JPH0339076B2 - - Google Patents
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- JPH0339076B2 JPH0339076B2 JP57025159A JP2515982A JPH0339076B2 JP H0339076 B2 JPH0339076 B2 JP H0339076B2 JP 57025159 A JP57025159 A JP 57025159A JP 2515982 A JP2515982 A JP 2515982A JP H0339076 B2 JPH0339076 B2 JP H0339076B2
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
本発明は2′−O−メチルウリジン誘導体の新規
な製造法に関するものであり、更に詳しくはウリ
ジン類のメチル化により2′−O−メチルウリジン
類を製造するさい、N3−位がメチル化されたウ
リジン類を副生することなく2′−O−メチルウリ
ジンを収率よく得る製造法に関するものである。 最近の遺伝子工学の進展に伴い、その中間体で
ある各種ヌクレオシド誘導体が要求されている。 従来2′−O−メチルウリジンの製造法として
は、3′−水酸基と5′−水酸基を保護したウリジン
とメチル化試剤を反応する方法が用いられてい
た。この方法ではケミカル アンド フアーマシ
ユーチカル ブチレン(Chemical&
Pharmaceutical Bulletin)13(11) 1273〜1278
(1965)に、3′,5′−ジ−O−トリチルウリジン
をメチル化すると2種類の化合物が生成し、これ
を脱トリチル後分離することでN3,2′−O−ジ
メチルウリジンと2′−O−メチルウリジンが得ら
れることが開示されているように、ウリジン塩基
部のイミド基のN−メチル化と糖部の2′−水酸基
のO−メチル化が同時に進行し、N3−位がメチ
ル化されたウリジンが多い量に副生する欠点を有
している。本発明者はN3−位がメチル化された
ウリジンの副生を阻止する方法について検討を重
ねた結果、アルコキシカルボニル基またはフエノ
キシカルボニル基が塩基部イミド基の優れた保護
基であることに着目し、アルコキシカルボニル基
またはフエノキシカルボニル基で塩基部イミド基
を保護したのちメチル化反応を行うという本発明
を完成したものである。 本発明の製造法は、ウリジンの2′−、3′−お
よび5′−水酸基を保護基により保護する。このさ
い保護基としてはジメトキシトリチル基、テトラ
ヒドロピラニル基、ベンゾイル基、トリメチルシ
リル基、テトライソプロピルジシロキニレン基、
アセチル基、フエノキシアセチル基などが通常用
いられるが、これらに限定されるものではない。
次に、塩基部イミド基を保護するため、エトキ
シカルボニル=クロリド、イソブトキシカルボニ
ル=クロリド、2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニル=クロリド、1,1−ジメチル−2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニル=クロリ
ド、フエノキシカルボニル=クロリドなどのハロ
ゲン原子、ニトロ基等の置換基を有してもよいク
ロル炭酸アルキルまたはクロル炭酸フエニルを反
応する。次いで、2′−水酸基の保護基を脱離さ
せたのち、メチル化試剤を作用させて2′−O−
メチル化物とする。メチル化試剤としては通常の
有機合成反応で用いられるヨウ化メチル、臭化メ
チル、硫酸ジメチル、p−トルエンスルホン酸メ
チル、リン酸メチルなどが用いられるが、ヨウ化
メチルが最適である。反応温度は0〜70℃が好適
であり、2〜24時間で反応は完結する。さらに、
必要に応じて3′−,5′−水酸基および塩基部イ
ミド基の保護基を脱離させて2′−O−メチルウリ
ジンとする。塩基部イミド基の保護基であるアル
コキシカルボニル基またはフエノキシカルボニル
基は、ピリジン中で亜鉛−アセチルアセトン処理
することにより容易に脱離する。 以下、実施例により説明する。 実施例 ウリジン0.63g(2.57ミリモル)と1,3−
ジクロロ−1,1,3,3−テトライソプロピ
ルジシロキサン0.85g(2.70ミリモル)を20ml
のピリジン中で、室温、一夜反応を行い、3′,
5′−(テトライソプロピル)ジシロキサニレン
−ウリジン1.19gを得た(収率95%)。 更にこの3′,5′−(テトライソプロピル)ジ
シロキサニレン−ウリジン0.88g(1.81ミリモ
ル)を乾燥ピリジン10ml中で、フエノキシ酢酸
無水物1.55g(5.42ミリモル)と反応温度0℃
で反応させ、2′−O−フエノキシ酢酸−3′,
5′−(テトライソプロピル)ジンロキサニレン
−ウリジン0.98gを得た(収率87%)。
な製造法に関するものであり、更に詳しくはウリ
ジン類のメチル化により2′−O−メチルウリジン
類を製造するさい、N3−位がメチル化されたウ
リジン類を副生することなく2′−O−メチルウリ
ジンを収率よく得る製造法に関するものである。 最近の遺伝子工学の進展に伴い、その中間体で
ある各種ヌクレオシド誘導体が要求されている。 従来2′−O−メチルウリジンの製造法として
は、3′−水酸基と5′−水酸基を保護したウリジン
とメチル化試剤を反応する方法が用いられてい
た。この方法ではケミカル アンド フアーマシ
ユーチカル ブチレン(Chemical&
Pharmaceutical Bulletin)13(11) 1273〜1278
(1965)に、3′,5′−ジ−O−トリチルウリジン
をメチル化すると2種類の化合物が生成し、これ
を脱トリチル後分離することでN3,2′−O−ジ
メチルウリジンと2′−O−メチルウリジンが得ら
れることが開示されているように、ウリジン塩基
部のイミド基のN−メチル化と糖部の2′−水酸基
のO−メチル化が同時に進行し、N3−位がメチ
ル化されたウリジンが多い量に副生する欠点を有
している。本発明者はN3−位がメチル化された
ウリジンの副生を阻止する方法について検討を重
ねた結果、アルコキシカルボニル基またはフエノ
キシカルボニル基が塩基部イミド基の優れた保護
基であることに着目し、アルコキシカルボニル基
またはフエノキシカルボニル基で塩基部イミド基
を保護したのちメチル化反応を行うという本発明
を完成したものである。 本発明の製造法は、ウリジンの2′−、3′−お
よび5′−水酸基を保護基により保護する。このさ
い保護基としてはジメトキシトリチル基、テトラ
ヒドロピラニル基、ベンゾイル基、トリメチルシ
リル基、テトライソプロピルジシロキニレン基、
アセチル基、フエノキシアセチル基などが通常用
いられるが、これらに限定されるものではない。
次に、塩基部イミド基を保護するため、エトキ
シカルボニル=クロリド、イソブトキシカルボニ
ル=クロリド、2,2,2−トリクロロエトキシ
カルボニル=クロリド、1,1−ジメチル−2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニル=クロリ
ド、フエノキシカルボニル=クロリドなどのハロ
ゲン原子、ニトロ基等の置換基を有してもよいク
ロル炭酸アルキルまたはクロル炭酸フエニルを反
応する。次いで、2′−水酸基の保護基を脱離さ
せたのち、メチル化試剤を作用させて2′−O−
メチル化物とする。メチル化試剤としては通常の
有機合成反応で用いられるヨウ化メチル、臭化メ
チル、硫酸ジメチル、p−トルエンスルホン酸メ
チル、リン酸メチルなどが用いられるが、ヨウ化
メチルが最適である。反応温度は0〜70℃が好適
であり、2〜24時間で反応は完結する。さらに、
必要に応じて3′−,5′−水酸基および塩基部イ
ミド基の保護基を脱離させて2′−O−メチルウリ
ジンとする。塩基部イミド基の保護基であるアル
コキシカルボニル基またはフエノキシカルボニル
基は、ピリジン中で亜鉛−アセチルアセトン処理
することにより容易に脱離する。 以下、実施例により説明する。 実施例 ウリジン0.63g(2.57ミリモル)と1,3−
ジクロロ−1,1,3,3−テトライソプロピ
ルジシロキサン0.85g(2.70ミリモル)を20ml
のピリジン中で、室温、一夜反応を行い、3′,
5′−(テトライソプロピル)ジシロキサニレン
−ウリジン1.19gを得た(収率95%)。 更にこの3′,5′−(テトライソプロピル)ジ
シロキサニレン−ウリジン0.88g(1.81ミリモ
ル)を乾燥ピリジン10ml中で、フエノキシ酢酸
無水物1.55g(5.42ミリモル)と反応温度0℃
で反応させ、2′−O−フエノキシ酢酸−3′,
5′−(テトライソプロピル)ジンロキサニレン
−ウリジン0.98gを得た(収率87%)。
【表】
1H核磁気共鳴吸収(CDCl3/TMS
internal) δ=1.04,1.08,1.10(28H,Si−CH(CH3)2) 3.86−4.42(4H,H−3′,4′,5′) 4.72(s,2H,C(O)−CH2−OPh) 5.48(d,1H,J2′-3′=4Hz,H−2′) 5.66(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 5.76(s,1H,H−1′) 6.82−7.30(m,5H,O−Ph) 7.68(d,1H,H−6) 10.10(br.s,1H,H−3) 次に、2′−O−フエノキシ酢酸−3′,5′−(テ
トライソプロピル)ジシロキサニレン−ウリジ
ン0.98g(1.58ミリモル)と1,1−ジメチル
−2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
=クロリド0.95g(3.94ミリモル)を乾燥ピリ
ジン中、室温で一夜反応して、N3−(1,1−
ジメチル−2,2,2−トリクロロ)エトキシ
カルボニルル−2′−O−フエノキシ酢酸−3′,
5′−(テトライソプロピル)ジシロキサニレン
−ウリジン1.07gを得た(収率83%)。
internal) δ=1.04,1.08,1.10(28H,Si−CH(CH3)2) 3.86−4.42(4H,H−3′,4′,5′) 4.72(s,2H,C(O)−CH2−OPh) 5.48(d,1H,J2′-3′=4Hz,H−2′) 5.66(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 5.76(s,1H,H−1′) 6.82−7.30(m,5H,O−Ph) 7.68(d,1H,H−6) 10.10(br.s,1H,H−3) 次に、2′−O−フエノキシ酢酸−3′,5′−(テ
トライソプロピル)ジシロキサニレン−ウリジ
ン0.98g(1.58ミリモル)と1,1−ジメチル
−2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル
=クロリド0.95g(3.94ミリモル)を乾燥ピリ
ジン中、室温で一夜反応して、N3−(1,1−
ジメチル−2,2,2−トリクロロ)エトキシ
カルボニルル−2′−O−フエノキシ酢酸−3′,
5′−(テトライソプロピル)ジシロキサニレン
−ウリジン1.07gを得た(収率83%)。
【表】
1H核磁気共鳴吸収(CDCl3/TMS
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トリクロロ)エトキシカルボニル−2′−O−フ
エノキシ酢酸−3′,5′−(テトライソプロピル)
ジシロキサニレン−ウリジン0.96g(1.16ミリ
モル)をメタノール25ml中でt−ブチルアミン
0.255g(3.49ミリモル)と室温で20分反応し
て、N3−(1,1−ジメチル−2,2,2−ト
リクロロ)エトキシカルボニル−3′,5′−(テ
トライソプロピル)ジシロキサニレン−ウリジ
ン0.614gを得た(収率77%)。
internal) δ=1.06,1.10,1.12(28H,Si−CH(CH3)2) 2.10(s,6H,C(CH3)2CCl3) 3.88−4.44(1H,H−3′,4′,5′) 4.70(s,2H,C(O)−CH2−OPh) 5.50(d,1H,J2′-3′=4Hz,H−2′) 5.68(d,2H,J5-6=8Hz,H−5) 5.72(s,1H,H−1′) 6.82−7.30(m,5H,O−Ph) 7.66(d,1H,H−6) 次に、N3(1,1−ジメチル−2,2,2−
トリクロロ)エトキシカルボニル−2′−O−フ
エノキシ酢酸−3′,5′−(テトライソプロピル)
ジシロキサニレン−ウリジン0.96g(1.16ミリ
モル)をメタノール25ml中でt−ブチルアミン
0.255g(3.49ミリモル)と室温で20分反応し
て、N3−(1,1−ジメチル−2,2,2−ト
リクロロ)エトキシカルボニル−3′,5′−(テ
トライソプロピル)ジシロキサニレン−ウリジ
ン0.614gを得た(収率77%)。
【表】
1H核磁気共鳴吸収(CDCl3/TMS
internal) δ=1.04,1.08,1.10(28H,Si−CH(CH3)2) 2.08(s,6H,C(CH3)2CCl3) 3,12(s,1H,OH−2′) 4.04−4.40(5H,H−2′,3′,4′,5′) 5.70(s,1H,H−1′) 5.72(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 7.68(d,1H,H−6) 次に、N3−(1,1−ジメチル−2,2,2
−トリクロロ)エトキシカルボニル−3′,5′−
(テトライソプロピル)ジシロキサニレン−ウ
リジン0.5g(0.724ミリモル)にヨウ化メチル
15.06g(0.106モル)を加え、酸化銀()
0.912g(3.93ミリモル)の存在下で7時間還
流下にメチル化反応を行い、N3−(1,1−ジ
メチル−2,2,2−トリクロロ)エトキシカ
ルボニル−2′−O−メチル−3′,5′−(テトライ
ソプロピル)ジシロキサニレン−ウリジン
0.472gを得た(収率93%)。
internal) δ=1.04,1.08,1.10(28H,Si−CH(CH3)2) 2.08(s,6H,C(CH3)2CCl3) 3,12(s,1H,OH−2′) 4.04−4.40(5H,H−2′,3′,4′,5′) 5.70(s,1H,H−1′) 5.72(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 7.68(d,1H,H−6) 次に、N3−(1,1−ジメチル−2,2,2
−トリクロロ)エトキシカルボニル−3′,5′−
(テトライソプロピル)ジシロキサニレン−ウ
リジン0.5g(0.724ミリモル)にヨウ化メチル
15.06g(0.106モル)を加え、酸化銀()
0.912g(3.93ミリモル)の存在下で7時間還
流下にメチル化反応を行い、N3−(1,1−ジ
メチル−2,2,2−トリクロロ)エトキシカ
ルボニル−2′−O−メチル−3′,5′−(テトライ
ソプロピル)ジシロキサニレン−ウリジン
0.472gを得た(収率93%)。
【表】
1H核磁気共鳴吸収(CDCl3/TMS interal)
δ=1.08,1.12(28H,Si−CH(CH3)2)
2.10(s,6H,C(CH3)2CCl3)
3.64(s,3H,2′−OCH3)
3.74(d,1H,J2′-3′=4Hz,H−2′)
4.04−4.32(4H,H−3′,4′,5′)
5.68(d,1H,J5-6=8Hz,H−5)
5.72(s,1H,H−1′)
7.90(d,1H,H−6)
次に、N3−(1,1−ジメチル−2,2,2
−トリクロロ)エトキシカルボニル−2′−O−
メチル−3′,5′−(テトライソプロピル)ジシ
ロキサニレン−ウリジン0.408g(0.579ミリモ
ル)に亜鉛末0.568g(8.69ミリモル)とアセ
チルアセトン0.87g(8.69ミリモル)を乾燥ピ
リジン15ml中で、室温、15分反応させることに
より2′−O−メチル−3′,5′−(テトライソプロ
ピル)ジシロキサニレン−ウリジン0.25gを得
た(収率86%)。
−トリクロロ)エトキシカルボニル−2′−O−
メチル−3′,5′−(テトライソプロピル)ジシ
ロキサニレン−ウリジン0.408g(0.579ミリモ
ル)に亜鉛末0.568g(8.69ミリモル)とアセ
チルアセトン0.87g(8.69ミリモル)を乾燥ピ
リジン15ml中で、室温、15分反応させることに
より2′−O−メチル−3′,5′−(テトライソプロ
ピル)ジシロキサニレン−ウリジン0.25gを得
た(収率86%)。
【表】
1H核磁気共鳴吸収(CDCl3/TMS
internal) δ=1.08,1.12(28H,Si−CH(CH3)2) 3.66(s,3H,2′−OCH3) 3.72(d,1H,J2′-3′=4Hz,H−2′) 4.02−4.30(4H,H−3′,4′,5′) 5.64(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 5.72(s,1H,H−1′) 7.88(d,1H,H−6) 10.10(br.s,1H,H−3) 更に、2′−O−メチル−3′,5′(テトライソプ
ロピル)ジシロキサニレン−ウリジン93mg
(0.186ミリモル)をアセトニトリル−水(67:
1V/V)4.06ml中で、臭化カリウム62.5mg
(1.12ミリモル)およびテトラエチルアンモニ
ウム=クロリド234mg(1.12ミリモル)を53℃
で30分反応させることにより2′−O−メチルウ
リジンを収率69%で得た。 1H核磁気共鳴吸収(D2O/t−BuOH
internal) δ=3.60(s,3H,2′−OCH3) 3.72−4.44(5H,H−2′,3′,4′,5′) 5.94(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 6.00(d,1H,J1′-2′=4Hz,H−1′) 7.96(d,1H,H−6) なお、各工程毎の反応液からの反応生成物の分
難は、反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにより塩化メチレンとヘキサンの混合溶媒を
用いて展開し、溶出液を濃縮することにより行つ
た。
internal) δ=1.08,1.12(28H,Si−CH(CH3)2) 3.66(s,3H,2′−OCH3) 3.72(d,1H,J2′-3′=4Hz,H−2′) 4.02−4.30(4H,H−3′,4′,5′) 5.64(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 5.72(s,1H,H−1′) 7.88(d,1H,H−6) 10.10(br.s,1H,H−3) 更に、2′−O−メチル−3′,5′(テトライソプ
ロピル)ジシロキサニレン−ウリジン93mg
(0.186ミリモル)をアセトニトリル−水(67:
1V/V)4.06ml中で、臭化カリウム62.5mg
(1.12ミリモル)およびテトラエチルアンモニ
ウム=クロリド234mg(1.12ミリモル)を53℃
で30分反応させることにより2′−O−メチルウ
リジンを収率69%で得た。 1H核磁気共鳴吸収(D2O/t−BuOH
internal) δ=3.60(s,3H,2′−OCH3) 3.72−4.44(5H,H−2′,3′,4′,5′) 5.94(d,1H,J5-6=8Hz,H−5) 6.00(d,1H,J1′-2′=4Hz,H−1′) 7.96(d,1H,H−6) なお、各工程毎の反応液からの反応生成物の分
難は、反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにより塩化メチレンとヘキサンの混合溶媒を
用いて展開し、溶出液を濃縮することにより行つ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕 (式中、R1は置換基を有するか有しないアル
キル基またはフエニル基を示し、R2およびR3は
水素原子または保護基を示し、R2とR3が共に保
護基である場合は両者が単一の保護基を共有する
場合もある。) で表わされるウリジン類をメチル化反応に付すこ
とを特徴とする一般式〔〕 (式中、R1,R2およびR3は前記と同一の意味
を示す。) で表わされる2′−O−メチルウリジン誘導体の製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57025159A JPS58144400A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 2′−o−メチルウリジン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57025159A JPS58144400A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 2′−o−メチルウリジン誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58144400A JPS58144400A (ja) | 1983-08-27 |
JPH0339076B2 true JPH0339076B2 (ja) | 1991-06-12 |
Family
ID=12158239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57025159A Granted JPS58144400A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 2′−o−メチルウリジン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58144400A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6067492A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | Agency Of Ind Science & Technol | ヌクレオシド環状ケイ素誘導体及びその製造法 |
-
1982
- 1982-02-18 JP JP57025159A patent/JPS58144400A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58144400A (ja) | 1983-08-27 |
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