JPH0343684B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0343684B2 JPH0343684B2 JP13315582A JP13315582A JPH0343684B2 JP H0343684 B2 JPH0343684 B2 JP H0343684B2 JP 13315582 A JP13315582 A JP 13315582A JP 13315582 A JP13315582 A JP 13315582A JP H0343684 B2 JPH0343684 B2 JP H0343684B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- head
- film magnetic
- gap
- recording head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 28
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 20
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 13
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、薄膜で構成されたマルチトラツクの
記録・再生が可能なコンビネーシヨンタイプの薄
膜磁気ヘツドに関するものである。
記録・再生が可能なコンビネーシヨンタイプの薄
膜磁気ヘツドに関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来のコンビネーシヨンタイプの薄膜磁気ヘツ
ドについて第1図により説明する。記録ヘツド
は、ベース1と基板2と保護基板3と端子板4と
から構成され、記録ヘツドギヤツプ5は基板2と
保護基板3との間に蒸着等により形成されてい
る。再生ヘツドは、記録ヘツドと同様に、ベース
6と基板7と保護基板8と端子板9とから構成さ
れ、再生ヘツドギヤツプ10は記録ヘツドギヤツ
プ5と同様に、基板7と保護基板8との間に蒸着
等により形成されている。これら2つのヘツドで
シールド板11を挾み込んで接着し、記録再生一
体型のコンビネーシヨンタイプのヘツドとしたも
のである。
ドについて第1図により説明する。記録ヘツド
は、ベース1と基板2と保護基板3と端子板4と
から構成され、記録ヘツドギヤツプ5は基板2と
保護基板3との間に蒸着等により形成されてい
る。再生ヘツドは、記録ヘツドと同様に、ベース
6と基板7と保護基板8と端子板9とから構成さ
れ、再生ヘツドギヤツプ10は記録ヘツドギヤツ
プ5と同様に、基板7と保護基板8との間に蒸着
等により形成されている。これら2つのヘツドで
シールド板11を挾み込んで接着し、記録再生一
体型のコンビネーシヨンタイプのヘツドとしたも
のである。
このような従来の薄膜磁気ヘツドにおいては、
記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツドギヤツプ10
との平行度が重要である。すなわち、再生ヘツド
ギヤツプ10が磁気テープの記録信号に対して傾
き(アジマス)を持つている場合、再生信号はそ
の傾きに応じて出力が減少する。これはアジマス
ロスと呼ばれており、このアジマスロスは再生信
号の波長に反比例して大きくなる。したがつて、
短波長記録の場合、アジマスロスの影響は大きく
なる。またマルチトラツクヘツドの場合、再生ヘ
ツドギヤツプ10の傾きは、各トラツクの再生信
号の位相のずれとなつてあらわれ、デイジタル記
録の場合はそれが読み誤りの原因になる。記録再
生一体型のコンビネーシヨンタイプのヘツドの場
合は、組立時の記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツ
ドギヤツプ10との平行度が記録信号に対する再
生ヘツドの傾きとなるため、組立精度が重要にな
る。記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツドギヤツプ
10との平行度に影響を与えるのは、保護基板
3,8の厚み、シールド板11の厚み、保護基板
3,8と基板2,7との間の接着層の厚み、シー
ルド板11と保護基板3,8との間の接着層の厚
みであり、これらの7項目について平行度を高精
度に管理しなければならない。いま、角度にして
3′のアジマス精度が必要であるとすると、ヘツド
幅が8mmに対して約7μmの平行度が必要であり、
これは従来の構成では実現がたいへん困難であ
る。また、記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツドギ
ヤツプ10とを顕微鏡等で観察しながら平行度を
調整し、シールド板11を挾んで固着することに
より、精度の向上を図ることも考えられるが、こ
のような方法は非能率的で組立作業に時間がかか
るという問題がある。
記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツドギヤツプ10
との平行度が重要である。すなわち、再生ヘツド
ギヤツプ10が磁気テープの記録信号に対して傾
き(アジマス)を持つている場合、再生信号はそ
の傾きに応じて出力が減少する。これはアジマス
ロスと呼ばれており、このアジマスロスは再生信
号の波長に反比例して大きくなる。したがつて、
短波長記録の場合、アジマスロスの影響は大きく
なる。またマルチトラツクヘツドの場合、再生ヘ
ツドギヤツプ10の傾きは、各トラツクの再生信
号の位相のずれとなつてあらわれ、デイジタル記
録の場合はそれが読み誤りの原因になる。記録再
生一体型のコンビネーシヨンタイプのヘツドの場
合は、組立時の記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツ
ドギヤツプ10との平行度が記録信号に対する再
生ヘツドの傾きとなるため、組立精度が重要にな
る。記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツドギヤツプ
10との平行度に影響を与えるのは、保護基板
3,8の厚み、シールド板11の厚み、保護基板
3,8と基板2,7との間の接着層の厚み、シー
ルド板11と保護基板3,8との間の接着層の厚
みであり、これらの7項目について平行度を高精
度に管理しなければならない。いま、角度にして
3′のアジマス精度が必要であるとすると、ヘツド
幅が8mmに対して約7μmの平行度が必要であり、
これは従来の構成では実現がたいへん困難であ
る。また、記録ヘツドギヤツプ5と再生ヘツドギ
ヤツプ10とを顕微鏡等で観察しながら平行度を
調整し、シールド板11を挾んで固着することに
より、精度の向上を図ることも考えられるが、こ
のような方法は非能率的で組立作業に時間がかか
るという問題がある。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、記
録ヘツドギヤツプと再生ヘツドギヤツプとの平行
度を容易にかつ高精度に保つことのできるコンビ
ネーシヨンタイプの薄膜磁気ヘツドを得ることを
目的とする。
録ヘツドギヤツプと再生ヘツドギヤツプとの平行
度を容易にかつ高精度に保つことのできるコンビ
ネーシヨンタイプの薄膜磁気ヘツドを得ることを
目的とする。
発明の構成
上記目的を達するため、本発明の薄膜磁気ヘツ
ドは、基板の表面に蒸着等により磁気ギヤツプを
形成した薄膜記録ヘツド及び薄膜磁気ヘツドと、
これら薄膜記録ヘツド及び薄膜磁気ヘツドの基板
表面に当接する互いに平行な基準面を有するスペ
ーサとを備え、前記薄膜記録ヘツドと薄膜磁気ヘ
ツドとを前記スペーサを介して一体固着した構成
である。
ドは、基板の表面に蒸着等により磁気ギヤツプを
形成した薄膜記録ヘツド及び薄膜磁気ヘツドと、
これら薄膜記録ヘツド及び薄膜磁気ヘツドの基板
表面に当接する互いに平行な基準面を有するスペ
ーサとを備え、前記薄膜記録ヘツドと薄膜磁気ヘ
ツドとを前記スペーサを介して一体固着した構成
である。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面に基づい
て説明する。第2図および第3図において、12
はベース、13は基板、14は保護基板、15は
端子板であり、これらにより記録ヘツドが構成さ
れている。また16はベース、17は基板、18
は保護基板、19は端子板であり、これらにより
再生ヘツドが構成されている。なお20はシール
ド板、21,22はスペーサである。前記保護基
板14,18は、基板13,17よりも高さ方向
の長さが短かく、基板13,17の表面13a,
17a(13aは図面には現われていない)の上
端部及び下端部は保護基板14,18と当接して
いない。基板14,18間には、その上端部及び
下端部においてスペーサ21,22が挾み込まれ
ており、このスペーサ21,22の左右方向両端
の基準面23は、両面GCラツプ等で、平行度を
高精度に出している。製作に際しては、基板1
3,17の表面13a,17aをスペーサ21,
22の基準面23に両側から押し当て、保護基板
14,18の間にシールド板20を差し入れて保
持した状態で、第3図のようにすきまに樹脂等を
モールドして互いに固着し、その後、前面形状を
ラツピングで加工して仕上げる。なお、スペーサ
21,22を基板13,17の表面13a,17
aで挾持したとき、保護基板14,18及びシー
ルド板20の間にすき間ができ、スペーサ21,
22と基板表面13a,17aとだけが接触する
ように構成されている。
て説明する。第2図および第3図において、12
はベース、13は基板、14は保護基板、15は
端子板であり、これらにより記録ヘツドが構成さ
れている。また16はベース、17は基板、18
は保護基板、19は端子板であり、これらにより
再生ヘツドが構成されている。なお20はシール
ド板、21,22はスペーサである。前記保護基
板14,18は、基板13,17よりも高さ方向
の長さが短かく、基板13,17の表面13a,
17a(13aは図面には現われていない)の上
端部及び下端部は保護基板14,18と当接して
いない。基板14,18間には、その上端部及び
下端部においてスペーサ21,22が挾み込まれ
ており、このスペーサ21,22の左右方向両端
の基準面23は、両面GCラツプ等で、平行度を
高精度に出している。製作に際しては、基板1
3,17の表面13a,17aをスペーサ21,
22の基準面23に両側から押し当て、保護基板
14,18の間にシールド板20を差し入れて保
持した状態で、第3図のようにすきまに樹脂等を
モールドして互いに固着し、その後、前面形状を
ラツピングで加工して仕上げる。なお、スペーサ
21,22を基板13,17の表面13a,17
aで挾持したとき、保護基板14,18及びシー
ルド板20の間にすき間ができ、スペーサ21,
22と基板表面13a,17aとだけが接触する
ように構成されている。
上記構成によれば、2個のスペーサ21,22
の左右方向の長さの差、スペーサ21,22と基
板13,17との間の接着層の厚さむら等の合計
が5μm程度あるとしても、ヘツド幅lを8mmとす
ると、基板表面13a,17aの傾きは、角度に
して2′程度になる。再生ヘツドギヤツプは、基板
表面17aとほぼ同位置にあると考えられるの
で、記録ヘツドギヤツプ及び再生ヘツドギヤツプ
の傾き(アジマス)は、やはり角度にして2′程度
になる。アジマスに影響を与えるのは、上記の如
く、スペーサ21,22の左右方向の長さ、及び
基板13,17とスペーサ21,22との間の接
着層の厚みだけであり、3項目の精度を押さえれ
ばよいので、従来のように7項目の精度を押さえ
なければならないものと比較して、累積の誤差が
少なくなつている。
の左右方向の長さの差、スペーサ21,22と基
板13,17との間の接着層の厚さむら等の合計
