JPH0335062A - ビスアゾ化合物およびその製造方法 - Google Patents
ビスアゾ化合物およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0335062A JPH0335062A JP17051689A JP17051689A JPH0335062A JP H0335062 A JPH0335062 A JP H0335062A JP 17051689 A JP17051689 A JP 17051689A JP 17051689 A JP17051689 A JP 17051689A JP H0335062 A JPH0335062 A JP H0335062A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substituted
- unsubstituted
- group
- formula
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 Bisazo compound Chemical class 0.000 title claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- DIIAPYUVZTVEOU-UHFFFAOYSA-N 11H-benzo[a]carbazole-1-carboxamide Chemical class C1(=CC=CC=2C=CC=3C=4C=CC=CC=4NC=3C=21)C(=O)N DIIAPYUVZTVEOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 abstract description 21
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 abstract 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYCXZDKHYDDBLX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-11h-benzo[a]carbazole-3-carboxamide Chemical class C1=CC=C2NC3=C(C=C(C(C(=O)N)=C4)O)C4=CC=C3C2=C1 XYCXZDKHYDDBLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- YPOXSLZIYJHIQI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-n-phenyl-11h-benzo[a]carbazole-3-carboxamide Chemical compound OC1=CC2=C3NC4=CC=CC=C4C3=CC=C2C=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 YPOXSLZIYJHIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用〕
本発明はアゾ化合物およびその製造方法に関し。
更に詳しくは有機光導電体として有用なアゾ化合物およ
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
〔従来の技術］
従来から、ある種のアゾ化合物が、電子写真用感光体の
一つの形態である積層型感光体の電荷発生層に用いられ
る電荷発生層材料として、有効であることが知られてい
る。ここでいう積層型感光体とは、導電性支持体上に光
によって、電荷担体を生成する能力を有する電荷発生顔
料を、適切な方法、例えば真空蒸着、顔料溶液の塗布あ
るいは樹脂溶液に顔料に微細粒子を分散した分散液の塗
などにより薄層として電荷発生層を形成せしめ、その上
に電荷発生層で生成した電荷担体を効率よく注入され得
て、しかもその移動を行うところの電荷搬送層（通常こ
の電荷搬送層は、電荷搬送物質と結着樹脂からなる。）
を形成せしめた感光体である。従来、この種の感光体に
使用されるアゾ化合物として１例えば、特開昭４７−３
７５４３号公報。
一つの形態である積層型感光体の電荷発生層に用いられ
る電荷発生層材料として、有効であることが知られてい
る。ここでいう積層型感光体とは、導電性支持体上に光
によって、電荷担体を生成する能力を有する電荷発生顔
料を、適切な方法、例えば真空蒸着、顔料溶液の塗布あ
るいは樹脂溶液に顔料に微細粒子を分散した分散液の塗
などにより薄層として電荷発生層を形成せしめ、その上
に電荷発生層で生成した電荷担体を効率よく注入され得
て、しかもその移動を行うところの電荷搬送層（通常こ
の電荷搬送層は、電荷搬送物質と結着樹脂からなる。）
を形成せしめた感光体である。従来、この種の感光体に
使用されるアゾ化合物として１例えば、特開昭４７−３
７５４３号公報。
及び、特開昭５２−５５６４３号公報などに記載されて
いるベンジジン系ビスアゾ化合物あるいは特開昭５２−
８８３２号公報に記載されているスチルベン系ビスアゾ
化合物などが知られている。
いるベンジジン系ビスアゾ化合物あるいは特開昭５２−
８８３２号公報に記載されているスチルベン系ビスアゾ
化合物などが知られている。
しかしながら、従来のアゾ化合物を用いた積層型の感光
体は一般に感度が低いため高速複写機用の感光体として
は不充分である。一方、近年レーザープリンター用感光
体の要求も高まっており、特に半導体レーザーに対応可
能な感光体の開発が望まれているが、上述の感光体はこ
