JPH0359061B2 - - Google Patents
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- JPH0359061B2 JPH0359061B2 JP18657287A JP18657287A JPH0359061B2 JP H0359061 B2 JPH0359061 B2 JP H0359061B2 JP 18657287 A JP18657287 A JP 18657287A JP 18657287 A JP18657287 A JP 18657287A JP H0359061 B2 JPH0359061 B2 JP H0359061B2
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
<産業上の利用分野>
本発明は下記式()で示される光学用プラス
チツク原料として有用な新規チオールカルボン酸
エステルに関する。 <従来の技術> 無機光学レンズに替る素材として、透明性合成
樹脂よりなる高屈折率レンズ用樹脂はその軽量性
や耐衝撃性・成型加工性・染色性が良好なことか
ら、プラスチツクレンズ原料として適用分野を拡
大しつつある。 従来、プラスチツクレンズ材料として用いられ
ている樹脂としては、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネートが一般に用いられている
が、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト樹脂およびポリメチルメタクリレートは屈折率
が1.49〜1.50と小さいため、これらの樹脂をプラ
スチツクレンズに成型すると、無機光学ガラスレ
ンズに比較して、中心厚、コバ厚および曲率が大
きくなる欠点があつた。また、ポリカーボネート
は屈折率は1.58〜1.59と高いが成型時に複屈折が
生じやすく光学的均一性において欠点があつた。 また、ビニルナフタレンやビニルカルバゾール
は高屈折率な樹脂を与えるが、得られる樹脂は分
散が大きい、着色が著しい等光学用プラスチツク
レンズ用樹脂として満足できるものではなかつ
た。 <発明が解決しようとする問題点> 以上説明したように、従来の光学用プラスチツ
ク材料は種々の欠点を有しており改善が望まれて
いる。そこで本発明の目的も光学用プラスチツク
材料として有用な高屈折率で透明性の優れた樹脂
を与える単量体を提供することにある。 <問題点を解決するための手段> 本発明者らは、上記目的を達成するために、検
討を重ねた結果本発明に至つた。すなわち、本発
明は文献未載の下記式()で示される新規チオ
ールカルボン酸エステルを提供するものである。 また、本発明化合物()は、1.4−ビス(メ
ルカプトメチル)ベンゼンとメタクリル酸誘導体
とを反応させることによつて製造できる(下記式
()参照)。 (但し、式中XはCl、Br、OHまたはC1〜C4のア
ルコキシ基を示す。) <発明の効果> 本発明によつて提供される前記一般式()で
示される新規なチオールカルボン酸エステルは、
それ自体で重合させるか、または各種のオレフイ
ン性二重結合を有する化合物と共重合させること
によつてポリマーやオリゴマーを得ることができ
る。そして、本発明の新規化合物を主成分とする
樹脂は高屈折率で透明性に優れ、しかも三次元架
橋体であるので、切削、研磨等の加工性が良好で
あり、光学用プラスチツクとして好適である。ま
た、これらのポリマーやオリゴマーは、金属やガ
ラスとの密着性の向上剤としても用いることがで
きる。 <実施例> 以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 1 撹拌機、温度計、ジムロート型冷却管及び滴下
漏斗を備えた容量500mlのガラス製フラスコに1,
4−ビス(メトカプトメチル)ベンゼン15.0g、
塩化メチレン200ml、4.9重量%水酸化ナトリウム
水溶液200g、4−メトキシフエノール27mgを仕
込んだ。次いで、反応容器内温度を10℃以下で保
ち、系内を撹拌しながら、メタクリル酸クロライ
ド20.3gを15分間で滴下した。滴下終了後、更に
同温度で1時間撹拌を続けた後、反応溶液を二層
分液した。塩化メチレン層を飽和食塩水で充分洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩化
メチレンを留去し、得られた反応生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、前
記式()の新規チオールカルボン酸エステルを
19.9g(収率73.6%)得た。 次に得られたこの新規物質の構造決定のための
分析結果を示す。 Γ融点64〜65℃ Γ元素分析値 C(%) H(%) S(%) 理論値 62.71 5.92 20.93 分析値 62.63 5.75 21.01 Γ質量分析スペクトル EI m/e=306(M+) Γ 1H−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:
TMS) δ=7.25ppm(singlet 4H ベンゼン核のH) =6.06ppm(singlet 2H CH2 =) =5.58ppm(singlet 2H CH2 =) =4.13ppm(singlet 4H −S−CH2 −) =1.98ppm(singlet 6H
チツク原料として有用な新規チオールカルボン酸
エステルに関する。 <従来の技術> 無機光学レンズに替る素材として、透明性合成
樹脂よりなる高屈折率レンズ用樹脂はその軽量性
や耐衝撃性・成型加工性・染色性が良好なことか
ら、プラスチツクレンズ原料として適用分野を拡
大しつつある。 従来、プラスチツクレンズ材料として用いられ
ている樹脂としては、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネートが一般に用いられている
が、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト樹脂およびポリメチルメタクリレートは屈折率
が1.49〜1.50と小さいため、これらの樹脂をプラ
スチツクレンズに成型すると、無機光学ガラスレ
ンズに比較して、中心厚、コバ厚および曲率が大
きくなる欠点があつた。また、ポリカーボネート
は屈折率は1.58〜1.59と高いが成型時に複屈折が
生じやすく光学的均一性において欠点があつた。 また、ビニルナフタレンやビニルカルバゾール
は高屈折率な樹脂を与えるが、得られる樹脂は分
散が大きい、着色が著しい等光学用プラスチツク
レンズ用樹脂として満足できるものではなかつ
た。 <発明が解決しようとする問題点> 以上説明したように、従来の光学用プラスチツ
ク材料は種々の欠点を有しており改善が望まれて
いる。そこで本発明の目的も光学用プラスチツク
材料として有用な高屈折率で透明性の優れた樹脂
を与える単量体を提供することにある。 <問題点を解決するための手段> 本発明者らは、上記目的を達成するために、検
討を重ねた結果本発明に至つた。すなわち、本発
明は文献未載の下記式()で示される新規チオ
ールカルボン酸エステルを提供するものである。 また、本発明化合物()は、1.4−ビス(メ
ルカプトメチル)ベンゼンとメタクリル酸誘導体
とを反応させることによつて製造できる(下記式
()参照)。 (但し、式中XはCl、Br、OHまたはC1〜C4のア
ルコキシ基を示す。) <発明の効果> 本発明によつて提供される前記一般式()で
示される新規なチオールカルボン酸エステルは、
それ自体で重合させるか、または各種のオレフイ
ン性二重結合を有する化合物と共重合させること
によつてポリマーやオリゴマーを得ることができ
る。そして、本発明の新規化合物を主成分とする
樹脂は高屈折率で透明性に優れ、しかも三次元架
