JPH08219511A - 危険な加工道具のための小環境 - Google Patents

危険な加工道具のための小環境

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JPH08219511A
JPH08219511A JP7311469A JP31146995A JPH08219511A JP H08219511 A JPH08219511 A JP H08219511A JP 7311469 A JP7311469 A JP 7311469A JP 31146995 A JP31146995 A JP 31146995A JP H08219511 A JPH08219511 A JP H08219511A
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pressure
closed box
working
flow
enclosure
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JP7311469A
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English (en)
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James D Sinclair
ダグラス シンクライア ジェームス
Constance A Jankoski
アンドレス ジャンコスキー コンスタンス
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AT&T Corp
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L1/00—Enclosures; Chambers
    • B01L1/04—Dust-free rooms or enclosures
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/163—Clean air work stations, i.e. selected areas within a space which filtered air is passed
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F7/00—Shielded cells or rooms
    • G21F7/015—Room atmosphere, temperature or pressure control devices

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  • Mechanical Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 クリーンな作業区域を作り出すと共に、その
中で用いられるかまたは作り出される危険物で作業者も
しくは環境が汚染されるのを防ぐ。 【解決手段】 密閉箱内にクリーンな作業区域を与え、
外部から前記作業区域への自由な出入りを許すと同時
に、有毒汚染物質が密閉箱から漏れて前記作業区域を汚
染するのを防止するための方法及び装置。密閉箱内にお
いて、密閉箱の開口部の近くの区域の圧力を高くするこ
とにより、ごみが入ったり有毒物質が漏れたりするのが
防止される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンな作業区
域を作り出すと共に、その中で用いられるかまたは作り
出される危険物で作業者もしくは環境が汚染されるのを
防ぐための方法及び装置に関し、特に湿式化学ベンチの
保護に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】エレク
トロニクスや製薬等の産業においては、空気が室内でフ
ィルタにかけられて作業区域を通過するクリーンフード
内で作業が行われることがある。これは、室外の圧力に
対して正圧の下で行われる。さもないと、ほこりの粒子
が、粒子を入れたり除去したりすることが必要な場合ま
たは操作者が室内で作業する必要がある場合に作業区域
内に吸い込まれる。これらのフードは、実験室全体を
“クラス１”状態に維持するよりも、据えつけて使うの
が安上がりである。このクラス格付けは、１立方フィー
ト当たり０．５ミクロンより多い粒子数を表わす。標準
の実験室では、この数は少なくとも１００，０００であ
る。
【０００３】米国特許第5,259,812 号（ディー・エイ・
クラインセック）は、ドアを有する仕切り壁で分離され
た、部屋内の実験室及び控え室に向けられている。両室
は、クリーンルームに外気が入るのを防ぐ正圧入場装置
を構成している。また、二層ゴムで遮蔽された従来のア
イリスポートと二重ドア移動ボックスを用いて封じ込め
センターに外気が入るのを許すことなくサンプルを除去
する、クリーンルーム内の封じ込めセンターが記載され
ている。
【０００４】米国特許第5,255,710 号（ディー・パルマ
ー）は、圧力源から環境への空気流の２段階制御を教示
しており、ここでは、ピストンが開口部を限定し、この
開口部を通って空気が圧力源やプレナムから流れ込ん
で、導管を可変的に収縮させ、このピストンの重さが空
気流に対するピストンのインピーダンスを少なくする方
向にそれを移動させる傾向がある。ピストンと環境の間
に配置された調整可能なバルブは空気の流れをさらに妨
げる。圧力源の強さの変動がプレナム圧に影響を与えな
いように、ピストンにゲートを固着することができる。
【０００５】米国特許第5,029,518 号（エフ・エックス
・オースチン）には、クリーンルームの壁を構築するた
めに現場で組み立てられるモジュール式壁部分品が開示
されている。各部分品は、空気循環として役立ち、クリ
ーンルームの最高限度内の負圧プレナムに部分品内でル
ームからの空気を上方に向ける。
【０００６】米国特許第4,880,581 号（エフ・アール・
ダストリ等）には、装置の一部を覆うおおいの配置が開
示されており、米国特許第4,682,927 号（ピー・アール
・サウスワース等）には、クリーンルーム間を半導体ウ
ェハのカセットを移動させるためのコンベアシステムの
使用が開示されている。
【０００７】作業者及び環境の保護のために規定する必
要条件の増加に対して、ほこりから作業者を保護すると
共に、作業区域に出入りを提供し、作業区域内で用いら
れるかまたは発生する有毒化学薬品または病原体を完全
に除去する必要性が残っている。ほこりの侵入を防止す
るための作業区域の正圧と、有毒物質の漏れを防止する
ための負圧との明らかに矛盾した必要条件を扱う手段が
必要とされている。また、前記設備は、フロー状態の連
続的な監視を必要としないだろう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、クリーンな区
域への部品または操作者の手の出入りを提供すると共
に、作業区域内の有毒汚染物質が室内に漏れないことを
保証する装置及び方法に関する。これは、部屋の入口の
すぐ後ろに部屋の外の圧力より高い圧力遮断区域を作り
出すことによって達成される。これはほこりが入らない
ようにするばかりでなく、有毒物質も駆除する。したが
って、他の圧力区域は、部屋内で、部屋の入口近くの遮
断圧力より小さい圧力に維持される。この圧力差は有毒
汚染物質が漏れるのを防ぐ。
【０００９】本発明の一実施例において、汚染されてい
ないガスが供給圧で密閉箱の一方の末端部に供給され、
遮断圧が、遮断区域を作り出すように密閉箱内の開口部
の近くで維持される。作業圧は、作業区域を作り出すよ
うに遮断区域の後ろに維持される。密閉箱は、他の末端
部を排気圧に維持することにより、からにされる。上述
の圧力は、圧力勾配及びフローを作り出して汚染物質を
除去するために減少していくように維持される。また、
遮断圧は部屋の外より高い圧力に維持される。遮断区域
の空気の一部分は、粒子が入らないように開口部より漏
れ、かつ作業区域に流れ込んで汚染物質を部屋内に維持
する。遮断区域及び作業区域の前に邪魔板を置いて、望
ましい圧力差を作り出す。この邪魔板は、遮断区域を越
えて流れるためのインピーダンスを提供しない、すなわ
ち、このインピーダンスは、邪魔板の深さを横切って可
変できる。
【００１０】本発明の他の実施例において、羽根は部屋
内に流れ込む空気の一部をさえぎって、部屋内にほこり
を入れずかつ有毒汚染物質を部屋内に維持するのに必要
な圧力不均衡を作り出す。この羽根は、適当な場所に固
定するか、または各設備のためにフローを最適にすべく
場所を変更できるようにすることができる。
【００１１】外気圧と部屋の大部分の作業圧より高い遮
断圧区域を作り出すことの利点は、部屋内の汚染物質が
開口部から漏れるのが防止され、外部からのほこり粒子
が作業をだいなしにするのが防止され、部屋への出入り
が粒子の入場及び除去のためかつ人間の介在のために提
供されることである。邪魔板または羽根の使用によって
いったん圧力差が確立されるやいなや、十分なフローを
維持して遮断圧を外気圧以上に保つ以外にさらなる校正
は必要ない。
【００１２】本発明のこれら及び他の特徴と利点は、添
付図面と共に行われる好適な実施例の以下の詳細な説明
の考察でより良く理解されるだろう。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１を参照すると、上面１０、前
面１２、底面１４、後面１６、作業面１８、入口１９及
び排気部２０からなる、本発明による装置１００が示さ
れている。上面、前面、底面及び後面は、図示しない側
面９１及び９３と共に部屋を構成し、この部屋は、入口
と排気部と前面１２で限定される開口部１５を除いては
空気が漏れないようになっている。フィルタ３０が作業
面上にあり、側面、上面、及び前面１２と後面１６の上
部と共に供給プレナム４０を限定している。供給プレナ
ム４０の寸法は、その体積がフィルタ３０より上の区域
で比較的一定の供給圧を保証するのに十分にしなければ
ならないことを除いては重要ではない。
【００１４】一連の排気穴４４が作業面１８を貫通して
おり、空気がフィルタから流れ落ちて排気プレナム４２
に入り、排気部２０を介して除去されるのを可能にして
いる。
【００１５】フィルタ３０のすぐ上にはプレート５０が
固定されており、このプレート５０は一連のフロー穴５
１を限定している。一連のフロー穴５１は、その面積が
プレート５０の面積の５０％を越えるように配置されて
いる。固定プレート５０は部屋の両側面に取りつけられ
ている。部屋の両側面には、一連のフロー穴６１を限定
するプレート６０がスライド可能に取りつけられてお
り、一連のフロー穴６１はプレート６０の面積の５０％
を越えるように配置されている。固定プレート５０及び
プレート６０のエッジ５２及び６２は、それぞれ、固定
プレート５０の真下にあるフィルタ３０の深さの５％乃
至３０％の距離だけ前面１２の内表面から間隔を置かれ
ている。上面３２と固定プレートの下面５４の間隔は典
型的には０２乃至１．０インチである。内壁８０は、フ
ィルタ３０の下面３４と作業面１８の間の部屋を横切っ
て取り付けられている。内壁８０に取り付けられたガイ
ド８１は、一連の穴８４を限定する引き戸８２を押えて
いる。これらの穴は、引き戸が作業部屋から粒子を除去
するために開けられた時の圧力破壊を最小にする。内壁
８０と内表面１３の間隔は０．５インチから６．０イン
チまでとすることができる。
【００１６】上記に説明した２つのプレート配置の目的
は、プレートの下のフィルタに流れる空気の圧力低下を
調整することである。エッジ５２及び６２と内表面１３
の間の供給プレナムの空気は、フィルタに入る時に妨げ
られない。フィルタの下面を離れる空気がフィルタされ
ることにより、プレートの下の区域より高圧の区域が、
両プレートのエッジと内表面１３で限定される隙間の真
下の作業部屋７０の前面部分に作り出される。この高圧
は、部屋の大部分と（汚染した）外気の間に遮断区域を
作り出す。フィルタされた空気の一部は、遮断区域から
開口部１５を介して外部へ流れ出す。この流れは粒子が
部屋に入らないようにする。また、フィルタされた空気
が表面１３とエッジ５２の間の隙間から排気穴４４へ下
向きに流れるとき、その一部は部屋の内部に流れ込む。
この流れの成分は有毒気すなわち粒子が漏れないように
する。部屋内で発生する有毒物質は、処理のために向け
られる排気穴４４、排気プレナム４２及び排気部２０を
介して除去される。排気穴のサイズ、配列及び位置は重
要ではなく、特定の工程によって決まっている。例え
ば、排気プレナムは後面１６の前部に配置することがで
きる。
【００１７】装置１００の最高圧は、供給プレナム４０
の供給圧Ｐｓである。遮断区域を供給する空気がフィル
タを通過する際、圧力が低下する。遮断プレナムの圧力
Ｐｉは、部屋の外の圧力Ｐｏ以上でなければならない。
すなわち、Ｐｉ＞Ｐｏでなければならない。最低圧は排
気圧Ｐｘである。必要な不均衡は、Ｐｓ＞Ｐｉ＞Ｐｗ＞
Ｐｘである。ここで、Ｐｗはフィルタのまっすぐ下でプ
レート５０及び６０の真下の部屋の圧力である。これら
の関係内で、ＰｗはＰｏより大きくしたり、等しくした
り、小さくしたりすることができる。典型的な部屋で
は、ＰｗはＰｏより大きい水の０．０００５乃至０．０
１インチである。
【００１８】本発明を実施する方法は、各設備に関して
上記に示される圧力不均衡を設定することを含む。各フ
ィルタタイプは特徴的な圧力低下を有し、排気穴のサイ
ズ、配列及び位置は変更することができる。また、供給
圧及び排気圧も、建物の小環境の位置に依存して変更す
ることができる。説明したプレート配置のような邪魔板
を用意するか、または固定プレート単独で、有毒物質が
漏れるのを防止する圧力不均衡Ｐｉ＞Ｐｗを確実にもた
らす。
【００１９】次に図２を参照すると、本発明の他の実施
例による装置２００が示されている。装置２００の構成
要素は装置１００のものと同一であり、同一の参照番号
を有する。
【００２０】羽根２１０は、前面１２とほぼ平行な方向
に供給プレナム４０内に取り付けられる。羽根２１０は
旋回軸２１２に取り付けられる。旋回軸２１２の少なく
とも一方の端部は密閉箱の側面（図示しない）の一方を
貫通しており、この羽根とフロー方向の角度は、垂直か
らマイナス４５度（図２の点線）乃至プラス４５度（図
２の実線）まで変更することができる。羽根は部屋の後
面より前面の近くに配置される。旋回軸２１２は、前面
と後面の間隔の２％から３０％まで内表面１３から離す
ことができ、上面３２と上部１０の間隔の１０％から９
０％まで、旋回軸２１２から離れたその短軸に沿って伸
ばすことができる。また、羽根は、フィルタ３０の上面
３２より０．２乃至１．０インチだけ上に配置される。
【００２１】羽根の目的は、フィルタに入る空気に装置
１００の説明と同じ圧力差を提供することにある。ま
た、その効果は、前記と同様に、遮断プレナムと同一の
圧力不均衡を作り出すことである。
【００２２】次に図３を参照すると、本発明のさらに他
の実施例による装置３００が示されている。図３におい
て、前の図面と同じ機能を有する構成要素は同じ参照番
号を有する。装置３００は、旋回軸２１２に取り付けら
れた羽根２１０を示す。引き戸３１０は一連の穴３１２
を限定し、作業面１８上に支えられるようにスライド可
能に取り付けられる。内壁３２０は旋回軸２１２と作業
面１８の間に固定され、また一連の穴３２２を限定して
いる。これらの穴の目的は、引き戸３１０が作業部屋３
７０内から粒子を除去するために開けられる時の圧力低
下をできるだけ少なくすることである。ガイド３５０
は、開口部１５を覆う外側引き戸３５１を押える。
【００２３】装置１００及び装置２００の説明で与えら
れた、部屋内に有毒汚染物質を維持しかつ部屋外にほこ
り粒子を維持するための圧力不均衡とそれらの共同作業
は、ここでも繰り返される。
【００２４】前に説明された本発明の変形は、外側のほ
こりから作業を保護すると同時に、簡単かつメンテナン
ス不要の据え付けの部屋への自由な出入りを提供する能
力を含む多くの利点を有する。
【００２５】特に説明された実姉例の変更や修正は、本
発明の範囲から逸脱することなく行なうことができる。
特に、装置１００の邪魔板と装置２００の羽根はフィル
タの下に配置することができる。邪魔板、羽根及び内壁
は、種々の実施例において別々にまたは組み合わせて用
いることができる。図１の装置１００の引き戸は図２の
装置２００に組み込むことができ、図３の装置３００の
前面１２に取り付けられた引き戸は、図１の装置１００
及び図２の装置２００に組み込むことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例による装置の断面図である。
【図２】本発明の他の実施例による装置の断面図であ
る。
【図３】本発明のさらに他の実施例による装置の断面図
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コンスタンス アンドレス ジャンコスキ ー アメリカ合衆国 08876 ニュージャーシ ィ，ブランチバーグ，セダー グローヴ ロード 147

Claims (35)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ２つの末端部とそれらの間の開口部とを
    有する密閉箱から作業者環境に汚染物質が漏れるのを防
    止する方法であって、 汚染されていないガスを密閉箱の一方の末端部における
    供給圧で密閉箱に供給する工程と、 前記密閉箱内において前記末端部の間の前記開口部に最
    も近い区域で遮断圧を維持し、遮断区域を作り出す工程
    と、 前記密閉箱において２つの末端部と前記遮断区域で限定
    される区域で作業圧を維持し、汚染物質が発生する作業
    区域を作り出す工程と、 密閉箱の他方の端部で排気圧を維持する工程と、 これらの圧力を次の減少する順番−供給圧、遮断圧、作
    業圧及び排気圧−で維持し、密閉箱全体を通じて圧力勾
    配及びフローを作り出す工程と、 前記他方の末端部から前記ガス及び汚染物質を除去する
    工程とからなることを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の方法において、さらに、
    前記遮断圧を密閉箱の外部の大気圧より高いレベルに維
    持する工程を含む方法。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の方法において、遮断圧と
    作業圧間の圧力差を維持する工程は、さらに、遮断区域
    及び作業区域の前のフロー中に邪魔板を置く工程を含む
    方法。
  4. 【請求項４】 請求項１記載の方法において、さらに、
    前記フローにほぼ垂直な方向の邪魔板のフローに対する
    インピーダンスを可変する工程を含む方法。
  5. 【請求項５】 ２つの末端部とそれらの間の開口部とを
    有する密閉箱にほこり粒子が入るのを防止する方法であ
    って、 密閉箱に該密閉箱の一方の末端部における供給圧でガス
    を供給する工程と、 前記密閉箱内において前記末端部の間の前記開口部に最
    も近い区域で遮断圧を維持し、遮断区域を作り出す工程
    と、 前記密閉箱において２つの末端部と前記遮断区域で限定
    される区域で作業圧を維持し、粒子のない状態に保たれ
    るべき作業区域を作り出す工程と、 密閉箱の他方の端部で排気圧を維持する工程と、 これらの圧力を次の減少する順番−供給圧、遮断圧、作
    業圧及び排気圧−で維持し、密閉箱全体を通じて圧力勾
    配及びフローを作り出す工程と、 前記遮断圧を密閉箱の外部の大気圧より高いレベルに維
    持する工程と、 前記他方の末端部から前記ガスを除去する工程とからな
    ることを特徴とする方法。
  6. 【請求項６】 請求項５記載の方法において、遮断圧と
    作業圧間の圧力差を維持する工程は、さらに、遮断区域
    及び作業区域の前のフロー中に邪魔板を置く工程を含む
    方法。
  7. 【請求項７】 請求項５記載の方法において、さらに、
    前記フローにほぼ垂直な方向の邪魔板のフローに対する
    インピーダンスを可変する工程を含む方法。
  8. 【請求項８】 ２つの末端部とそれらの間の開口部とを
    有する密閉箱にほこり粒子が入るのを防止すると共にそ
    の中にある汚染物質が作業環境に漏れるのを防止する方
    法であって、 密閉箱に該密閉箱の一方の末端部における供給圧でガス
    を供給する工程と、 前記密閉箱内において前記末端部の間の前記開口部に最
    も近い区域で遮断圧を維持し、遮断区域を作り出す工程
    と、 前記密閉箱において２つの末端部と前記遮断区域で限定
    される区域で作業圧を維持し、粒子のない状態に保たれ
    るべき作業区域を作り出す工程と、 密閉箱の他方の端部で排気圧を維持する工程と、 これらの圧力を次の減少する順番−供給圧、遮断圧、作
    業圧及び排気圧−で維持し、密閉箱全体を通じて圧力勾
    配及びフローを作り出す工程と、 前記遮断圧を密閉箱の外部の大気圧より高いレベルに維
    持する工程と、 前記他方の末端部から前記ガスを除去する工程とからな
    ることを特徴とする方法。
  9. 【請求項９】 請求項８記載の方法において、遮断圧と
    作業圧間の圧力差を維持する工程は、さらに、遮断区域
    及び作業区域の前のフロー中に邪魔板を置く工程を含む
    方法。
  10. 【請求項１０】 請求項８記載の方法において、さら
    に、前記フローにほぼ垂直な方向の邪魔板のフローに対
    するインピーダンスを可変する工程を含む方法。
  11. 【請求項１１】 ２つの末端部とそれらの間の開口部と
    を有する密閉箱にほこり粒子が入るのを防止すると共に
    その中にある汚染物質が作業者環境に漏れるのを防止す
    る装置であって、密閉箱の一方の区域におけるガスフロ
    ーに、密閉箱の他方の区域におけるフローに与えられる
    インピーダンスより大きなインピーダンスを与える邪魔
    板を含む装置。
  12. 【請求項１２】 請求項１１記載の装置において、邪魔
    板は、密閉箱の一方の区域に広がっており、密閉箱の他
    方の区域に妨げられないフローを可能にする装置。
  13. 【請求項１３】 請求項１１記載の装置において、邪魔
    板は、密閉箱の一方の区域のフローに可変インピーダン
    スを与える装置。
  14. 【請求項１４】 請求項１１記載の装置において、邪魔
    板は、第１のフロー穴群を限定する第１のプレートと、
    第２のフロー穴群を限定する第２のプレートとからな
    り、第２のプレートは第１のプレートに対してスライド
    可能に取り付けられている装置。
  15. 【請求項１５】 請求項１１記載の装置において、邪魔
    板は、開口部の近くにある密閉箱の一方の区域のフロー
    に、邪魔板がフローにより大きなインピーダンスを与え
    る他方の区域よりも小さいインピーダンスを与える装
    置。
  16. 【請求項１６】 請求項１１記載の装置において、さら
    に、作業面、後壁、両側面及びフィルタの下面と共に作
    業面を限定する内壁を密閉箱内に含む装置。
  17. 【請求項１７】 請求項１６記載の装置において、さら
    に、内壁に取り付けられることにより、作業部屋から内
    壁を通って粒子を除去することができる引き戸を含む装
    置。
  18. 【請求項１８】 請求項１７記載の装置において、さら
    に、引き戸で限定される一連の穴を含む装置。
  19. 【請求項１９】 密閉箱にほこり粒子が入るのを防止す
    ると共にその中にある汚染物質が作業者環境に漏れるの
    を防止する密閉箱であって、 ガスの入口を限定する上面と、 前記密閉箱からの排気部を限定する底面と、 間隔が置かれ、前記上面及び底面を結合する２つの側面
    と、 前記上面、底面及び２つの側面を結合する後面と、 前記上面、底面及び２つの側面を結合し、その中に開口
    部を限定する前面と、 前記２つの側面と後面に結合され、前記開口部より上に
    配置されたフィルタと、 前記開口部の後ろに配置され、引き戸を支持する内壁
    と、 前記開口部より上に配置され、前記２つの側面と後面に
    結合され、前記邪魔板と前記前面の内表面の隙間を限定
    するエッジを有する邪魔板とからなることを特徴とする
    密閉箱。
  20. 【請求項２０】 請求項１９記載の密閉箱において、邪
    魔板は固定プレート及び可動プレートからなり、各プレ
    ートは一連のフロー穴を限定し、共同してフローに対す
    るインピーダンスを変更する密閉箱。
  21. 【請求項２１】 ２つの末端部とそれらの間の開口部と
    を有する密閉箱にほこり粒子が入るのを防止すると共に
    その中にある汚染物質が作業者環境に漏れるのを防止す
    る装置であって、密閉箱の第１の末端部と開口部の間に
    取り付けられ、前記代１の末端部から第２の末端部へ流
    れるガスの一部をさえぎる羽根を含むことを特徴とする
    装置。
  22. 【請求項２２】 請求項２１記載の装置において、開口
    部は密閉箱の前面で限定され、羽根は密閉箱の対向する
    後面よりも前面の近くに配置される装置。
  23. 【請求項２３】 請求項２１記載の装置において、羽根
    の一方の軸は末端部間の軸に対してほぼ垂直にされる装
    置。
  24. 【請求項２４】 請求項２１記載の装置において、羽根
    は、密閉箱内の羽根と第２の末端部の間に圧力差を存在
    せしめる装置。
  25. 【請求項２５】 請求項２１記載の装置において、羽根
    の一方の軸と末端部間の軸との角度は変更可能になって
    いる装置。
  26. 【請求項２６】 請求項２１記載の装置において、前記
    角度はマイナス４５度からプラス４５度まで変更するこ
    とができる装置。
  27. 【請求項２７】 密閉箱にほこり粒子が入るのを防止す
    ると共にその中にある汚染物質が作業者環境に漏れるの
    を防止する密閉箱であって、 ガスの入口を限定する上面と、 前記密閉箱からの排気部を限定する底面と、 間隔が置かれ、前記上面及び底面を結合する２つの側面
    と、 前記上面、底面及び２つの側面を結合する後面と、 前記上面、底面及び２つの側面を結合し、その中に開口
    部を限定する前面と、 前記２つの側面と後面に結合され、前記開口部より上に
    配置されたフィルタと、 前記開口部より上にかつ対向する後面より前記開口部の
    近くに配置され、２つの側面に結合され、上面及び底面
    間の軸と羽根との間の角度を限定する軸を有する羽根と
    からなることを特徴とする密閉箱。
  28. 【請求項２８】 請求項２７記載の密閉箱において、角
    度は密閉箱内の羽根と底面の間の圧力差を制御するため
    に変更することができる密閉箱。
  29. 【請求項２９】 請求項２７記載の装置において、さら
    に、作業面、後壁、両側面及びフィルタの下面と共に作
    業面を限定する内壁を密閉箱内に含む装置。
  30. 【請求項３０】 請求項２９記載の装置において、さら
    に、内壁に取り付けられることにより、作業部屋から内
    壁を通って粒子を除去することができる引き戸を含む装
    置。
  31. 【請求項３１】 請求項３０記載の装置において、さら
    に、引き戸で限定される一連の穴を含む装置。
  32. 【請求項３２】 密閉箱にほこり粒子が入るのを防止す
    ると共にその中にある汚染物質が作業者環境に漏れるの
    を防止する密閉箱であって、 ガスの入口を限定する上面と、 前記密閉箱からの排気部を限定する底面と、 間隔が置かれ、前記上面及び底面を結合する２つの側面
    と、 前記上面、底面及び２つの側面を結合する後面と、 前記上面、底面及び２つの側面を結合し、その中に開口
    部を限定する前面と、 前記２つの側面と後面に結合され、前記開口部より上に
    配置されたフィルタと、 前記開口部より上にかつ対向する後面より前記開口部の
    近くに配置され、２つの側面に結合され、上面及び底面
    間の軸と羽根との間の角度を限定する軸を有する羽根
    と、 密閉箱内に、作業面、後壁、両側面及びフィルタの下面
    と共に作業面を限定する内壁とからなることを特徴とす
    る密閉箱。
  33. 【請求項３３】 請求項３２記載の装置において、さら
    に、内壁に取り付けられることにより、作業部屋から内
    壁を通って粒子を除去することができる引き戸を含む装
    置。
  34. 【請求項３４】 請求項３３記載の装置において、さら
    に、引き戸で限定される一連の穴を含む装置。
  35. 【請求項３５】 請求項３２記載の装置において、さら
    に、前記開口部を覆う外側の引き戸を含む装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009543553A (ja) * 2006-07-14 2009-12-10 エクセレレックス インク． 環境保護用収容システム

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PT1245093E (pt) 2000-01-07 2007-01-31 Aware Inc Sistemas e métodos de diagnóstico para modems de portadoras múltiplas
US6582178B2 (en) 2000-08-14 2003-06-24 Daniel G. Petruccelli Mini-modual manufacturing environmental
KR100583730B1 (ko) * 2004-06-29 2006-05-26 삼성전자주식회사 기판 이송 시스템 및 상기 시스템의 프레임 내 압력을조절하는 방법
FR2879471B1 (fr) * 2004-12-20 2007-01-26 Commissariat Energie Atomique Dispositif de limitation des consequences ultimes d'un incendie generalise non maitrise dans une cellule d'entreposage de matieres dangereuses
JP2008032335A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Hitachi High-Technologies Corp ミニエンバイロメント装置、検査装置、製造装置、及び空間の清浄化方法
US9623506B2 (en) 2011-02-01 2017-04-18 Illinois Tool Works Inc. Fume extractor for welding applications
JP6121190B2 (ja) * 2012-02-22 2017-04-26 住友重機械工業株式会社 ホットセル
US9839948B2 (en) * 2013-01-29 2017-12-12 Illinois Tool Works Inc. Fume evacuation system
CN107126907A (zh) * 2016-02-26 2017-09-05 南京中硼联康医疗科技有限公司 药物合成装置
WO2018026389A1 (en) * 2016-08-01 2018-02-08 Mallinckrodt Nuclear Medicine Llc Hepa filter airflow distribution systems
KR101740675B1 (ko) * 2016-08-31 2017-05-26 주식회사 재진엔지니어링 국소배기장치용 흡입장치
US20190329305A1 (en) * 2018-04-25 2019-10-31 Timothy McKibben Fume hood air channeling device

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3895570A (en) * 1973-09-27 1975-07-22 Baker Company Inc Air-insulated work station
FR2417372A1 (fr) * 1978-02-16 1979-09-14 Hauville Francois Enceinte pour manipulations effectuees sur des produits contaminants ou necessitant une atmosphere sterile
JPS5518134A (en) * 1978-07-25 1980-02-08 Fuji Electric Co Ltd Signal generator
FR2485698B1 (fr) * 1980-06-24 1985-06-14 Aurore Sa Poste de travail a ecoulements laminaires
US4682927A (en) * 1982-09-17 1987-07-28 Nacom Industries, Incorporated Conveyor system
US4637301A (en) * 1984-02-06 1987-01-20 Environmental Air Control, Inc. Contamination control work station
JPS61161147A (ja) * 1985-01-08 1986-07-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 無塵排気装置
CH667712A5 (de) * 1985-10-02 1988-10-31 Landis & Gyr Ag Arbeitsstation zur bereitstellung einer stabilisierten lufttemperatur in einer kammer.
JPS62147249A (ja) * 1985-12-19 1987-07-01 Shimizu Constr Co Ltd クリ−ンル−ム
US4880581A (en) * 1986-12-24 1989-11-14 Alcon Laboratories, Inc. Means and method for aseptic particle-free production of articles
JPS63248449A (ja) * 1987-04-03 1988-10-14 Tadahiro Omi ドラフトチヤンバ
US4936922A (en) * 1987-05-21 1990-06-26 Roger L. Cherry High-purity cleaning system, method, and apparatus
US5255710A (en) * 1988-04-07 1993-10-26 David Palmer Process-chamber flow control system
GB8826827D0 (en) * 1988-11-16 1988-12-21 Envair Uk Ltd Clean air cabinets
US5029518A (en) * 1989-10-16 1991-07-09 Clean Air Technology, Inc. Modular clean room structure
JPH0439551A (ja) * 1990-06-01 1992-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd クリーントンネル
US5259812A (en) * 1992-09-23 1993-11-09 Kleinsek Don A Clean room and clean room containment center

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009543553A (ja) * 2006-07-14 2009-12-10 エクセレレックス インク． 環境保護用収容システム

Also Published As

Publication number Publication date
EP0714701A1 (en) 1996-06-05
KR0169180B1 (ko) 1999-01-15
KR960016978A (ko) 1996-06-17
US5549512A (en) 1996-08-27

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