が5μm程度あるとしても、ヘツド幅lを8mmとす
ると、基板表面13a,17aの傾きは、角度に
して2′程度になる。再生ヘツドギヤツプは、基板
表面17aとほぼ同位置にあると考えられるの
で、記録ヘツドギヤツプ及び再生ヘツドギヤツプ
の傾き(アジマス)は、やはり角度にして2′程度
になる。アジマスに影響を与えるのは、上記の如
く、スペーサ21,22の左右方向の長さ、及び
基板13,17とスペーサ21,22との間の接
着層の厚みだけであり、3項目の精度を押さえれ
ばよいので、従来のように7項目の精度を押さえ
なければならないものと比較して、累積の誤差が
少なくなつている。
第4図及び第5図は別の実施例を示し、この例
では、シールド板24の両面に非磁性材料からな
る4個のスペーサ25を積層している。スペーサ
25の4箇所の基準面26は、シールド板24の
両側で互いに平行になるように加工されている。
製作に際しては、基板13,17をスペーサ25
の基準面26に両側から押し当てた状態で互いに
固着する。
では、シールド板24の両面に非磁性材料からな
る4個のスペーサ25を積層している。スペーサ
25の4箇所の基準面26は、シールド板24の
両側で互いに平行になるように加工されている。
製作に際しては、基板13,17をスペーサ25
の基準面26に両側から押し当てた状態で互いに
固着する。
この構成においても、第1の実施例のものと同
様に、記録ヘツドギヤツプと再生ヘツドギヤツプ
との平行度を高精度に得ることができる。またシ
ールド板24がスペーサ25と一体であるため、
組立てが容易である。さらに、シールド板24が
ヘツドの全幅にわたつて記録ヘツドと再生ヘツド
との間を区切つているので、第1の実施例のもの
よりもシールド効果が大きい。
様に、記録ヘツドギヤツプと再生ヘツドギヤツプ
との平行度を高精度に得ることができる。またシ
ールド板24がスペーサ25と一体であるため、
組立てが容易である。さらに、シールド板24が
ヘツドの全幅にわたつて記録ヘツドと再生ヘツド
との間を区切つているので、第1の実施例のもの
よりもシールド効果が大きい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、記録ヘツドギヤ
ツプと再生ヘツドギヤツプとの平行度を容易な組
立作業で高精度に出すことができ、品質の優れた
かつ安価なコンビネーシヨンタイプの薄膜マルチ
トラツクヘツドを得ることができる。
ツプと再生ヘツドギヤツプとの平行度を容易な組
立作業で高精度に出すことができ、品質の優れた
かつ安価なコンビネーシヨンタイプの薄膜マルチ
トラツクヘツドを得ることができる。
第1図は従来の薄膜磁気ヘツドの斜視図、第2
図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘツドの
再生ヘツド部分の分解斜視図、第3図は本発明の
一実施例における薄膜磁気ヘツドの斜視図、第4
図は他の実施例におけるシールド板及びスペーサ
の斜視図、第5図は他の実施例における薄膜磁気
ヘツドの斜視図である。 13,17……基板、14,18……保護基
板、20,24……シールド板、21,22,2
5……スペーサ。
図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘツドの
再生ヘツド部分の分解斜視図、第3図は本発明の
一実施例における薄膜磁気ヘツドの斜視図、第4
図は他の実施例におけるシールド板及びスペーサ
の斜視図、第5図は他の実施例における薄膜磁気
ヘツドの斜視図である。 13,17……基板、14,18……保護基
板、20,24……シールド板、21,22,2
5……スペーサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基板の表面に蒸着等により磁気ギヤツプを形
成した薄膜記録ヘツド及び薄膜磁気ヘツドと、こ
れら薄膜記録ヘツド及び薄膜磁気ヘツドの基板表
面に当接する互いに平行な基準面を有するスペー
サとを備え、前記薄膜記録ヘツドと薄膜磁気ヘツ
ドとを前記スペーサを介して一体固着する構成と
した薄膜磁気ヘツド。 2 スペーサは、非磁性材料からなりシールド板
と一体積層により構成されている特許請求の範囲
第1項記載の薄膜磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57133155A JPS5924417A (ja) | 1982-07-29 | 1982-07-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57133155A JPS5924417A (ja) | 1982-07-29 | 1982-07-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5924417A JPS5924417A (ja) | 1984-02-08 |
| JPH0343684B2 true JPH0343684B2 (ja) | 1991-07-03 |
Family
ID=15097984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57133155A Granted JPS5924417A (ja) | 1982-07-29 | 1982-07-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5924417A (ja) |
-
1982
- 1982-07-29 JP JP57133155A patent/JPS5924417A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5924417A (ja) | 1984-02-08 |
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