JPH0336258A - プラスチックスへの無機物質の成膜方法 - Google Patents
プラスチックスへの無機物質の成膜方法Info
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- JPH0336258A JPH0336258A JP17000189A JP17000189A JPH0336258A JP H0336258 A JPH0336258 A JP H0336258A JP 17000189 A JP17000189 A JP 17000189A JP 17000189 A JP17000189 A JP 17000189A JP H0336258 A JPH0336258 A JP H0336258A
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- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 14
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 title abstract description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 title abstract description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 36
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 18
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 18
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- -1 acryl Chemical group 0.000 abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、プラスチックス、特にアクリル樹脂（アクリ
ル）表面に無機物質を密着度良く付着させることのでき
る成膜方法に関するものである。
ル）表面に無機物質を密着度良く付着させることのでき
る成膜方法に関するものである。
［従来の技術］
アクリル表面に無機物質、例えば二酸化ケイ素（ＳｉＯ
２）の硬い膜を付けたいという要求は多く、特にカメラ
や眼鏡の分野では非常に強く要望されている。
２）の硬い膜を付けたいという要求は多く、特にカメラ
や眼鏡の分野では非常に強く要望されている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながらアクリルは熱に弱＜、シかも熱膨張係数が
非常に大きいことから無機物質を実用に耐える密着度で
成膜する技術は、今だに見出されていない。
非常に大きいことから無機物質を実用に耐える密着度で
成膜する技術は、今だに見出されていない。
そこで、本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり
、プラスチックス表面に無機物質を実用に耐える密着度
で成膜することのできる方法を提供することを目的とす
るものである。
、プラスチックス表面に無機物質を実用に耐える密着度
で成膜することのできる方法を提供することを目的とす
るものである。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するため、本発明のプラスチックスへの
無機物質の成膜方法は、プラスチックス基板上にこのプ
ラスチックス物質と無機物質との混合膜を付着させ、そ
の上に無機物質の膜を付着させるようにしたことを特徴
とするものである。
無機物質の成膜方法は、プラスチックス基板上にこのプ
ラスチックス物質と無機物質との混合膜を付着させ、そ
の上に無機物質の膜を付着させるようにしたことを特徴
とするものである。
以下、本発明の成膜方法の一例を図面に基づいて詳説す
る。
る。
［実施例］
第１図は本発明にかかる成膜方法を実施するための装置
の一例を示す構成図、第２図はその動作を説明するため
の図である。
の一例を示す構成図、第２図はその動作を説明するため
の図である。
第１図において、１は被排気室（真空チャンバ）、２は
油拡散ポンプ等の真空ポンプ、３は基板ホルダで、導電
性月料で作られており、また、この基板ホルダの下面に
はアクリルの基板４が取付けられている。５は直流電源
、６はモノマーガスを収容したガス供給源で、このモノ
マーガスとしてはメタクリル酸メチルの蒸気が使用され
る。７は流量調整弁、８は坩堝で、蒸発物質が収容され
ている。９は電子銃、１０は電子銃電源、１１は偏向器
、１２は高周波電極、１３は整合回路で、負荷側と電源
側のインピーダンスを整合させるものである。１４は高
周波電源である。
油拡散ポンプ等の真空ポンプ、３は基板ホルダで、導電
性月料で作られており、また、この基板ホルダの下面に
はアクリルの基板４が取付けられている。５は直流電源
、６はモノマーガスを収容したガス供給源で、このモノ
マーガスとしてはメタクリル酸メチルの蒸気が使用され
る。７は流量調整弁、８は坩堝で、蒸発物質が収容され
ている。９は電子銃、１０は電子銃電源、１１は偏向器
、１２は高周波電極、１３は整合回路で、負荷側と電源
側のインピーダンスを整合させるものである。１４は高
周波電源である。
今、坩堝８内に基板４上に底膜すべき無機物質、例えば
二酸化ケイ素を収容する。そして、被排気室１内を真空
ポンプ２により高真空（例えば５×１０″５〜１０″６
Ｔｏｒｒ程度）まで排気した後、流量調整弁７を開放し
、ガス供給源６からモノマーガスを被排気室内の圧力が
例えば５〜ｌＸ１０’Ｔ。
二酸化ケイ素を収容する。そして、被排気室１内を真空
ポンプ２により高真空（例えば５×１０″５〜１０″６
Ｔｏｒｒ程度）まで排気した後、流量調整弁７を開放し
、ガス供給源６からモノマーガスを被排気室内の圧力が
例えば５〜ｌＸ１０’Ｔ。
ｒｒ程度になるまでこの被排気室内に導入する。この状
態におシ）で、高周波電源１−４より整合回路１３を介
して高周波電極１２に高周波電力を印加することにより
グロー放電を発生させれば、第２図（ａ）に示すように
プラズマ重合によりアクリル基板４上にポリメタクリル
酸メチル（アクリル）膜Ａが形成される。
態におシ）で、高周波電源１−４より整合回路１３を介
して高周波電極１２に高周波電力を印加することにより
グロー放電を発生させれば、第２図（ａ）に示すように
プラズマ重合によりアクリル基板４上にポリメタクリル
酸メチル（アクリル）膜Ａが形成される。
膜Ａが所望の厚みに到達した時点で、さらに、電子銃電
源１０及び偏向器１１を作動させて電子銃９からの電子
ビームを坩堝８内の二酸化ケイ素に当て、この二酸化ケ
イ素を気化させる。その結果、生成された二酸化ケイ素
ガスはグロー放電によりイオン化され、基板ホルダ３に
印加された負の直流電圧により基板４へ向けて加速され
、この基板上に付着する。このとき、同時にモノマーガ
スによるプラズマ重合も行われているため、基板４に形
成されたアクリル膜Ａ上には第２図（ｂ）で示すように
プラズマ重合及びイオンブレ−ティングに基づいてアク
リルと二酸化ケイ素との混合膜Ｂが付着される。その後
、この状態において、流量調整弁７を徐々に閉め、被排
気室１内へのモノマーガスの導入量を少なくしてプラズ
マ重合によるアクリルの付着量を次第に減らし、最終的
に第２図（Ｃ）で示すようにイオンブレーティングによ
る二酸化ケイ素膜Ｃを付着させる。
源１０及び偏向器１１を作動させて電子銃９からの電子
ビームを坩堝８内の二酸化ケイ素に当て、この二酸化ケ
イ素を気化させる。その結果、生成された二酸化ケイ素
ガスはグロー放電によりイオン化され、基板ホルダ３に
印加された負の直流電圧により基板４へ向けて加速され
、この基板上に付着する。このとき、同時にモノマーガ
スによるプラズマ重合も行われているため、基板４に形
成されたアクリル膜Ａ上には第２図（ｂ）で示すように
プラズマ重合及びイオンブレ−ティングに基づいてアク
リルと二酸化ケイ素との混合膜Ｂが付着される。その後
、この状態において、流量調整弁７を徐々に閉め、被排
気室１内へのモノマーガスの導入量を少なくしてプラズ
マ重合によるアクリルの付着量を次第に減らし、最終的
に第２図（Ｃ）で示すようにイオンブレーティングによ
る二酸化ケイ素膜Ｃを付着させる。
このようにアクリル基板ど二酸化ケイ素との間に両者の
物質を混合させた混合膜層を形成すれば、この混合層が
両者の熱膨張率の違いを吸収するため、プラスチックス
基板上に二酸化ケイ素を非常に密着度良く付着させるこ
とができる。
物質を混合させた混合膜層を形成すれば、この混合層が
両者の熱膨張率の違いを吸収するため、プラスチックス
基板上に二酸化ケイ素を非常に密着度良く付着させるこ
とができる。
尚、前述の説明は本発明方法の一例であり、実施にあた
っては幾多の変形が考えられる。例えば上記実施例では
アクリル基板上に一旦アクリル膜を形成してからアクリ
ルと二酸化ケイ素との混合膜を形成するようにしたが、
基板上に直接アクリルと二酸化ケイ素との混合膜を形成
しても前述同様な効果が得られる。この場合、この混合
膜におけるアクリルど二酸化ケイ素との割合を、基板に
近いほどアクリル膜の比率が高く、表面に近いほど二酸
化ケイ素の比率を高くし、表面部分では１００％二酸化
ケイ素となるようにすることが好ましい。
っては幾多の変形が考えられる。例えば上記実施例では
アクリル基板上に一旦アクリル膜を形成してからアクリ
ルと二酸化ケイ素との混合膜を形成するようにしたが、
基板上に直接アクリルと二酸化ケイ素との混合膜を形成
しても前述同様な効果が得られる。この場合、この混合
膜におけるアクリルど二酸化ケイ素との割合を、基板に
近いほどアクリル膜の比率が高く、表面に近いほど二酸
化ケイ素の比率を高くし、表面部分では１００％二酸化
ケイ素となるようにすることが好ましい。
また、上記実施例では電子ビームを利用した蒸発源を使
用したが、抵抗加熱型の蒸発源を利用しても良い。
用したが、抵抗加熱型の蒸発源を利用しても良い。
さらに、上記実施例ではアクリル基板にアクリルを付着
させるためにプラズマ重合法を利用１．たが、これに限
定されることなく液状のメタクリル酸メチルを電子ビー
ムなどにより蒸発させる方法を利用しても良い。
させるためにプラズマ重合法を利用１．たが、これに限
定されることなく液状のメタクリル酸メチルを電子ビー
ムなどにより蒸発させる方法を利用しても良い。
［効果コ
以上詳述したように本発明方法によれば、プラスチック
ス上に無機物質を密着度良く付着させることができる。
ス上に無機物質を密着度良く付着させることができる。
第１図は本発明にかかる成膜方法を実施するための装置
の一例を示す構成図、第２図はその動作を説明するため
の図である。 １：被排気室 ２：真空ポンプ３；基板ホルダ
４：基板 ５；直流電＠ ６：ガス供給源７：流量調整
弁 ８：坩堝 ９：電子銃 １０；電子銃電源１２：高周波電
極 １３：整合回路 １４：高周波電源
の一例を示す構成図、第２図はその動作を説明するため
の図である。 １：被排気室 ２：真空ポンプ３；基板ホルダ
４：基板 ５；直流電＠ ６：ガス供給源７：流量調整
弁 ８：坩堝 ９：電子銃 １０；電子銃電源１２：高周波電
極 １３：整合回路 １４：高周波電源
Claims (1)
- プラスチックス基板上にこのプラスチックス物質と無機
物質との混合膜を付着させ、その上に無機物質の膜を付
着させるようにしたことを特徴とするプラスチックスへ
の無機物質の成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17000189A JPH0336258A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | プラスチックスへの無機物質の成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17000189A JPH0336258A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | プラスチックスへの無機物質の成膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0336258A true JPH0336258A (ja) | 1991-02-15 |
Family
ID=15896751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17000189A Pending JPH0336258A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | プラスチックスへの無機物質の成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0336258A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002088232A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | The Coca-Cola Company | Barrier coated plastic containers |
| EP1273676A2 (de) * | 2001-06-28 | 2003-01-08 | Applied Films GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von gas- und flüssigkeitsundurchlässigen Schichten auf einem Substrat |
| JP2003089867A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着薄膜の製造方法 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP17000189A patent/JPH0336258A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002088232A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | The Coca-Cola Company | Barrier coated plastic containers |
| US6599584B2 (en) | 2001-04-27 | 2003-07-29 | The Coca-Cola Company | Barrier coated plastic containers and coating methods therefor |
| EP1273676A2 (de) * | 2001-06-28 | 2003-01-08 | Applied Films GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von gas- und flüssigkeitsundurchlässigen Schichten auf einem Substrat |
| EP1273676A3 (de) * | 2001-06-28 | 2004-01-28 | Applied Films GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von gas- und flüssigkeitsundurchlässigen Schichten auf einem Substrat |
| JP2003089867A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着薄膜の製造方法 |
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