JPH0344580A - 半導体装置用バイアステスト基板 - Google Patents
半導体装置用バイアステスト基板Info
- Publication number
- JPH0344580A JPH0344580A JP1179484A JP17948489A JPH0344580A JP H0344580 A JPH0344580 A JP H0344580A JP 1179484 A JP1179484 A JP 1179484A JP 17948489 A JP17948489 A JP 17948489A JP H0344580 A JPH0344580 A JP H0344580A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminal
- sockets
- semiconductor device
- bias
- connection pattern
- Prior art date
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- Pending
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体装置用バイアステスト基板に関し、特
に、半導体装置の端子に印加するバイアスレベルを別途
準備する基板を変えることにより半導体装置ごとにそれ
ぞれ設定できるという特徴を有している半導体装置用バ
イアステスト基板に関する。
に、半導体装置の端子に印加するバイアスレベルを別途
準備する基板を変えることにより半導体装置ごとにそれ
ぞれ設定できるという特徴を有している半導体装置用バ
イアステスト基板に関する。
従来の技術
従来、この種の半導体装置用バイアステスト基板は第5
図に示すように、半導体装置の端子に印加するバイアス
電位が固定となっていた。
図に示すように、半導体装置の端子に印加するバイアス
電位が固定となっていた。
第5図において、1〜10はソケットの端子番号、21
は半導体装置用ソケット、22は保護抵抗、23は電源
部ラッチアップ保護用抵抗をそれぞれ示している。
は半導体装置用ソケット、22は保護抵抗、23は電源
部ラッチアップ保護用抵抗をそれぞれ示している。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上述した従来の半導体装置バイアステス
ト基板は、半導体装置に印加されるバイアス電位が固定
となっている為に、半導体装置の端子の並びが異なると
、正しいバイアスが印加できなくなるか或いは全く使用
できないという欠点がある。
ト基板は、半導体装置に印加されるバイアス電位が固定
となっている為に、半導体装置の端子の並びが異なると
、正しいバイアスが印加できなくなるか或いは全く使用
できないという欠点がある。
本発明は従来の上記実情に鑑みてなされたものであり、
従って本発明の目的は、従来の技術に内在する上記欠点
を解消することを可能とした新規な半導体装置用バイア
ステスト基板を提供することにある。
従って本発明の目的は、従来の技術に内在する上記欠点
を解消することを可能とした新規な半導体装置用バイア
ステスト基板を提供することにある。
発明の従来技術に対する相違点
上述した従来の半導体装置バイアステスト基板に対して
、本発明は、半導体装置のバイアスレベルを別に準備す
る基板により変更できるという相違点を有している。
、本発明は、半導体装置のバイアスレベルを別に準備す
る基板により変更できるという相違点を有している。
課題を解決するための手段
前記目的を達成する為に、本発明に係る半導体装置用バ
イアステスト基板は、複数個の半導体装置用ソケットの
同一位置の第1の端子が並列に接続され、その各々の第
1の端子が、多層基板上に設けられ第2の端子がアレイ
状に配列された接続パターン用ソケッ1−のある任意の
1列に接続され、この接続パターン用ソケットの残りの
端子が各々GND 、 VDD及び保護抵抗に接続され
る構成と、前記接続パターン用ソケットに挿入されてバ
イアスレベルを前記第1の端子ごとに決める接続パター
ン基板を含み構成される。
イアステスト基板は、複数個の半導体装置用ソケットの
同一位置の第1の端子が並列に接続され、その各々の第
1の端子が、多層基板上に設けられ第2の端子がアレイ
状に配列された接続パターン用ソケッ1−のある任意の
1列に接続され、この接続パターン用ソケットの残りの
端子が各々GND 、 VDD及び保護抵抗に接続され
る構成と、前記接続パターン用ソケットに挿入されてバ
イアスレベルを前記第1の端子ごとに決める接続パター
ン基板を含み構成される。
実施例
次に本発明をその好ましい一実施例について図面を参照
して具体的に説明する。
して具体的に説明する。
第1図(a)、(b)は本発明の一実施例を示す斜視図
であり、第2図(a)、(b)は第1図(a)、(b)
に対応する本発明結線を示す概略図である。
であり、第2図(a)、(b)は第1図(a)、(b)
に対応する本発明結線を示す概略図である。
第1図(a)、(b)を参照するに、参照番号11は半
導体装置用ソケット、12は接続パターン用ソケット、
13は保護抵抗、14は多層基板、15は接続パターン
基板、16は端子、17は接続パターン、18はガイド
ピンをそれぞれ示す。
導体装置用ソケット、12は接続パターン用ソケット、
13は保護抵抗、14は多層基板、15は接続パターン
基板、16は端子、17は接続パターン、18はガイド
ピンをそれぞれ示す。
第2図に示すように、VDD端子及びGND端子は固定
とされている。その他の端子は、半導体装置用ソケット
11に挿入されるLSIの端子に接続されている内部の
回路により出力、入力ハイクランプ、入力ロウクランプ
、GNDの4種類に合うように別途準備する基板のパタ
ーンを変更させる。第2図においては、半導体装置用ソ
ケット11の端子1及び2がハイクランプ、端子3はG
ND 、端子4はロウクランプ、端子5が出力、端子6
はVDDとなっている。
とされている。その他の端子は、半導体装置用ソケット
11に挿入されるLSIの端子に接続されている内部の
回路により出力、入力ハイクランプ、入力ロウクランプ
、GNDの4種類に合うように別途準備する基板のパタ
ーンを変更させる。第2図においては、半導体装置用ソ
ケット11の端子1及び2がハイクランプ、端子3はG
ND 、端子4はロウクランプ、端子5が出力、端子6
はVDDとなっている。
第1図(a)、(b) 、第2図(a)、(b)を参照
するに、多層基板14上には複数個の半導体装置用ンテ
ット11.接続パターン用ソケット12及びガイドビン
18が形成されている。半導体装置用ソケット11の同
一位置の端子1〜6は図示の如くそれぞれ並列に接続さ
れている。接続パターン用ソケット12にはGND 、
VDDライン及び保護抵抗13をきむ端子がアレイ状
に配列されている。
するに、多層基板14上には複数個の半導体装置用ンテ
ット11.接続パターン用ソケット12及びガイドビン
18が形成されている。半導体装置用ソケット11の同
一位置の端子1〜6は図示の如くそれぞれ並列に接続さ
れている。接続パターン用ソケット12にはGND 、
VDDライン及び保護抵抗13をきむ端子がアレイ状
に配列されている。
各半導体装置用ソケット】1の共通接続された同一位置
の各端子の接続点は接続パターン用ソゲット12の任意
の列に接続されている。本発明の図示された実施例にお
いては、各半導体装置用ソケット11の各端子1の接続
点は接続パターン用ソケット12の1列目の端子に接続
され、各端子2の接続点はソケット12の2列目の端子
に、各端子3の接続点はソケット12のGNDラインに
、各端子4の接続点はソケット12の4列目の端子に、
各端子5の接続点はソケット12の5列目の端子に、各
端子6の接続点はソケット12のVDDラインに、それ
ぞれ接続されている。
の各端子の接続点は接続パターン用ソゲット12の任意
の列に接続されている。本発明の図示された実施例にお
いては、各半導体装置用ソケット11の各端子1の接続
点は接続パターン用ソケット12の1列目の端子に接続
され、各端子2の接続点はソケット12の2列目の端子
に、各端子3の接続点はソケット12のGNDラインに
、各端子4の接続点はソケット12の4列目の端子に、
各端子5の接続点はソケット12の5列目の端子に、各
端子6の接続点はソケット12のVDDラインに、それ
ぞれ接続されている。
接続パターン用ソケット12には接続パターン17が形
成された接続パターン基板15が挿入され、これらの接
続パターン17によって半導体ソケット11の各端子1
〜6のハイレベルが設定される。
成された接続パターン基板15が挿入され、これらの接
続パターン17によって半導体ソケット11の各端子1
〜6のハイレベルが設定される。
第3図、第4図は本発明に使用される接続パターン基板
の池の実施例(変形例〉を示す概略構成図である。
の池の実施例(変形例〉を示す概略構成図である。
第3図に示した第1の変形例では、プルアップ(pul
l−up )及びプルダウン(pull−down )
の抵抗を接続パターン基板上に実装することにより変え
られるという利点がある。
l−up )及びプルダウン(pull−down )
の抵抗を接続パターン基板上に実装することにより変え
られるという利点がある。
第4図に示した第2の変形例では、接続パターンを第4
図のようにして、外部信号印加装置により5M1lz、
10MHzのような希望の周波数の信号を印加するこ
とによって、ダイナミックバイアステストを実現できる
。
図のようにして、外部信号印加装置により5M1lz、
10MHzのような希望の周波数の信号を印加するこ
とによって、ダイナミックバイアステストを実現できる
。
発明の詳細
な説明したように、本発明によれば、別途準備する接続
パターン基板を変えることにより各々の端子のバイアス
レベルを変えることができる為に より正確でフレキシ
ビリデイの高いバイアステストがプログラマブルに行え
、更にダイナミックバイアステストも実現できるという
利点が得られる。
パターン基板を変えることにより各々の端子のバイアス
レベルを変えることができる為に より正確でフレキシ
ビリデイの高いバイアステストがプログラマブルに行え
、更にダイナミックバイアステストも実現できるという
利点が得られる。
第1図(a)、(b)は本発明の一実施例を示す斜視図
、第2図(a)、(b)は第1図(a)、(b)に対応
する本発明の結線の一例を示す概略図、第3図及び第4
図は接続パターン基板の他の変形例を示す概略図、第5
図は従来におけるこの種の半導体装置用バイアステスト
