JPH0346545B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0346545B2 JPH0346545B2 JP58174774A JP17477483A JPH0346545B2 JP H0346545 B2 JPH0346545 B2 JP H0346545B2 JP 58174774 A JP58174774 A JP 58174774A JP 17477483 A JP17477483 A JP 17477483A JP H0346545 B2 JPH0346545 B2 JP H0346545B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base body
- mandrel
- particles
- substrate
- particle flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
１ 産業上の利用分野
本発明は薄膜形成装置に関するものである。
２ 従来技術
従来、多数の開口（特に、微細なメツシユ状開
口）を有する感光性スクリーンに静電荷像を形成
し、この静電荷像によりイオン流（例えば正イオ
ン粒子）の通過を制御して、帯電可能な層（例え
ば感光体ドラムの感光層）に所定の静電荷像を形
成する多色電子写真複写方式が知られている。
口）を有する感光性スクリーンに静電荷像を形成
し、この静電荷像によりイオン流（例えば正イオ
ン粒子）の通過を制御して、帯電可能な層（例え
ば感光体ドラムの感光層）に所定の静電荷像を形
成する多色電子写真複写方式が知られている。
第１図には、例えば白地に黒色画像部と赤色画
像部とからなる２色原稿から画像を再現するため
の２色刷り用複写機が示されている。この装置本
体の上部には往復動する原稿台４１が設けられて
おり、この原稿台４１上に裁置された原稿２５は
照明ランプ４２により照明される。４３，４４は
ミラー、４５は固定レンズ、４６は光路中に出入
れし得るように構成された可動の赤色フイルタ
ー、４７は赤色光を反射させ、赤色と補色関係に
あるシアン色は通過させる可動式のダイクロイツ
クフイルターであり、光路中に出入れし得るよう
に構成されている。第１図では赤色フイルター４
６は光路からはずれ、ダイクロイツクフイルター
４７は光路中に配置されている状態を示してい
る。ドラム状をなした感光体５３の表面に感光層
１８が設けられ、感光体５３が時計方向に回転す
ると感光層１８がコロナ帯電器５４によつて均一
に帯電される。感光層１８はセレンあるいは有機
半導体などにより作られる。感光体５３の周辺に
は、感光層１８を均一に帯電する帯電器５４と、
正に帯電された黒色トナーを有する黒色現像器４
８と、正に帯電された赤色トナーを有する赤色現
像器４９と、感光層１８上に残留するトナーおよ
び電荷を除去するクリーニング装置３０とが配置
されている。３１は感光体５３と同径で、感光層
１８と接触して従動するか又は反時計方向に回転
する転写ドラムである。６３はコロナ放電器から
なる転写電極、３２は複写紙給紙皿、３３は複写
紙給紙皿３２に収納された複写紙５２を一枚ずつ
給紙する給紙ローラ、３４は複写紙を転写ドラム
３１に搬送する第１搬送ローラ、３５は転写後に
複写ドラム３１から分離し易くするための除電を
行なう静電分離器、３６は複写紙をドラム３１か
ら強制的に分離する分離爪である。
像部とからなる２色原稿から画像を再現するため
の２色刷り用複写機が示されている。この装置本
体の上部には往復動する原稿台４１が設けられて
おり、この原稿台４１上に裁置された原稿２５は
照明ランプ４２により照明される。４３，４４は
ミラー、４５は固定レンズ、４６は光路中に出入
れし得るように構成された可動の赤色フイルタ
ー、４７は赤色光を反射させ、赤色と補色関係に
あるシアン色は通過させる可動式のダイクロイツ
クフイルターであり、光路中に出入れし得るよう
に構成されている。第１図では赤色フイルター４
６は光路からはずれ、ダイクロイツクフイルター
４７は光路中に配置されている状態を示してい
る。ドラム状をなした感光体５３の表面に感光層
１８が設けられ、感光体５３が時計方向に回転す
ると感光層１８がコロナ帯電器５４によつて均一
