JPH0336422B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0336422B2 JPH0336422B2 JP60027784A JP2778485A JPH0336422B2 JP H0336422 B2 JPH0336422 B2 JP H0336422B2 JP 60027784 A JP60027784 A JP 60027784A JP 2778485 A JP2778485 A JP 2778485A JP H0336422 B2 JPH0336422 B2 JP H0336422B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- composition
- resist
- binder resin
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2778485A JPS61186952A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 光重合性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2778485A JPS61186952A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 光重合性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61186952A JPS61186952A (ja) | 1986-08-20 |
JPH0336422B2 true JPH0336422B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1991-05-31 |
Family
ID=12230600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2778485A Granted JPS61186952A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 光重合性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61186952A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01263645A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP2856746B2 (ja) * | 1988-12-15 | 1999-02-10 | ダイセル化学工業株式会社 | 光重合性組成物 |
JP2776522B2 (ja) * | 1988-12-15 | 1998-07-16 | ダイセル化学工業株式会社 | 光重合性組成物 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57204032A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Somar Corp | Photosensitive material |
JPS581142A (ja) * | 1981-06-25 | 1983-01-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 |
JPS5888741A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 |
JPS59125726A (ja) * | 1983-01-06 | 1984-07-20 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光重合性樹脂組成物 |
-
1985
- 1985-02-15 JP JP2778485A patent/JPS61186952A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61186952A (ja) | 1986-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0642073B2 (ja) | 光重合性樹脂組成物 | |
JP3771705B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク | |
US4539286A (en) | Flexible, fast processing, photopolymerizable composition | |
KR970009609B1 (ko) | 가교 경화형 수지 조성물 | |
US4610951A (en) | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition | |
JP2007286477A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造方法 | |
JP2963772B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH047499B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JPH0336422B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JP4147920B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JP2622976B2 (ja) | レジストパターン形成法 | |
JP2003005364A (ja) | 回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造法 | |
JP3859934B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
JPH0756334A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP4238631B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JP3173191B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP2821547B2 (ja) | 架橋硬化型樹脂組成物 | |
JP3944971B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP2008209880A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JP2010160417A (ja) | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 | |
JP4529289B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
JPS6080843A (ja) | 光重合性樹脂組成物 | |
JP2006078558A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
JPH04198207A (ja) | 架橋硬化型樹脂組成物 | |
JPH07134407A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |