JPS6054325U - 電子ビ−ム描画装置の試料カセット - Google Patents

電子ビ−ム描画装置の試料カセット

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JPS6054325U
JPS6054325U JP14644183U JP14644183U JPS6054325U JP S6054325 U JPS6054325 U JP S6054325U JP 14644183 U JP14644183 U JP 14644183U JP 14644183 U JP14644183 U JP 14644183U JP S6054325 U JPS6054325 U JP S6054325U
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JP
Japan
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cassette
sample
electron beam
beam lithography
sample cassette
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JP14644183U
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JPH0337229Y2 (ja
Inventor
沼賀　拓興
Original Assignee
東芝機械株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は試料ステージ上に装着された本考案によるカセ
ットの平面図、第２図は第１図の■−■線に沿って切断
された断面図、第３ａ図および第３ｂ図は第２図に用い
られたカセット位置調節部材の拡大概略図、第４図およ
び第５図はカセット位置調節部材のそれぞれ異なる他の
実施例を示す拡大概略図である。 １・・・ウェハ、２・・・レジストレーションマーク、
３・・・オリフラ面、４・・・基板、５・・・カセット
内Ｘ方向基準面、６・・・カセット内Ｙ方向基準面、７
・・・カセット内２方向基準面、８・・・ばね、９・・
・ステージ、１０・・・基準ブロック、１１・・・カセ
ット基準面、１２・・・カセットフィーダ、１３・・・
偏心カム、１４・・・クランプブロック、１５・・・基
準片、２０・・・カセット、３０・・・ねじ、４０・・
べさび部材。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　電子ビーム描画装置における試料ステージ上に固定
    された基準ブロックに２点で接触した位置決めを行う試
    料力セッ′トにおいて、前記基準ブロックに当接するカ
    セット基準面部に微小量出入可能なカセット位置調節部
    材を設けたことを特徴とする試料カセット。 ２　前記カセット位置調節部材が偏心カムである実用新
    案登録請求の範囲第１項に記載の試料カセット。 ３　前記カセット位置調節部材がねじである実用新案登
    録請求の範囲第１項に記載の試料カセット。 ４　前記カセット位置調節部材がくさび部材である実用
    新案登録請求の範囲第１項に記載の試料カセット。
JP14644183U 1983-09-21 1983-09-21 電子ビ−ム描画装置の試料カセット Granted JPS6054325U (ja)

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JPS6054325U true JPS6054325U (ja) 1985-04-16
JPH0337229Y2 JPH0337229Y2 (ja) 1991-08-07

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006019101A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Canon Inc 真空機器の製造装置及び製造方法、真空機器、荷電粒子線露光装置、デバイス製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS583298U (ja) * 1981-06-30 1983-01-10 旭精密株式会社 自在平行定規等におけるレ−ル化粧板取付装置

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JP4559137B2 (ja) * 2004-06-30 2010-10-06 キヤノン株式会社 真空機器の製造装置及び製造方法

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JPH0337229Y2 (ja) 1991-08-07

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