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あり、光学用プラスチツクとして好適である。ま
た、これらのポリマーやオリゴマーは、金属やガ
ラスとの密着性の向上剤としても用いることがで
きる。 <実施例> 以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 1 撹拌機、温度計、ジムロート型冷却管及び滴下
漏斗を備えた容量500mlのガラス製フラスコに1,
4−ビス(メトカプトメチル)ベンゼン15.0g、
塩化メチレン200ml、4.9重量%水酸化ナトリウム
水溶液200g、4−メトキシフエノール27mgを仕
込んだ。次いで、反応容器内温度を10℃以下で保
ち、系内を撹拌しながら、メタクリル酸クロライ
ド20.3gを15分間で滴下した。滴下終了後、更に
同温度で1時間撹拌を続けた後、反応溶液を二層
分液した。塩化メチレン層を飽和食塩水で充分洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。塩化
メチレンを留去し、得られた反応生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにより精製し、前
記式()の新規チオールカルボン酸エステルを
19.9g(収率73.6%)得た。 次に得られたこの新規物質の構造決定のための
分析結果を示す。 Γ融点64〜65℃ Γ元素分析値 C(%) H(%) S(%) 理論値 62.71 5.92 20.93 分析値 62.63 5.75 21.01 Γ質量分析スペクトル EI m/e=306(M+) Γ 1H−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:
TMS) δ=7.25ppm(singlet 4H ベンゼン核のH) =6.06ppm(singlet 2H CH2 =) =5.58ppm(singlet 2H CH2 =) =4.13ppm(singlet 4H −S−CH2 −) =1.98ppm(singlet 6H
【式】
Γ 13C−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:
TMS) δ=191.7ppm(C=O) =142.8ppm
TMS) δ=191.7ppm(C=O) =142.8ppm
【式】
=136.1ppm
【式】
=128.6ppm
【式】
=122.9ppm(CH2=)
=32.3ppm(−S−CH2−)
=17.5ppm
【式】
Γ赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤)
1655cm-1(エステルνC=0)
なお、この新規物質()の 1H−NMRスペ
クトルを第1図に、 13C−NMRスペクトルを第
2図に、赤外線吸収スペクトルを第3図に示す。
クトルを第1図に、 13C−NMRスペクトルを第
2図に、赤外線吸収スペクトルを第3図に示す。
第1図は実施例1で得られた新規物質()の
TMS基準に従つた、重クロロホルム溶媒におけ
る 1H−NMRスペクトル図である。第2図は実
施例1で得られた新規物質()のTMS基準に
従つた、重クロロホルム溶媒における 13C−
NMRスペクトル図である。第3図は実施例1で
得られた新規物質()のKBr錠剤における赤
外線吸収スペクトル図である。
TMS基準に従つた、重クロロホルム溶媒におけ
る 1H−NMRスペクトル図である。第2図は実
施例1で得られた新規物質()のTMS基準に
従つた、重クロロホルム溶媒における 13C−
NMRスペクトル図である。第3図は実施例1で
得られた新規物質()のKBr錠剤における赤
外線吸収スペクトル図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式で示される新規チオールカルボン酸エ
ステル。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18657287A JPS6431759A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Novel thiolcarboxylic acid ester |
DE8787311203T DE3763968D1 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Ester von thiolcarboxylsaeuren. |
US07/135,045 US4810812A (en) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Thiolcarboxylic acid esters |
EP87311203A EP0273661B1 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Thiolcarboxylic acid esters |
AT87311203T ATE54909T1 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-18 | Ester von thiolcarboxylsaeuren. |
AU82869/87A AU593416B2 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-21 | Thiolcarboxylic acid esters |
AU82945/87A AU603404B2 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | Resin having high refractive index, process for producing said resin and optical materials composed of said resin |
CA000555242A CA1267909A (en) | 1986-12-26 | 1987-12-23 | Thiolcarboxylic acid esters |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18657287A JPS6431759A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Novel thiolcarboxylic acid ester |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6431759A JPS6431759A (en) | 1989-02-02 |
JPH0359061B2 true JPH0359061B2 (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=16190881
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18657287A Granted JPS6431759A (en) | 1986-12-26 | 1987-07-28 | Novel thiolcarboxylic acid ester |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6431759A (ja) |
-
1987
- 1987-07-28 JP JP18657287A patent/JPS6431759A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6431759A (en) | 1989-02-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |