JPH0337229Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、表面にレジストを塗布した半導体基
板（以下ウエハという）あるいはガラス基板等の
試料を電子ビームで露光させ、高密度の回路素子
を成形する電子ビーム描画装置における試料カセ
ツトに係り、特に該カセツトを試料ステージ上に
より正確にセツトするための改良に関する。

ウエハの電子ビーム露光を行う場合はウエハの
位置合わせが重要な問題であり、このため従来よ
り通常はウエハをカセツトで保持してこれを露光
装置内に装着し、予めウエハの所定位置に付して
おいた位置合せのためのマークを検出して位置合
せを行うマーク検出方法がとられている。この場
合、位置合せはＸ方向、Ｙ方向および回転方向の
位置合せが必要であることから１枚のウエハ上に
２個以上のマークをある範囲内に付してあるのが
通常である。

即ち、電子ビーム描画装置においてウエハに直
接描画する場合には、ウエハは、(1)位置合せ（レ
ジストレーシヨン）マークをある限定された範囲
でのビームの走査によりサーチするため高精度に
位置決めする必要があり、また(2)ウエハのレジス
ト塗布描画面を上方に位置する基準面に当ててＺ
方向の精度を確保することが重要な問題である。

ところで、上述の(1)による位置決めを行う場
合、ウエハはオリフラ面とウエハ外径の１点を基
準面に押当てるように外周部で保持して位置決め
を行うわけであるが、オリフラ面が短いためにウ
エハの回転方向の誤差は大きくでてしまうので、
回転方向の誤差をできるだけ小さく押えないと、
レジストレーシヨンマーク位置におけるＸ，Ｙ両
方向成分の誤差が大きくなつてしまい、マークを
検出するのに広い走査範囲が必要となる。これに
比較してＸ，Ｙ両方向への位置決め誤差は許容値
を数倍大きくとることができる。

このように回転方向の誤差を小さくするために
は、レジストレーシヨンマークをプリアライン装
置の顕微鏡で観察しながらウエハを回転させ顕微
鏡の指標とレジストレーシヨンマークを合致させ
る方法すなわち一般にプリアラインということが
行なわれる。その時、ウエハはＺ方向に押し付け
たまま回転させるために、Ｚ方向の基準面により
レジストの塗布してある描画面を傷つけるという
欠点があつた。なお、カセツト内のウエハ装着部
をカセツト本体に対してＸ，Ｙおよび回転の各方
向に位置調節可能に設けたもの（実公昭58−3298
号）も提案されているが、これはカセツトの構造
が複雑であり、かつＺ方向の位置決めを正確に行
なうことが困難である。

本考案の目的は、構造が簡単であり、ウエハの
表面を傷つけることなくウエハレジストレーシヨ
ンマークをマークサーチできる範囲内に高精度に
位置決めできると共にＺ方向の位置決めも高精度
にでき、またウエハに限らずガラス基板などの試
料をも所定位置に位置決めできるようにした電子
ビーム描画装置における試料カセツトを提供する
ことを目的とするものである。

上述の目的を達成するために提供される本考案
による電子ビーム描画装置における試料カセツト
は、ステージ上に固定された基準ブロツクに２点
で接触して位置決めを行う試料カセツトにおい
て、基準ブロツクに当接するカセツト基準面部に
微小量出入可能なカセツト位置調節部材を設けた
ことを特徴とするものである。

以下において添付図面の実施例と照らして本考
案をさらに詳しく説明する。

第１図は試料ステージ９上に置かれた本考案に
よる試料カセツト２０の平面図で、第２図は第１
図の−線に沿つて切断された断面図である。
試料カセツト２０はカセツトフイーダ１２を操作
することによりステージ９上に設置されるが、そ
の際ステージ９上に予め設置された基準ブロツク
１０にカセツト２０の基準面１１が当接されるよ
うに設置され、内部に押圧ばね１５を内蔵したク
ランプブロツク１４によりステージ９上に押圧設
定される。

カセツト２０中には試料１を載置固定した基板
４が設けられているが、これは第２図の断面図よ
り明らかなように、カセツト２０中に収められた
試料１は下方より基板４で支持固定され、この基
板４の下方にはばね８が収納されており基板４を
上方に押圧することにより試料１が基準片１６の
下面の基準面７に当接し第２図において上下すな
わＺ方向の位置決めをされるようになつている。
試料１には基準となるレジストレーシヨンマーク
２がオリフラ面３を基準として高精度な位置に付
されている。即ち、試料１は基板４の基準面４ａ
とオリフラ面３とが一致するように基板上に接着
固定されている。この接着固定された試料１と基
板４はカセツト２０内のＸ，Ｙ方向の基準面５，
６にばね１７，１８により押圧位置決めされてい
る。