に帯電される。感光層１８はセレンあるいは有機
半導体などにより作られる。感光体５３の周辺に
は、感光層１８を均一に帯電する帯電器５４と、
正に帯電された黒色トナーを有する黒色現像器４
８と、正に帯電された赤色トナーを有する赤色現
像器４９と、感光層１８上に残留するトナーおよ
び電荷を除去するクリーニング装置３０とが配置
されている。３１は感光体５３と同径で、感光層
１８と接触して従動するか又は反時計方向に回転
する転写ドラムである。６３はコロナ放電器から
なる転写電極、３２は複写紙給紙皿、３３は複写
紙給紙皿３２に収納された複写紙５２を一枚ずつ
給紙する給紙ローラ、３４は複写紙を転写ドラム
３１に搬送する第１搬送ローラ、３５は転写後に
複写ドラム３１から分離し易くするための除電を
行なう静電分離器、３６は複写紙をドラム３１か
ら強制的に分離する分離爪である。
また、３７はヒーター内蔵の定着装置である。
但、実際には複写紙５２を案内するガイド板を
設けるが、この図示は省略されている。
設けるが、この図示は省略されている。
一方、感光層１８の外側には、光導電層が面す
るように円筒状をなした感光性スクリーンドラム
１７が配され、このドラム１７は原稿台４１およ
び感光層１８と同期して反時計方向に回転し得る
ように配置されている。また、このドラム１７の
外側周辺には、スクリーン帯電器２８と、感光ス
クリーンドラム１７上に残留する電荷を除去する
EL（エレクトロルミネセンス）板またはACコロ
ナ除電器などで作つたスクリーン除電器３９と、
感光性スクリーンドラム１７の内側で感光体５３
に対向する位置に荷電粒子を投射する荷電粒子源
（コロナ放電器）１９とが設けられている。
るように円筒状をなした感光性スクリーンドラム
１７が配され、このドラム１７は原稿台４１およ
び感光層１８と同期して反時計方向に回転し得る
ように配置されている。また、このドラム１７の
外側周辺には、スクリーン帯電器２８と、感光ス
クリーンドラム１７上に残留する電荷を除去する
EL（エレクトロルミネセンス）板またはACコロ
ナ除電器などで作つたスクリーン除電器３９と、
感光性スクリーンドラム１７の内側で感光体５３
に対向する位置に荷電粒子を投射する荷電粒子源
（コロナ放電器）１９とが設けられている。
この感光性スクリーン１７は、第２図に示す如
く、多数の、微細開口１０を有しかつ一方の面が
露出したドラム状導電性スクリーン１１と、この
導電性スクリーンの少なくとも他方の面に設けら
れた（図示の例では開口１０内の壁面にも設けら
れている）絶縁層１３と、この絶縁層上に設けら
れたバイアス用のAl等の導電膜１４と、光導電
性（感光）層１５と、電荷輸送層１６とによつて
構成されている。導電性スクリーン１１はステン
レス、Al等の金属メツシユで、絶縁層１３はポ
リエチレン等で、感光層１５及び電荷輸送層１６
は有機光半導体で夫々形成される。
く、多数の、微細開口１０を有しかつ一方の面が
露出したドラム状導電性スクリーン１１と、この
導電性スクリーンの少なくとも他方の面に設けら
れた（図示の例では開口１０内の壁面にも設けら
れている）絶縁層１３と、この絶縁層上に設けら
れたバイアス用のAl等の導電膜１４と、光導電
性（感光）層１５と、電荷輸送層１６とによつて
構成されている。導電性スクリーン１１はステン
レス、Al等の金属メツシユで、絶縁層１３はポ
リエチレン等で、感光層１５及び電荷輸送層１６
は有機光半導体で夫々形成される。
この感光性スクリーン１７の製作に際し、特に
上記導電膜１４は第３図に示す如くAl蒸発源２
０の蒸着によつて形成される。ところがこの場
合、蒸発源２０からのAl蒸気２１のうち、スク
リーン基体１１へ向かう部分２１′は基体のメツ
シユ状開口１０を通して反対側へ飛翔して、基体
１１の裏側へ廻り込み易いか、或いは基体１１の
裏面へ直接付着してしまう。この結果、第４図の
ように裏面に付着したAl部分によつて導電膜１
４と基体１１とが導通（短絡）してしまうことに
なり、不適当である。
上記導電膜１４は第３図に示す如くAl蒸発源２
０の蒸着によつて形成される。ところがこの場
合、蒸発源２０からのAl蒸気２１のうち、スク
リーン基体１１へ向かう部分２１′は基体のメツ
シユ状開口１０を通して反対側へ飛翔して、基体
１１の裏側へ廻り込み易いか、或いは基体１１の
