JPH0359060B2 - - Google Patents
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- JPH0359060B2 JPH0359060B2 JP30833786A JP30833786A JPH0359060B2 JP H0359060 B2 JPH0359060 B2 JP H0359060B2 JP 30833786 A JP30833786 A JP 30833786A JP 30833786 A JP30833786 A JP 30833786A JP H0359060 B2 JPH0359060 B2 JP H0359060B2
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Landscapes
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- Eyeglasses (AREA)
Description
＜産業上の利用分野＞
本発明は下記一般式（）で示される光学用プ
ラスチツク原料として有用な新規チオールカルボ
ン酸エステルに関する。 （Ｘは−CH2CH2SCH2CH2−、−
CH2CH2OCH2CH2−または−CH2CH2−を示
す。） ＜従来の技術＞ 近年、無機光学材料に替る素材として、透明性
合成樹脂よりなる高屈折率樹脂は、その軽量性・
耐衝撃性・成型加工性・染色性が良好なことから
光学用プラスチツク材料として適用分野を拡大し
つつある。 しかし、従来の光学用プラスチツク材料として
用いられているジエチレングリコールビスアリル
カーボネート樹脂は屈折率が1.49〜1.50と低いた
め、これから得られる樹脂を、例えば眼鏡用レン
ズにすると無機光学レンズに比較して中心厚、コ
バ厚が大きくなる欠点があつた。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ 以上説明したように、従来の光学用プラスチツ
ク材料は種々の欠点を有しており改善が望まれて
いる。そこで本発明の目的も光学用プラスチツク
材料として有用な高屈折率で透明性の優れた樹脂
を与える単量体を提供することにある。 ＜問題点を解決するための手段＞ 本発明者らは、上記目的を達成するために、検
討を重ねた結果本発明に至つた。すなわち、本発
明は文献未載の前記一般式で示される新規なチオ
ールカルボン酸エステルを提供するものである。 本発明の新規チオールカルボン酸エステル化合
物としては、例えば下記化合物番号で示すものが
あげられる。 また、本発明化合物１，２，３は、ジチオール
誘導体とメタクリル酸誘導体とを反応させること
によつて製造できる（下記式（）参照）。 （但し、式中Ｘは−CH2CH2SCH2CH2−、−
CH2CH2OCH2CH2−または−CH2CH2−を、Ｙ
はCl、Br、OHまたはC1〜C4のアルコキシ基を示
す。） ＜発明の効果＞ 本発明によつて提供される前記一般式（）で
示される新規なチオールカルボン酸エステルは、
それ自体で重合させるか、または各種のオレフイ
ン性二重結合を有する化合物と共重合させること
によつてポリマーやオリゴマーを得ることができ
る。そして、本発明の新規化合物を主成分とする
樹脂は高屈折率で透明性に優れ、しかも三次元架
橋体であるので、切削、研磨等の加工性が良好で
あり、光学用プラスチツクとして好適である。ま
た、これらのポリマーやオリゴマーは、金属やガ
ラスとの密着性の向上剤としても用いることがで
きる。 ＜実施例＞ 以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 １ 撹拌機、温度計、ジムロート型冷却管及び滴下
漏斗を備えた容量２のガラス製フラスコに２−
メルカプトエチルスルフイド50.0ｇ、塩化メチレ
ン800ml、4.2重量％水酸化ナトリウム水溶液800
ml、テトラブチルアンモニウムブロマイド10.4
ｇ、フエノチアジン94mgを仕込んだ。次いで、反
応容器内を窒素置換し、内温を０℃に保ち、系内
を撹拌しながら、メタクリル酸クロライド6.77ｇ
を２時間で滴下した。滴下終了後、更に同温度で
１時間撹拌を続けた後、反応溶液を二層分液し
た。塩化メチレン層を飽和食塩水で充分洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩化メチレ
ンを留去することによりチオールカルボン酸エス
テル１を87.6ｇ（収率93.1％）を得た。 このものは更に減圧蒸留によつて精製した。 この新規物質１の構造決定のための分析結果を
表−１に示す。更に 1H−NMRスペクトルを第
１図に、 13C−NMRスペクトルを第２図に、赤
外線吸収スペクトルを第３図に示す。 実施例 ２ ２−メルカプトエチルスルフイドを２−メルカ
プトエチルエーテルに変えた以外は、実施例１と
同様な方法で新規物質２を製造した。収率は90.2
％であつた。結果を表−１に示す。更に 1H−
NMRスペクトルを第４図に、 13C−NMRスペクトルを第５図に、赤外線吸収
スペクトルを第６図に示す。 実施例 ３ ２−メルカプトエチルスルフイドをエタンジチ
オールに変えた以外は、実施例１と同様な方法で
新規物質３を製造した。収率は86.1％であつた。
結果を表−１に示す。 更に 1H−NMRスペクトルを第７図に、 13C
−NMRスペクトルを第８図に、赤外線吸収スペ
クトルを第９図に示す。
ラスチツク原料として有用な新規チオールカルボ
ン酸エステルに関する。 （Ｘは−CH2CH2SCH2CH2−、−
CH2CH2OCH2CH2−または−CH2CH2−を示
す。） ＜従来の技術＞ 近年、無機光学材料に替る素材として、透明性
合成樹脂よりなる高屈折率樹脂は、その軽量性・
耐衝撃性・成型加工性・染色性が良好なことから
光学用プラスチツク材料として適用分野を拡大し
つつある。 しかし、従来の光学用プラスチツク材料として
用いられているジエチレングリコールビスアリル
カーボネート樹脂は屈折率が1.49〜1.50と低いた
め、これから得られる樹脂を、例えば眼鏡用レン
ズにすると無機光学レンズに比較して中心厚、コ
バ厚が大きくなる欠点があつた。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ 以上説明したように、従来の光学用プラスチツ
ク材料は種々の欠点を有しており改善が望まれて