基板の回路例を示す図である。 1〜10・・・端子番号、 11.21・・・半導体装
置用ソケット、12・・・接続パターン用ソケット、1
3,19゜22.23・・・保護抵抗、14・・・多層
基板、15・・・接続パターン基板、16・・・端子、
17・・・接続パターン、18・・・ガイドビン、20
・・・配線
、第2図(a)、(b)は第1図(a)、(b)に対応
する本発明の結線の一例を示す概略図、第3図及び第4
図は接続パターン基板の他の変形例を示す概略図、第5
図は従来におけるこの種の半導体装置用バイアステスト
基板の回路例を示す図である。 1〜10・・・端子番号、 11.21・・・半導体装
置用ソケット、12・・・接続パターン用ソケット、1
3,19゜22.23・・・保護抵抗、14・・・多層
基板、15・・・接続パターン基板、16・・・端子、
17・・・接続パターン、18・・・ガイドビン、20
・・・配線
Claims (1)
- 複数個の半導体装置用ソケットの同一位置の第1の端子
が並列に接続され、これらの各第1の端子が、多層基板
上に設けられGND、VDDライン及び保護抵抗を含む
第2の端子がアレイ状に配列された接続パターン用ソケ
ットのある任意の1列に接続される構成と、前記接続パ
ターン用ソケットに挿入され、バイアスレベルを各第1
の端子ごとに決める接続パターン基板とを含むことを特
徴とする半導体装置用バイアステスト基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1179484A JPH0344580A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 半導体装置用バイアステスト基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1179484A JPH0344580A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 半導体装置用バイアステスト基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0344580A true JPH0344580A (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=16066641
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1179484A Pending JPH0344580A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 半導体装置用バイアステスト基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0344580A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7400162B2 (en) | 2003-02-20 | 2008-07-15 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit testing methods using well bias modification |
US7486098B2 (en) | 2005-06-16 | 2009-02-03 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit testing method using well bias modification |
-
1989
- 1989-07-12 JP JP1179484A patent/JPH0344580A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7400162B2 (en) | 2003-02-20 | 2008-07-15 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit testing methods using well bias modification |
US7759960B2 (en) | 2003-02-20 | 2010-07-20 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit testing methods using well bias modification |
US7486098B2 (en) | 2005-06-16 | 2009-02-03 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit testing method using well bias modification |
US7564256B2 (en) | 2005-06-16 | 2009-07-21 | International Business Machines Company | Integrated circuit testing methods using well bias modification |
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