裏面へ直接付着してしまう。この結果、第４図の
ように裏面に付着したAl部分によつて導電膜１
４と基体１１とが導通（短絡）してしまうことに
なり、不適当である。
３ 発明の目的
本発明の目的は、基体の裏面へ粒子の付着を充
二分に防止できる装置を提供することにある。
二分に防止できる装置を提供することにある。
４ 発明の構成及びその作用効果
即ち、本発明は、
薄膜構成物質の粒子を飛翔させ、対向配置され
た基体上に堆積させる薄膜形成装置において、 前記基体が、筒状に配置されて筒状体を構成し
かつこの筒状体の内側と外側とを連通させる複数
の連通孔が形成された基体であつて、 この基体をその両端部の内周面で支持するマン
ドレルが、基体内周の前記両端部以外の全領域で
前記基体に対して所定の間〓を隔てるように前記
基体の内側に設けられ、 この基体の近傍に、単一の粒子流通過口が形成
された粒子流制御手段が配設され、 前記基体の外側に設けられた前記粒子の飛翔源
（例えば蒸発源やスプレーノズル）から前記粒子
流通過口を介して、前記マンドルの回転に伴つて
回転する前記基体に向けて一定角度の所定方向か
ら前記粒子を導くように構成されている ことを特徴とする薄膜形成装置に係る。
た基体上に堆積させる薄膜形成装置において、 前記基体が、筒状に配置されて筒状体を構成し
かつこの筒状体の内側と外側とを連通させる複数
の連通孔が形成された基体であつて、 この基体をその両端部の内周面で支持するマン
ドレルが、基体内周の前記両端部以外の全領域で
前記基体に対して所定の間〓を隔てるように前記
基体の内側に設けられ、 この基体の近傍に、単一の粒子流通過口が形成
された粒子流制御手段が配設され、 前記基体の外側に設けられた前記粒子の飛翔源
（例えば蒸発源やスプレーノズル）から前記粒子
流通過口を介して、前記マンドルの回転に伴つて
回転する前記基体に向けて一定角度の所定方向か
ら前記粒子を導くように構成されている ことを特徴とする薄膜形成装置に係る。
本発明によれば、筒状に配置された基体の内側
にマンドレルを設け、かつ、単一の粒子流通過口
を介して一定角度の所定方向から粒子を基体に向
けて導くようにしているので、基体の連通孔を通
つて基体内側に飛翔してきた粒子はマンドレルに
付着し、基体の内側の面に浮遊粒子が付着するこ
と（廻り込みによる付着も含む）や直接付着する
ことを効果的に防止する。その上、筒状に配置さ
れた基体は、マンドレルに支持されてこのマンド
レルの回転によつて回転することになり、支持と
回転との双方が安定であり、従つて、形成される
薄膜は均一なものになる。
にマンドレルを設け、かつ、単一の粒子流通過口
を介して一定角度の所定方向から粒子を基体に向
けて導くようにしているので、基体の連通孔を通
つて基体内側に飛翔してきた粒子はマンドレルに
付着し、基体の内側の面に浮遊粒子が付着するこ
と（廻り込みによる付着も含む）や直接付着する
ことを効果的に防止する。その上、筒状に配置さ
れた基体は、マンドレルに支持されてこのマンド
レルの回転によつて回転することになり、支持と
回転との双方が安定であり、従つて、形成される
薄膜は均一なものになる。
５ 実施例
以下、本発明の実施例を第５図〜第１１図につ
いて説明する。
いて説明する。
第５図には、既述した感光性スクリーンの導電
性スクリーン基体１１（実際にはその表面又は外
面上に絶縁層１３が既に形成されている。）と、
Al蒸発源２０とを10-4〜10-5Torrの真空度に引
かれたベルシヤー（図示省略）内に配し、基体上
にAl蒸着膜（既述の１４）を形成する真空蒸着
方法又はその装置を示す。スクリーン基体１１
は、マンドレル２２の周りにセツトされ、共に例
えば15rpmの速度で回転し得るように配されてい
る。この場合、基体１１と蒸発源２０との間の領
域において、基体１１の近傍にスリツト２３付き
の遮蔽板２４を設けることが考えられる。この場
合には、第６図に明示する如く、蒸発源２０から
のAl蒸気は、一点鎖線２１′で示す斜め方向の成
分は遮蔽板２４によつて完全に遮断され、基体１
１に対して規制された粒子流２１のみがスリツト
２３を通して導びかれ、絶縁層１３上に順次堆積
するように構成している。また実際には、スリツ
ト２３の幅を５mmとすれば、このスリツト幅内に
は第６図に示すように基体１１のメツシユ構成部
分が多数個（例えば20個）分収まるように構成さ
れる。
性スクリーン基体１１（実際にはその表面又は外
面上に絶縁層１３が既に形成されている。）と、
Al蒸発源２０とを10-4〜10-5Torrの真空度に引
かれたベルシヤー（図示省略）内に配し、基体上
にAl蒸着膜（既述の１４）を形成する真空蒸着
方法又はその装置を示す。スクリーン基体１１
は、マンドレル２２の周りにセツトされ、共に例
えば15rpmの速度で回転し得るように配されてい
る。この場合、基体１１と蒸発源２０との間の領
域において、基体１１の近傍にスリツト２３付き
の遮蔽板２４を設けることが考えられる。この場
合には、第６図に明示する如く、蒸発源２０から
のAl蒸気は、一点鎖線２１′で示す斜め方向の成
分は遮蔽板２４によつて完全に遮断され、基体１
１に対して規制された粒子流２１のみがスリツト
２３を通して導びかれ、絶縁層１３上に順次堆積
するように構成している。また実際には、スリツ
ト２３の幅を５mmとすれば、このスリツト幅内に
は第６図に示すように基体１１のメツシユ構成部
分が多数個（例えば20個）分収まるように構成さ
れる。
このように、スリツト２３付きの遮蔽板２４に
よつて、Al蒸気（又は分子）の規制された粒子
２１のみを選択して基体１１上に導びけば、基体
１１の表面又は外面上にのみAlを堆積させるこ
とが期待できる。しかし、既述した如く、Al粒
子には基体１１のメツシユ状開口１０を通過して
基体裏面側へ飛翔する部分もあるので、そのまま
では裏面への粒子付着は防止できない。この事態
は、本例による上記マンドレル２２の配置によつ
て効果的に阻止される。
よつて、Al蒸気（又は分子）の規制された粒子
２１のみを選択して基体１１上に導びけば、基体
１１の表面又は外面上にのみAlを堆積させるこ
とが期待できる。しかし、既述した如く、Al粒
子には基体１１のメツシユ状開口１０を通過して
基体裏面側へ飛翔する部分もあるので、そのまま
では裏面への粒子付着は防止できない。この事態
は、本例による上記マンドレル２２の配置によつ
て効果的に阻止される。
即ち、基体裏面側へ飛翔してきた粒子２１′は
第６図に明示する如く、マンドレル２２上に当た
り、ここで付着せしめられるために、基体１１の
裏面へはもはや付着できなくなるのである。ま
た、既述した廻り込みについても、裏面側で浮遊
する粒子がマンドレル２２上に付着されるため
に、かなり減少させることができる。
第６図に明示する如く、マンドレル２２上に当た
り、ここで付着せしめられるために、基体１１の
裏面へはもはや付着できなくなるのである。ま
た、既述した廻り込みについても、裏面側で浮遊
する粒子がマンドレル２２上に付着されるため
に、かなり減少させることができる。
上述したマンドレル２２について、第７図を用
いてより詳細に説明する。
いてより詳細に説明する。
このマンドレル２２は、基体１１の内周に近接
して設けられているので、基体１１のメツシユを
通過したAl粒子はマンドレル２２で阻止され、
基体１１の他の内面への付着が効果的に防止され
る。この場合、マンドレル２２は実際には、その
本体２２′が追加のスリーブ２５と接合、一体化
され、このスリーブ２５上の両端に嵌め込まれた
リング２６に対し上述した基体１１が安定に固定
される。ここでは、本体２２′とスリーブ２５と
の組合せを「マンドレル」と称する。マンドレル
２２と基体１１との間隔ｄは１mm以上あればよ
く、10〜20mmとすることも可能である。この間隔
が存在することによつて、製膜後に基体１１をマ
ンドレルから取外し易くなり、またマンドレル２
２に対しセツトもし易くなる。
して設けられているので、基体１１のメツシユを
通過したAl粒子はマンドレル２２で阻止され、
基体１１の他の内面への付着が効果的に防止され
る。この場合、マンドレル２２は実際には、その
本体２２′が追加のスリーブ２５と接合、一体化
され、このスリーブ２５上の両端に嵌め込まれた
リング２６に対し上述した基体１１が安定に固定
される。ここでは、本体２２′とスリーブ２５と
の組合せを「マンドレル」と称する。マンドレル
２２と基体１１との間隔ｄは１mm以上あればよ
く、10〜20mmとすることも可能である。この間隔
が存在することによつて、製膜後に基体１１をマ
ンドレルから取外し易くなり、またマンドレル２
２に対しセツトもし易くなる。
但、構造的にみて、上記のスリーブ２５は必ず
しも設けなくてもよい。
しも設けなくてもよい。
第８図は、他の蒸着装置を示すが、この場合に
は、基体１１にバイアス電圧２７をかけ、蒸発源
２０からの粒子２１を電子銃２８からの電子によ
つて活性化若しくはイオン化することにより、粒
子２１の基体１１上への吸着効率を高めている。
は、基体１１にバイアス電圧２７をかけ、蒸発源
２０からの粒子２１を電子銃２８からの電子によ
つて活性化若しくはイオン化することにより、粒
子２１の基体１１上への吸着効率を高めている。
第９図は、コイル電極２９に高周波３８を加
え、公知のRFイオンプレーテイングと同様の原
理で、Arガスを導入しながら蒸着を行なう例で
ある。
え、公知のRFイオンプレーテイングと同様の原
理で、Arガスを導入しながら蒸着を行なう例で
ある。
第１０図は、スパツタ法によりAl膜を形成す
る例を示し、Alターゲツト４０をArガスによる
プラズマでスパツタし、叩き出されたAl粒子又
はクラスターをスリツト２３を介して基体１１上
にほぼ垂直に入射させ、上述したAl導電膜１４
を形成する。
る例を示し、Alターゲツト４０をArガスによる
プラズマでスパツタし、叩き出されたAl粒子又
はクラスターをスリツト２３を介して基体１１上
にほぼ垂直に入射させ、上述したAl導電膜１４
を形成する。
第１１図は、上述した各例とは違つて、Al等
の金属以外の物質を製膜する装置を示す。
の金属以外の物質を製膜する装置を示す。
例えば、容器５０に収容した絶縁材料５１をス
プレーガン５５によつて基体１１に吹付け、これ
によつて上述した絶縁層１３を形成することもで
きる。この場合にも、マンドレル２２の存在によ
つて、絶縁材料の飛翔粒子（実際には溶媒との混
合物）が基体１１の裏側へ付着することを防止す
ることができる。
プレーガン５５によつて基体１１に吹付け、これ
によつて上述した絶縁層１３を形成することもで
きる。この場合にも、マンドレル２２の存在によ
つて、絶縁材料の飛翔粒子（実際には溶媒との混
合物）が基体１１の裏側へ付着することを防止す
ることができる。
なお、本発明は、上述の感光性スクリーンに限
らず、他の薄膜、例えば垂直磁気記録層（例えば
Co−Cr膜）の形成にも適用可能であり、その用
途は広範である。また、上述の遮蔽板は複数板組
合せてよいし、スリツトに対し粒子流が収束する
ような電界又は磁界を作用させてもよい。また、
上述のマンドレル２２は種々に形状を変更してよ
いし、或いはマンドレルに代る他の粒子除去手
段、例えば基体の内側を強制的に排気する手段
（ブロワを含む。）を設けてもよい。また、基体の
断面形状は矩形状等、他の形状であつてよい。
らず、他の薄膜、例えば垂直磁気記録層（例えば
Co−Cr膜）の形成にも適用可能であり、その用
途は広範である。また、上述の遮蔽板は複数板組
合せてよいし、スリツトに対し粒子流が収束する
ような電界又は磁界を作用させてもよい。また、
上述のマンドレル２２は種々に形状を変更してよ
いし、或いはマンドレルに代る他の粒子除去手
段、例えば基体の内側を強制的に排気する手段
（ブロワを含む。）を設けてもよい。また、基体の
断面形状は矩形状等、他の形状であつてよい。
第１図〜第４図は従来例を示すものであつて、
第１図は２色刷り用電子写真複写機の概略断面
図、第２図は感光性スクリーンの一部拡大断面
図、第３図は蒸着時の断面図、第４図は蒸着後の
感光性スクリーンの断面図である。第５図〜第１
１図は本発明の実施例を示すものであつて、第５
図は蒸着時の断面図、第６図は第５図の要部拡大
図、第７図は基体保持構造を示す断面図、第８
図、第９図、第１０図、第１１図は他の製造装置
の各概略図である。 なお、図面に示した符号において、１０……メ
ツシユ状開口、１１……導電性スクリーン基体、
１３……絶縁層、１４……（Al）導電膜、１５
……感光層、１６……電荷輸送層、１７……感光
性スクリーン、２０……蒸発源、２１……Al蒸
気、２２……マンドレル、２３……スリツト、２
４……遮蔽板である。
第１図は２色刷り用電子写真複写機の概略断面
図、第２図は感光性スクリーンの一部拡大断面
図、第３図は蒸着時の断面図、第４図は蒸着後の