いる。そこで本発明の目的も光学用プラスチツク
材料として有用な高屈折率で透明性の優れた樹脂
を与える単量体を提供することにある。 ＜問題点を解決するための手段＞ 本発明者らは、上記目的を達成するために、検
討を重ねた結果本発明に至つた。すなわち、本発
明は文献未載の前記一般式で示される新規なチオ
ールカルボン酸エステルを提供するものである。 本発明の新規チオールカルボン酸エステル化合
物としては、例えば下記化合物番号で示すものが
あげられる。 また、本発明化合物１，２，３は、ジチオール
誘導体とメタクリル酸誘導体とを反応させること
によつて製造できる（下記式（）参照）。 （但し、式中Ｘは−CH2CH2SCH2CH2−、−
CH2CH2OCH2CH2−または−CH2CH2−を、Ｙ
はCl、Br、OHまたはC1〜C4のアルコキシ基を示
す。） ＜発明の効果＞ 本発明によつて提供される前記一般式（）で
示される新規なチオールカルボン酸エステルは、
それ自体で重合させるか、または各種のオレフイ
ン性二重結合を有する化合物と共重合させること
によつてポリマーやオリゴマーを得ることができ
る。そして、本発明の新規化合物を主成分とする
樹脂は高屈折率で透明性に優れ、しかも三次元架
橋体であるので、切削、研磨等の加工性が良好で
あり、光学用プラスチツクとして好適である。ま
た、これらのポリマーやオリゴマーは、金属やガ
ラスとの密着性の向上剤としても用いることがで
きる。 ＜実施例＞ 以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 １ 撹拌機、温度計、ジムロート型冷却管及び滴下
漏斗を備えた容量２のガラス製フラスコに２−
メルカプトエチルスルフイド50.0ｇ、塩化メチレ
ン800ml、4.2重量％水酸化ナトリウム水溶液800
ml、テトラブチルアンモニウムブロマイド10.4
ｇ、フエノチアジン94mgを仕込んだ。次いで、反
応容器内を窒素置換し、内温を０℃に保ち、系内
を撹拌しながら、メタクリル酸クロライド6.77ｇ
を２時間で滴下した。滴下終了後、更に同温度で
１時間撹拌を続けた後、反応溶液を二層分液し
た。塩化メチレン層を飽和食塩水で充分洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩化メチレ
ンを留去することによりチオールカルボン酸エス
テル１を87.6ｇ（収率93.1％）を得た。 このものは更に減圧蒸留によつて精製した。 この新規物質１の構造決定のための分析結果を
表−１に示す。更に 1H−NMRスペクトルを第
１図に、 13C−NMRスペクトルを第２図に、赤
外線吸収スペクトルを第３図に示す。 実施例 ２ ２−メルカプトエチルスルフイドを２−メルカ
プトエチルエーテルに変えた以外は、実施例１と
同様な方法で新規物質２を製造した。収率は90.2
％であつた。結果を表−１に示す。更に 1H−
NMRスペクトルを第４図に、 13C−NMRスペクトルを第５図に、赤外線吸収
スペクトルを第６図に示す。 実施例 ３ ２−メルカプトエチルスルフイドをエタンジチ
オールに変えた以外は、実施例１と同様な方法で
新規物質３を製造した。収率は86.1％であつた。
結果を表−１に示す。 更に 1H−NMRスペクトルを第７図に、 13C
−NMRスペクトルを第８図に、赤外線吸収スペ
クトルを第９図に示す。
【表】
第１図は実施例１で得られた新規物質１の
TMS基準に従つた、重クロロホルム溶媒におけ
る 1H−NMRスペクトル図である。第２図は実
施例１で得られた新規物質１のTMS基準に従つ
た、重クロロホルム溶媒における 13C−NMRス
ペクトル図である。第３図は実施例１で得られた
新規物質１のNaCl板上における赤外線吸収スペ
クトル図である。第４図は実施例２で得られた新
規物質２のTMS基準に従つた、重クロロホルム
溶媒における 1H−NMRスペクトル図である。
第５図は実施例２で得られた新規物質２のTMS
基準に従つた、重クロロホルム溶媒における 13C
−NMRスペクトル図である。第６図は実施例２
で得られた新規物質２のNaCl板上における赤外
線吸収スペクトル図である。第７図は実施例３で
得られた新規物質３のTMS基準に従つた、重ク
ロロホルム溶媒における 1H−NMRスペクトル
図である。第８図は実施例３で得られた新規物質
３のTMS基準に従つた、重クロロホルム溶媒に
おける 13C−NMRスペクトル図である。第９図
は実施例３で得られた新規物質３のNaCl板上に
おける赤外線吸収スペクトル図である。
TMS基準に従つた、重クロロホルム溶媒におけ
る 1H−NMRスペクトル図である。第２図は実
施例１で得られた新規物質１のTMS基準に従つ
た、重クロロホルム溶媒における 13C−NMRス
ペクトル図である。第３図は実施例１で得られた
新規物質１のNaCl板上における赤外線吸収スペ
クトル図である。第４図は実施例２で得られた新
規物質２のTMS基準に従つた、重クロロホルム
溶媒における 1H−NMRスペクトル図である。
第５図は実施例２で得られた新規物質２のTMS
基準に従つた、重クロロホルム溶媒における 13C
−NMRスペクトル図である。第６図は実施例２
で得られた新規物質２のNaCl板上における赤外
線吸収スペクトル図である。第７図は実施例３で
得られた新規物質３のTMS基準に従つた、重ク
ロロホルム溶媒における 1H−NMRスペクトル
図である。第８図は実施例３で得られた新規物質
３のTMS基準に従つた、重クロロホルム溶媒に
おける 13C−NMRスペクトル図である。第９図
は実施例３で得られた新規物質３のNaCl板上に
おける赤外線吸収スペクトル図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記一般式で示される新規チオールカルボン
酸エステル。 （Ｘは−CH2CH2SCH2CH2−、−
CH2CH2OCH2CH2−または−CH2CH2−を示
す。）
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30833786A JPS63162671A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 新規チオ−ルカルボン酸エステル |
| AT87311203T ATE54909T1 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Ester von thiolcarboxylsaeuren. |
| EP87311203A EP0273661B1 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Thiolcarboxylic acid esters |
| DE8787311203T DE3763968D1 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Ester von thiolcarboxylsaeuren. |
| US07/135,045 US4810812A (en) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Thiolcarboxylic acid esters |
| AU82869/87A AU593416B2 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-21 | Thiolcarboxylic acid esters |
| AU82945/87A AU603404B2 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | Resin having high refractive index, process for producing said resin and optical materials composed of said resin |
| EP87311380A EP0273710B2 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-23 | Resin having high refractive index, process for producing said resin and optical materials composed of said resin |
| AT87311380T ATE85626T1 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-23 | Harz mit hohem brechungsindex, verfahren zu seiner herstellung und optische materialien aus diesem harz. |
| CA000555242A CA1267909A (en) | 1986-12-26 | 1987-12-23 | Thiolcarboxylic acid esters |
| DE3784152T DE3784152T3 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-23 | Harz mit hohem Brechungsindex, Verfahren zu seiner Herstellung und optische Materialien aus diesem Harz. |
| US07/253,340 US4931521A (en) | 1986-12-26 | 1988-10-03 | Optical materials composed of resin from thioacrylat esters |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30833786A JPS63162671A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 新規チオ−ルカルボン酸エステル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63162671A JPS63162671A (ja) | 1988-07-06 |
| JPH0359060B2 true JPH0359060B2 (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=17979845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30833786A Granted JPS63162671A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 新規チオ−ルカルボン酸エステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63162671A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0810210A3 (en) * | 1996-05-29 | 1998-12-09 | Mitsui Chemicals, Inc. | Thiol and sulfur-containing o-(meth)acrylate compounds and use thereof |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0791262B2 (ja) * | 1987-02-02 | 1995-10-04 | 三井東圧化学株式会社 | 新規な含硫脂肪族（メタ）アクリレ−ト |
| DE4234253A1 (de) * | 1992-10-10 | 1994-04-14 | Roehm Gmbh | Monomere für hochlichtbrechende Kunststoffe |
-
1986
- 1986-12-26 JP JP30833786A patent/JPS63162671A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0810210A3 (en) * | 1996-05-29 | 1998-12-09 | Mitsui Chemicals, Inc. | Thiol and sulfur-containing o-(meth)acrylate compounds and use thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63162671A (ja) | 1988-07-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |