガスの漏洩を防止する事
ができるようにしたものである。つまり、本発明によれ
ば、作業者から発生ずる塵埃による被処理物汚染防止と
、ガス漏洩防止とを両立てきるという相違点を有してい
る。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の常圧処理装置は、被処理物を装着するための装
着台が設けられかつドアを有する第１の隔壁により作業
面が区切られた前室部と、前記前室部に隣接しドアを有
する第２の隔壁により前室部と区切られた処理室部と、
前記前室部と処理室部にそれぞれ独立して設けられクリ
ーンフィルタを有する空気調和器と、前記前室部と処理
室部にそれぞれ独立して設けられ排気量調節器を有する
排気ダクトと、前記空気調和器の出力と前記排気ダク）
〜の排気量とを調節して前記前室部と処理室部の圧力を
制御するための圧力制御部とを含んで構成される。

本発明によれば、前室部と処理室部の圧力をそれぞれ独
立に制御することができるため、被処理物を前室部の装
着台に装着する時には、前室部の圧力を作業室の圧力よ
り高くする事により作業者から発生ずる塵埃による被処
理物汚染を防止し、被処理物を処理室内で処理する時に
は、処理室部の圧力を装置外部の圧力に比へて低くする
事により、カスの漏洩を防止する事か出来る。

〔実施例〕

次に、本発明について、図面を参照して説明する。

第１図及び第２図は本発明の一実施例の模式断面図であ
り、作業者がウェハーカセットを装置に装着した場合と
、装着したカセット内のウェハーへの処理が反応室内で
行われている場合をそれぞれ示している。

本実施例では、シランガス及び酸素ガスを用いて酸化シ
リコン系膜を形成する常圧気相成長装置を例として用い
ている。装置は、作業室１００（主としてクリーンルー
ム）と機械室を区切るパーティション］０１にはめ込む
形で設置され、作業室１００　（クリーンルーム側）に
作業面を設けている。

第１図において常圧気相成長装置は、被処理物であるウ
ェハーが収納されたウェハーカセット１２１を装着する
ためのカセッ１ヘステージ］０７が設けられかつ前室部
ドア１０６を有する前室部隔壁１２０により作業面が区
切られた前室部２００と、前室部、２００に隣接し反応
室部ドア１、０８を有する反応室部隔壁１１９により前
室部２００と区切られた処理室部３００と、前室部２０
０と処理室部３００とにそれぞれ独立して設けられたク
リーンフィルタ１０３，１１．６と空調ファン１１８，
１１５等からなる空調器１０２゜１１７と、前室部２０
０と処理室部３００とにそれぞれ独立して設けられ排気
管１０９，１１１と排気調節バルブ１１．２，１１．３
と排気口１１４からなる排気タクトと、空調ファン１１
５，１．１８の出力と排気ダクトの排気量とを調節して
前室部２００と処理室部３００との圧力を制御するため
のマイクロコンピュータ等からなる圧力制御部１２２と
から主に構成されている。以下作業操作と共に更に説明
する。

作業者１０４が前室部ドア１０６を開けてウェハーカセ
ット１２１を前室部２００のカセットステージ１０７上
に装着する際には、圧力制御部１２２に制御された前室
部空調ファン１］８と前室部排気調節バルブエコ２によ
って、前室部２００の圧力は作業室１００の圧力よりも
高く設定される。前室部クリーンフィルタ１０３を出た
クリーンエアの一部は、前室部隔壁１２０に設けられた
ドア１０６を開けることによって矢印のように作業室側
に流れる。このクリーンエアの流れは、作業者１０４か
ら発生ずる塵埃がウェハーカセット１２１にかかるのを
防止する。この時前室部２００と反応室部３００は、反
応室部隔壁１１つで区切られ、反応室部ドア１０８も閉
しられている。このため、シラン、フォスフイン、ジボ
ラン等の危険ガスの漏洩を防止するために反応室部２０
０の圧力が機械室部の圧力より低く設定されていても、
反応室部２００では反応室部クリーンフィルタ１１６か
らの上から下への層流が保持され、塵埃が舞い上がるの
が防止される。

次に、反応室３００でウェハーを処理する際の様子を第
２図を用いて説明する。まず、前室部ドア１０６は閉し
られ、前室部空調ファン１１８の出力がゆっくり弱めら
れて、前室部２００の圧力が反応室部３００の圧力とほ
ぼ同し圧力にされる。次に、反応室部隔壁１１９に設Ｌ
−１られた反応室部ドア］０８が開けられ、カセットス
テージ１０７からウェハーが搬送装置（図示せず〉によ
り反応室１１０に搬送されて、酸化シリコン系膜が堆積
される。この際、シラン、）オスフィンジボラン等の危
険カスが反応室部３００内に漏洩する可能性があるが、
本実施例では、反応室部空調ファン１１５及び反応室部
排気調節バルブ］０］１３の働きにより、反応室部３００の圧力を機械室（
装置水内の外部）の圧力より低くなるようにしているた
め、そのような危険カスが機械室及び作業室１００へ漏
れることはない。また、作業室］、　ＯＯとの間の前室
部ドア１．０６も閉じられているため、作業者１０４な
どから発生ずる塵埃を装置内に吸い込むこともない。

以上のようにして処理されたウェハーは、第１図の状態
を経て作業者１０４によって取り出される。

尚、本実施例では、酸化シリコン系膜を形成する反応室
を有する気相成長装置の場合を用いて説明したが、酸化
シリコン系以外の脱を形成する気相成長装置、熱処理装
置、拡散装置、塗布装置、研削装置、常圧エツチング装
置または洗浄装置等を含む常圧処理装置であってもよく
、同様の効果が得られることは言うまでもない。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明の常圧処理装置は、装置を前
室部と処理室部に分け、その間に開閉可能なドアを持つ
隔壁を設け、前室部と処理室部の圧力をそれぞれ独立に
制御することにより、被処理物を前室部の装着台に装着
する時には、前室部の圧力を作業室の圧力より高くする
事により作業者から発生ずる塵埃による被処理物汚染を
防止し、被処理物を処理室内で処理する時には、処理室
部の圧力を装置外部の圧力に比べて低くする事により、
カスの漏洩を防止する事ができる。つまり、本発明によ
れは、作業者から発生する塵埃による被処理物汚染防止
とカス漏洩防止とを両立できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の一実施例の模式断面図、第
３図及び第４図は従来例の模式断面図である。１００・・・作業室、１．０１・・・パーティション、
１０２・・前室部空調器、１０３・・前室部クリーンフ
ィルタ、１０４・・・作業者、１０５・・床板、１０６
・・・前室部ｌ〜ア、１０７・・カセッ１〜ステージ、
１０８・・・反応室部ドア、１０９・前室部排気管、１
１０・・・反応室、１１１・・・反応室部排気管、１１
２・・・前室部排気調節バルブ、１１３・・・反応室部
排気調節バルブ、１１４・・・排気口、１１５・・・反
応室部空調ファン、１１６・・・反応室部クリーンフィ
ルタ、１１７・・・反応室部空調器、１１８・・・前室
部空調ファン、１１９・・・反応室部隔壁、１２０・・
前室部隔壁、１２１・・・ウェハーカセット、１２２・
・・圧力制御部、２００・・・前室部、３０．０・・処
理室部、３０２・・・空調器、３０３・・・クリーンフ
ィルタ、３０６　・装着台、３０７・・・処理室、３０
８排気調節バルフ、３０９・・・排気管、３１０・・・
空調ファン、３１１・・・被処理物。

Claims

【特許請求の範囲】

被処理物を装着するための装着台が設けられかつドアを
有する第１の隔壁により作業面が区切られた前室部と、
前記前室部に隣接しドアを有する第２の隔壁により前室
部と区切られた処理室部と、前記前室部と処理室部にそ
れぞれ独立して設けられクリーンフィルタを有する空気
調和器と、前記前室部と処理室部にそれぞれ独立して設
けられ排気量調節器を有する排気ダクトと、前記空気調
和器の出力と前記排気ダクトの排気量とを調節して前記
前室部と処理室部の圧力を制御するための圧力制御部と
を含むことを特徴とする常圧処理装置。