感光性スクリーンの断面図である。第５図〜第１
１図は本発明の実施例を示すものであつて、第５
図は蒸着時の断面図、第６図は第５図の要部拡大
図、第７図は基体保持構造を示す断面図、第８
図、第９図、第１０図、第１１図は他の製造装置
の各概略図である。 なお、図面に示した符号において、１０……メ
ツシユ状開口、１１……導電性スクリーン基体、
１３……絶縁層、１４……（Al）導電膜、１５
……感光層、１６……電荷輸送層、１７……感光
性スクリーン、２０……蒸発源、２１……Al蒸
気、２２……マンドレル、２３……スリツト、２
４……遮蔽板である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 薄膜構成物質の粒子を飛翔させ、対向配置さ
れた基体上に堆積させる薄膜形成装置において、 前記基体が、筒状に配置されて筒状体を構成し
かつこの筒状体の内側と外側とを連通させる複数
の連通孔が形成された基体であつて、 この基体をその両端部の内周面で支持するマン
ドレルが、基体内周の前記両端部以外の全領域で
前記基体に対して所定の間〓を隔てるように前記
基体の内側に設けられ、 この基体の近傍に、単一の粒子流通過口が形成
された粒子流制御手段が配設され、 前記基体の外側に設けられた前記粒子の飛翔源
から前記粒子流通過口を介して、前記マンドレル
の回転に伴つて回転する前記基体に向けて一定角
度の所定方向から前記粒子を導くように構成され
ている ことを特徴とする薄膜形成装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17477483A JPS6067663A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 薄膜形成装置 |
| US06/649,858 US4601922A (en) | 1983-09-21 | 1984-09-12 | Method of forming a layer of thin film on a substrate having a multiplicity of mesh-like holes |
| DE19843434433 DE3434433A1 (de) | 1983-09-21 | 1984-09-19 | Verfahren und vorrichtung zum erzeugen einer duennen schicht auf einem substrat |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17477483A JPS6067663A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 薄膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6067663A JPS6067663A (ja) | 1985-04-18 |
| JPH0346545B2 true JPH0346545B2 (ja) | 1991-07-16 |
Family
ID=15984429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17477483A Granted JPS6067663A (ja) | 1983-09-21 | 1983-09-21 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6067663A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2410080A1 (en) | 2010-07-20 | 2012-01-25 | Japan Super Quartz Corporation | Vitreous silica crucible and method of manufacturing silicon ingot |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW495812B (en) | 2000-03-06 | 2002-07-21 | Semiconductor Energy Lab | Thin film forming device, method of forming a thin film, and self-light-emitting device |
| CN109476121B (zh) * | 2016-08-29 | 2021-03-09 | 东丽株式会社 | 层叠体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5884970A (ja) * | 1981-11-12 | 1983-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空メツキ装置 |
-
1983
- 1983-09-21 JP JP17477483A patent/JPS6067663A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2410080A1 (en) | 2010-07-20 | 2012-01-25 | Japan Super Quartz Corporation | Vitreous silica crucible and method of manufacturing silicon ingot |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6067663A (ja) | 1985-04-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4634259A (en) | Apparatus for maintaining distinct edges between two colors in a two-color image forming device | |
| GB2150465A (en) | Electrophotographic developing apparatus | |
| EP0098178B1 (en) | Toner containment method and apparatus | |
| JPS6364785B2 (ja) | ||
| JP2750245B2 (ja) | 団粒除去装置及びプリント装置 | |
| JPH0346545B2 (ja) | ||
| US20130127969A1 (en) | Print head element, print head and ionographic printing apparatus | |
| US4601922A (en) | Method of forming a layer of thin film on a substrate having a multiplicity of mesh-like holes | |
| EP0036290B1 (en) | Apparatus for cleaning particles from a surface | |
| JPH0344143B2 (ja) | ||
| JPH0350831B2 (ja) | ||
| JPH0323629B2 (ja) | ||
| JPH0346544B2 (ja) | ||
| JPH0352532B2 (ja) | ||
| US5278621A (en) | System for removing foreign matter on photosensitive body or developer carrying body in image forming apparatus | |
| US4265531A (en) | Electrophotography | |
| JPH0215063B2 (ja) | ||
| JPH0341832B2 (ja) | ||
| JP2672806B2 (ja) | 記録方法 | |
| JP2005134901A (ja) | 電子写真印刷機 | |
| JPS6118460A (ja) | スプレ−塗布方法及びその装置 | |
| JP3094614B2 (ja) | 帯電装置 | |
| JPH05289594A (ja) | 磁気ブラシクリーニング装置 | |
| JPS58220162A (ja) | 画像形成装置 | |
| JPH0368747B2 (ja) |