の目的に対し、感度が低く、実用に供しえないのが実状
である。
体は一般に感度が低いため高速複写機用の感光体として
は不充分である。一方、近年レーザープリンター用感光
体の要求も高まっており、特に半導体レーザーに対応可
能な感光体の開発が望まれているが、上述の感光体はこ
の目的に対し、感度が低く、実用に供しえないのが実状
である。
本発明の目的は、電子写真感光体およびレーザープリン
ター用感光体において有効な、特に先に述べた積層型の
感光体に於いて有用なアゾ化合物およびその製造方法を
提供することにある。
ター用感光体において有効な、特に先に述べた積層型の
感光体に於いて有用なアゾ化合物およびその製造方法を
提供することにある。
〔課題を解決するための手段］
本発明によれば、第１発明として、下記一般式〔夏〕で
表わされるアゾ化合物が提供され、また第２発明として
、下記一般式〔■〕で表わされる２−ヒドロキシ−３−
カルバモイルベンゾ（ａ）カルバゾール誘導体と下記一
般式（ＩＩＩ）で表わされるジアゾニウム塩化合物を反
応させて下記一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ化合物の製
造方法が提供される。
表わされるアゾ化合物が提供され、また第２発明として
、下記一般式〔■〕で表わされる２−ヒドロキシ−３−
カルバモイルベンゾ（ａ）カルバゾール誘導体と下記一
般式（ＩＩＩ）で表わされるジアゾニウム塩化合物を反
応させて下記一般式〔Ｉ〕で表わされるアゾ化合物の製
造方法が提供される。
（式中、Ｒ１およびＲ３は水素、置換または無置換のア
ルキル基、置換また無置換の７リール基、複素環残基を
表わす、またＲ１およびＲ２は共同で環を形成していて
も良いｅ Ｒ１は水素、置換または無置換のアルキル基
、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換
のアルキルスルホニル基、置換または無置換のフルキル
メルカプト基、ハロゲン原子、置換または無置換のアリ
ール基を表わし、ｎは１〜４の整数を表わす、ｎが２〜
４の場合、Ｒ３は同一または異なったもののいずれでも
よい、） （式中、Ｒ３およびＲ３は水素、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアリール基。
ルキル基、置換また無置換の７リール基、複素環残基を
表わす、またＲ１およびＲ２は共同で環を形成していて
も良いｅ Ｒ１は水素、置換または無置換のアルキル基
、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換
のアルキルスルホニル基、置換または無置換のフルキル
メルカプト基、ハロゲン原子、置換または無置換のアリ
ール基を表わし、ｎは１〜４の整数を表わす、ｎが２〜
４の場合、Ｒ３は同一または異なったもののいずれでも
よい、） （式中、Ｒ３およびＲ３は水素、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアリール基。
複素環残基を表わす、またＲ３およびＲ８は共同で環を
形成していても良い、Ｒ３は水素、置換または無置換の
アルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換ま
たは無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換
のアルキルメルカプト基、ハロゲン原子、置換または無
置換のアリール基で表わし、ｎは１〜４の整数を表わす
、ｎが２〜４の場合、Ｒ１は同一または異なったものま
いずれでもよい、） ■ （式中、Ｘはアニオン官能基を表わす、）次に、本発明
のビスアゾ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの
具体例によって制限されるものではない。
形成していても良い、Ｒ３は水素、置換または無置換の
アルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換ま
たは無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換
のアルキルメルカプト基、ハロゲン原子、置換または無
置換のアリール基で表わし、ｎは１〜４の整数を表わす
、ｎが２〜４の場合、Ｒ１は同一または異なったものま
いずれでもよい、） ■ （式中、Ｘはアニオン官能基を表わす、）次に、本発明
のビスアゾ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの
具体例によって制限されるものではない。
本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされるビスアゾ化合物は、
一般式〔ＩＩ〕で表わされる２−ヒドロキシ−３−カル
バモイルベンゾ（ａ）カルバゾール誘導体に、一般式（
ＩＩＩ）で表わされるジアゾニウム塩化合物とをカップ
リング反応させることによって得ることが出来る。実際
には、この反応は１例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）や、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）な
どの有機溶媒にジアゾニウム塩化合物およびカップラー
を混合溶解しておき、これを約−１０℃ないし４０℃に
て酢酸ナトリウム水溶液などのアルカリ水溶液を滴下す
ることにより行なわれる。この反応はおよそ５分ないし
３時間で完結する０反応終了後、析出している結晶を濾
取し適切な方法により精１１（例えば、水あるいは／お
よび有機溶剤による洗浄、再結晶法など）することによ