カセツト２０の前記基準ブロツク１０に当接す
る部分すなわちカセツト２０の基準面１１は、第
３ａおよび３ｂ図に示すようにカセツト２０に設
けた偏心カム１３のカム面によつて形成され、こ
の偏心カム１３を回転させることによりカセツト
２０の回転方向の位置調整を行う。

実際のカセツト２０の設定に関しては、カセツ
ト２０内のＸ方向基準面５と試料１のレジストレ
ーシヨンマーク２の相対位置は、試料１を接着す
る際の誤差、基板４をカセツト２０に装着する際
の誤差、又はカセツト２０そのものの加工誤差等
により微少ながらも誤差を生ずる可能性がある。
この誤差を補正するためにプリアライン装置（図
示せず）の顕微鏡で試料１のレジストレーシヨン
マーク２と顕微鏡の基準マークが合致するように
偏心カム１３を回転させて角度補正が行なわれ
る。

本考案によれば、上述の角度補正は先に述べた
ようにステージ９上のカセツト２０を位置決めす
るための基準ブロツク１０に対して設けられた左
右両方の偏心カム１３を顕微鏡をのぞきながら左
右両方別個に回転させることにより左右の基準面
１１，１１を異つた量で微少ずつ出入させカセツ
ト２０全体を回転するようにしている。カセツト
２０を回転するということは当然そのカセツトに
装着された試料１も回転せしめることであり、左
右の偏心カム１３を微少量ずつ回転補正してゆく
ことにより、顕微鏡の基準マークとレジストレー
シヨンマーク２を合致せしめ、レジストレーシヨ
ンマーク２、即ち試料１と基準面１１との回転方
向の相対位置関係を精度よく設定することができ
る。

このように偏心カム１３によりカセツト２０の
基準面１１を予じめ調整設定しておけば、該カセ
ツト２０をステージ９に載置し、基準面１１を基
準ブロツク１０に当接させることにより、ステー
ジ９に対する試料１の回転方向の位置決めを非常
に高精度に行なうことができる。

上述の実施例において基準ブロツク１０に関し
てカセツト２０を回転方向に微少位置調節するの
に偏心カム１３を用いた例を示したが、例えば第
４図に示されるように単にねじ部材３０を用い回
転調節可能とするか、第５図に示すようにくさび
部材４０を用いてそのくさびの前進又は後退量を
調節することにより基準ブロツク１０に対してカ
セツト２０の回転方向位置調節を行うことができ
るが、ねじ３０又くさび部材４０そのものに関し
ては特に特別のものが用いられるわけでないので
その詳細は省略する。

このように本考案によれば試料を固定装着した
カセツトを偏心カム等の簡単な部材を用いてカセ
ツト基準面の出入量を変化させることにより、ス
テージ上の基準面に対し、カセツトおよびそれに
取付けられている試料を精度よく位置決めでき、
試料をカセツト内で動かすことがないので、表面
を傷つけることがないと共にＺ方向の位置決めも
正確に行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は試料ステージ上に装着された本考案に
よるカセツトの平面図、第２図は第１図の−
線に沿つて切断された断面図、第３ａ図および第
３ｂ図は第２図に用いられたカセツト位置調節部
材の拡大概略図、第４図および第５図はカセツト
位置調節部材のそれぞれ異なる他の実施例を示す
拡大概略図である。 １……ウエハ、２……レジストレーシヨンマー
ク、３……オリフラ面、４……基板、５……カセ
ツト内Ｘ方向基準面、６……カセツト内Ｙ方向基
準面、７……カセツト内Ｚ方向基準面、８……ば
ね、９……ステージ、１０……基準ブロツク、１
１……カセツト基準面、１２……カセツトフイ−
ダ、１３……偏心カム、１４……クランプブロツ
ク、１５……基準片、２０……カセツト、３０…
…ねじ、４０……くさび部材。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 電子ビーム描画装置における試料ステージ上
   に固定された基準ブロツクに２点で接触して位
   置決めを行う試料カセツトにおいて、前記基準
   ブロツクに当接するカセツト基準面部に微小量
   出入可能なカセツト位置調節部材を設けたこと
   を特徴とする試料カセツト。 ２ 前記カセツト位置調節部材が偏心カムである
   実用新案登録請求の範囲第１項に記載の試料カ
   セツト。 ３ 前記カセツト位置調節部材がねじである実用
   新案登録請求の範囲第１項に記載の試料カセツ
   ト。 ４ 前記カセツト位置調節部材がくさび部材であ
   る実用新案登録請求の範囲第１項に記載の試料
   カセツト。