り上記ビスアゾ化合物の製造は完了する。
一般式〔ＩＩ〕で表わされる２−ヒドロキシ−３−カル
バモイルベンゾ（ａ）カルバゾール誘導体に、一般式（
ＩＩＩ）で表わされるジアゾニウム塩化合物とをカップ
リング反応させることによって得ることが出来る。実際
には、この反応は１例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）や、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）な
どの有機溶媒にジアゾニウム塩化合物およびカップラー
を混合溶解しておき、これを約−１０℃ないし４０℃に
て酢酸ナトリウム水溶液などのアルカリ水溶液を滴下す
ることにより行なわれる。この反応はおよそ５分ないし
３時間で完結する０反応終了後、析出している結晶を濾
取し適切な方法により精１１（例えば、水あるいは／お
よび有機溶剤による洗浄、再結晶法など）することによ
り上記ビスアゾ化合物の製造は完了する。
本発明のビスアゾ化合物は常温において有色の結晶であ
る。
る。
本発明のビスアゾ化合物は、上記の様に容易に製造する
ことが出来、また電子写真およびレーザープリンター用
感光体において有効な材料であることを明らかにするた
めに、以下に実施例および応用例を示すが本発明はもと
よりこれに限定されるものではない。
ことが出来、また電子写真およびレーザープリンター用
感光体において有効な材料であることを明らかにするた
めに、以下に実施例および応用例を示すが本発明はもと
よりこれに限定されるものではない。
実施例１
カルバゾール３，６−ビス（ジアゾニウム）ビス（テト
ラフルオロボレート）０．４９ｇ（０，００１２５モル
）及び２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイルベン
ゾ（ａ）カルバゾール０．８８ｇ（０，００２５モル）
を冷却したＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）７
５ｄに溶解し、これに酢酸ナトリウム０．４１ｇを水３
．５ｍに溶解した溶液を５〜ｌＯ℃の温度で約５分間に
わたり滴下した０滴下終了後、冷却をやめ、更に室温で
約２時間撹拌し、生成した沈殿を濾取し、８０℃に加熱
したＤ阿Ｆ１００−で３回洗浄し１次に水１００ｍで２
回洗浄した。
ラフルオロボレート）０．４９ｇ（０，００１２５モル
）及び２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイルベン
ゾ（ａ）カルバゾール０．８８ｇ（０，００２５モル）
を冷却したＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）７
５ｄに溶解し、これに酢酸ナトリウム０．４１ｇを水３
．５ｍに溶解した溶液を５〜ｌＯ℃の温度で約５分間に
わたり滴下した０滴下終了後、冷却をやめ、更に室温で
約２時間撹拌し、生成した沈殿を濾取し、８０℃に加熱
したＤ阿Ｆ１００−で３回洗浄し１次に水１００ｍで２
回洗浄した。
８０℃で２ｍｇｚＨｇの減圧下に乾燥して、化合物Ｎａ
ｌのビスアゾ顔料を得た。収率及び分析結果を表１に示
した。
ｌのビスアゾ顔料を得た。収率及び分析結果を表１に示
した。
実施例２〜３０
実施例１で用いたカップリング成分である２−ヒドロキ
シ−３−フェニルカルバモイルベンゾ［ａ）カルバゾー
ルのかわりに、表１に示した化合物馳のビスアゾ顔料に
対応するカップリング成分を用いた以外は実施例１と全
く同様にして、表１に示したビスアゾ顔料を得た。
シ−３−フェニルカルバモイルベンゾ［ａ）カルバゾー
ルのかわりに、表１に示した化合物馳のビスアゾ顔料に
対応するカップリング成分を用いた以外は実施例１と全
く同様にして、表１に示したビスアゾ顔料を得た。
表１−１
農１−２
表１−４
応用例
実施例１７で得られた化合物＆８１のビスアゾ顔料７６
重量部、 ポリエステル樹脂 （東洋紡績社製パイ ロン２００）のテトラヒドロフラン溶液（固形分濃度２
％） １２６０重量部、及びテトラヒドロフラン３７０
０重量部をアルミニウム蒸着したポリエステルベース（
導電性支持体）のアルミニウム面上にドクターブレード
を用いて塗布し、自然乾燥して、厚さ約１μの電荷発生
層を形成した。
重量部、 ポリエステル樹脂 （東洋紡績社製パイ ロン２００）のテトラヒドロフラン溶液（固形分濃度２
％） １２６０重量部、及びテトラヒドロフラン３７０
０重量部をアルミニウム蒸着したポリエステルベース（
導電性支持体）のアルミニウム面上にドクターブレード
を用いて塗布し、自然乾燥して、厚さ約１μの電荷発生
層を形成した。
この電荷発生層に、電荷搬送物質としてα−フェニル−
４’−Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノスチルベン２重量部、
ポリカーボネート樹脂（金入社製パンライトに−１３０
０） ２重量部及びテトラヒドロフラン１６重量部を混
合溶解した溶液をドクターブレードを用いて塗布し、８
０℃で２分間、ついで１０５℃で５分間乾燥して厚さ約
２０−の電荷搬送層を形成して積層型の感光体を作成し
た。
４’−Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノスチルベン２重量部、
ポリカーボネート樹脂（金入社製パンライトに−１３０
０） ２重量部及びテトラヒドロフラン１６重量部を混
合溶解した溶液をドクターブレードを用いて塗布し、８
０℃で２分間、ついで１０５℃で５分間乾燥して厚さ約
２０−の電荷搬送層を形成して積層型の感光体を作成し
た。
この感光体について、次に示す手順により、その７００
ｎｍにおける感度を測定した。
ｎｍにおける感度を測定した。
まず、感光体を暗所でコロナ放電によりその表面電位を
−６００ボルト以上に帯電し、その表面電位を一６００
ボルトになるまで暗減衰させ、表面電位が一６００ボル
トになったときにモノクロメータ−を用いて分光した感
光体面での強度がｌμＶ／ａＪの７０ｏｎ鵬の単色光を
感光体に照射し、その表面電位が一３００Ｖに減衰する
までの時間（秒）を求め、半減露光量（μｌｌ’ｓａｃ
／ａＪ）を算出したところ０．１４ｕＪ／ｌｉと高感度
であった。
−６００ボルト以上に帯電し、その表面電位を一６００
ボルトになるまで暗減衰させ、表面電位が一６００ボル
トになったときにモノクロメータ−を用いて分光した感
光体面での強度がｌμＶ／ａＪの７０ｏｎ鵬の単色光を
感光体に照射し、その表面電位が一３００Ｖに減衰する
までの時間（秒）を求め、半減露光量（μｌｌ’ｓａｃ
／ａＪ）を算出したところ０．１４ｕＪ／ｌｉと高感度
であった。
このことから明らかなように、本発明のビスアゾ化合物
を含む電子写真感光体は、きわめて高感度であることが
判る。
を含む電子写真感光体は、きわめて高感度であることが
判る。
以上の説明から判るように本発明のビスアゾ顔料は容易
に製造できる上、応用例からも明らかなように高度複写
機用、レーザープリンター用等として実用的な高感度な
電子写真感光体用の電荷発生顔料としてきわめて有用で
ある。
に製造できる上、応用例からも明らかなように高度複写
機用、レーザープリンター用等として実用的な高感度な
電子写真感光体用の電荷発生顔料としてきわめて有用で
ある。
第１−３０図は夫々実施例１−３０で作成した本発明に
係るビスアゾ化合物の赤外線吸収スペクトルである。
係るビスアゾ化合物の赤外線吸収スペクトルである。
Claims (2)
- （１）一般式（ I ）で表わされるビスアゾ化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 （式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は水素、置換または無置換
のアルキル基、置換また無置換のアリール基、複素環残
基を表わす、またＲ＿１およびＲ＿２は共同で環を形成
していても良い。Ｒ＿３は水素、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換また
は無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換の
アルキルメルカプト基、ハロゲン原子、置換または無置
換のアリール基を表わし、ｎは１〜４の整数を表わす。 ｎが２〜４の場合、Ｒ＿３は同一または異なったものの
いずれでもよい。） - （２）一般式〔II〕で表わされる２−ヒドロキシ−３−
カルバモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾール誘導体と一般式
〔III〕で表わされるジアゾニウム塩化合物とを反応さ
せることを特徴とする前記一般式〔 I 〕で表わされる
ビスアゾ化合物の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 （式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は水素、置換または無置換
のアルキル基、置換または無置換のアリール基、複素環
残基を表わす。またＲ＿１およびＲ＿２は共同で環を形
成していても良い。Ｒ＿３は水素、置換または無置換の
アルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換ま
たは無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換
のアルキルメルカプト基、ハロゲン原子、置換または無
置換のアリール基で表わし、ｎは１〜４の整数を表わす
。ｎが２〜４の場合、Ｒ＿３は同一または異なったもの
まいずれでもよい。） ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 （式中、Ｘはアニオン官能基を表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1170516A JP2883933B2 (ja) | 1989-07-01 | 1989-07-01 | ビスアゾ化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1170516A JP2883933B2 (ja) | 1989-07-01 | 1989-07-01 | ビスアゾ化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0335062A true JPH0335062A (ja) | 1991-02-15 |
| JP2883933B2 JP2883933B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=15906393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1170516A Expired - Fee Related JP2883933B2 (ja) | 1989-07-01 | 1989-07-01 | ビスアゾ化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2883933B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100715590B1 (ko) * | 2006-07-05 | 2007-05-10 | 이철승 | 터널사고용 진입차단장치 |
| KR100847153B1 (ko) * | 2008-03-19 | 2008-07-18 | (주) 경화엔지니어링 | 도로 등 토목용터널 진입차단장치 |
| US7727045B2 (en) | 2003-09-12 | 2010-06-01 | Butterfly. Stroke. Inc. | Paper doll |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5395033A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-19 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive material for xerography |
-
1989
- 1989-07-01 JP JP1170516A patent/JP2883933B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5395033A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-19 | Ricoh Co Ltd | Photosensitive material for xerography |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7727045B2 (en) | 2003-09-12 | 2010-06-01 | Butterfly. Stroke. Inc. | Paper doll |
| KR100715590B1 (ko) * | 2006-07-05 | 2007-05-10 | 이철승 | 터널사고용 진입차단장치 |
| KR100847153B1 (ko) * | 2008-03-19 | 2008-07-18 | (주) 경화엔지니어링 | 도로 등 토목용터널 진입차단장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2883933B2 (ja) | 1999-04-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0532905A (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JPS6045664B2 (ja) | 新規なジスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JPH0335062A (ja) | ビスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JPH0158182B2 (ja) | ||
| JPS6252748B2 (ja) | ||
| JPH0335061A (ja) | ビスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JP2612169B2 (ja) | アゾ化合物およびその製造方法 | |
| JP2897133B2 (ja) | ビスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JP2502067B2 (ja) | ２−ヒドロキシ−３−カルバモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾ−ル誘導体及びその製造方法 | |
| JPS614765A (ja) | 新規なジスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JPH04170471A (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JPH0466905B2 (ja) | ||
| JP2906149B2 (ja) | ビスアゾ化合物及びその製造法 | |
| JPH0784565B2 (ja) | ジスアゾ化合物 | |
| JPH06506241A (ja) | ポリケトメチン色素 | |
| JPH01250349A (ja) | ２−ヒドロキシ−３−カルバモイルベンゾ〔ａ〕カルバゾール誘導体及びその製造方法 | |
| JP2941928B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JPH032912B2 (ja) | ||
| JPS61231054A (ja) | ジスアゾ化合物 | |
| JPS62294655A (ja) | ２−ヒドロキシベンゾ〔ａ〕カルバゾ−ル−３−カルボン酸誘導体及びその製造方法 | |
| JPS6143662A (ja) | ジスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JPH04235964A (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JPH04261469A (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JPS6397667A (ja) | 新規なジスアゾ化合物およびその製造法 | |
| JPH04253776A (ja) | ビスアゾ化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |